「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

The fluid includes super pure water for use as an immersion liquid for the lithographic system.例文帳に追加

流体は、有利には、リソグラフィ装置に浸漬液として使用するための超純水を含む。 - 特許庁

To provide a production method of an immersion type membrane cartridge enhanced durability to aeration.例文帳に追加

曝気に対する耐久性を高めるた浸漬型膜カートリッジの製造方法を提供する。 - 特許庁

PLASMA IMMERSION ION IMPLANTATION IN HIGHLY UNIFORM CHAMBER SEASONING PROCESS FOR TOROIDAL SOURCE REACTOR例文帳に追加

トロイダルソースリアクタのための極めて均一なチャンバシーズニングプロセスにおけるプラズマ浸漬イオン注入 - 特許庁

The interferometer temperature detection system is configured to measure the temperature of the immersion fluid.例文帳に追加

干渉計温度検出システムは、液浸流体の温度を測定するように構成される。 - 特許庁

CONTINUOUS CASTING METHOD FOR EXTRALOW CARBON STEEL OR LOW CARBON STEEL USING GROOVED IMMERSION NOZZLE例文帳に追加

溝付浸漬ノズルを用いた極低炭素鋼又は低炭素鋼の連続鋳造方法 - 特許庁

To realize making of the good shape of a resist pattern obtained by a liquid immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。 - 特許庁

To provide a liquid immersion lithography system in which a liquid supply and collection system is simplified.例文帳に追加

液体の供給・回収システムを簡素化した液浸リソグラフィーシステムを提供する。 - 特許庁

To provide an immersion measuring probe having improved accuracy and reliability of measurement.例文帳に追加

測定の精度及び信頼性が向上された浸漬測定プローブを提供することである。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide an exposing device using an immersion method in which static electricity on a substrate can be suppressed.例文帳に追加

基板上の静電気を抑制できる液浸法を用いる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for cleaning the inside of a liquid immersion lithographic apparatus.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置の内部を洗浄するための方法と装置を提供すること。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE PROCESS AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE RESIST MATERIAL例文帳に追加

液浸露光プロセス用レジスト組成物、該レジスト材料を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD OF ADJUSTING TEMPERATURE OF SMALL FLOW AMOUNT LIQUID FOR ADJUSTING REFRACTIVE INDEX FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE例文帳に追加

液浸露光のための屈折率調整用小流量液体の温調方法 - 特許庁

The liquid immersion optical exposure apparatus is equipped with a supply 182 to supply the liquid to the liquid immersion space, a recovering portion 190 to recover the liquid from the liquid immersion space, and a control unit 194 including a detector 194a to detect the amount of liquid recovered from the space.例文帳に追加

液浸露光装置は、液浸空間に液体を供給する供給部１８２と、液浸空間から液体を回収する回収部１９０と、空間からの液体の回収量を検知する検知部１９４ａを含む制御部１９４とを備える。 - 特許庁

Further, a counter electrode 5 and a reference electrode 6 are immersed into the electrolytic solution, and the immersion area of the counter electrode 5 is set so as to be smaller than that of the working electrodes 3 (set the immersion area of the working electrodes/the immersion area of the counter electrode to ≥100/1).例文帳に追加

また、前記電解液中に対電極５，参照電極６を浸漬し、前記対電極５の浸漬面積は作用電極３の浸漬面積よりも小さくなるように設定（作用電極浸漬面積／対電極浸漬面積を１００／１以上に設定）する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

When the immersion member 742 is used for a foreign matter removing device (gas lift pump 7) attached to the hot-dip metal plating apparatus, the foreign matter (dross D) hardly attaches or fixes to the immersion member 742 and, therefore, the exchange frequency of the immersion member 742 can be reduced.例文帳に追加

この浸漬部材７４２を溶融金属めっき装置１に付設される異物除去装置（ガスリフトポンプ７）に用いると、浸漬部材７４２に対する異物（ドロスＤ）の付着や固着が起こり難くなるので、浸漬部材７４２の交換頻度を少なくすることができる。 - 特許庁

The environmental system includes: a fluid barrier positioned near the device; and a liquid immersion system that flows out the immersion fluid filling the gap and collects the immersion fluid directly existing between either the device or the device stage, and the fluid barrier.例文帳に追加

環境システムは、デバイスの近傍に位置付けられている流体バリアと、ギャップを満たす液浸流体を送出し、デバイス及びデバイスステージの少なくとも一方と流体バリアとの間に直接に存在する液浸流体を回収する液浸流体システムとを備える。 - 特許庁

Further, this apparatus is constituted so as to dip the immersion tubes 21, 22 into the molten metal 8 in the ladle 3, introduce the molten metal 8 into the inner part of the degassing vessel 3 from one side of the immersion tube 21 and return back the molten metal into the ladle 3 from the other side of the immersion tube 22 after degassing.例文帳に追加

浸漬管２１，２２を取鍋３内の金属溶湯８に浸漬して一方の浸漬管２１から金属溶湯８を脱ガス槽１０内部に導入して脱ガスした後他方の浸漬管２２から取鍋３に戻すよう構成された真空脱ガス装置である。 - 特許庁

To provide a projection optical system in which a liquid in a liquid immersion region can be prevented from leaking to the outside of the liquid immersion region when the liquid immersion region is formed in a space of a light emitting surface side of an optical element, and to provide an exposure apparatus and a method of manufacturing a device.例文帳に追加

光学素子の光射出面側の空間に液浸領域が形成された際に、該液浸領域内の液体が液浸領域外に漏出することを抑制できる投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of cleaning an immersion lithography apparatus includes the steps of: placing a dummy wafer DW on a stage 611 of the immersion lithography apparatus; and moving the stage 611 while supplying an immersion liquid 605 between the dummy wafer DW and a projection lens 604.例文帳に追加

本発明の液浸露光装置の洗浄方法は、ダミーウェハＤＷを液浸露光装置のステージ６１１に戴置するステップと、ダミーウェハＤＷと投影レンズ６０４との間に液浸液６０５を供給しつつステージ６１１を移動させるステップと、を含む。 - 特許庁

The static contact angle of water on the surface of this immersion membrane is ≤30°, the surface zeta potential of this immersion membrane at pH7 is ≥-15 mV and ≤5 mV and the rate of fine particles having 0.9 μm average particle size to be removed by this immersion membrane is ≥90%.例文帳に追加

膜表面の水の静的接触角が３０度以下であり、ｐＨ７における表面ゼータ電位が−１５ｍＶ以上５ｍＶ以下の範囲内であり、かつ、平均粒径０．９μｍの微粒子の排除率が９０％以上である浸漬膜を用いる。 - 特許庁

Here, a voltage-generating device applies a potential difference to an object (for example, an electrode) that contacts an immersion liquid, and the air bubbles and/or particles in the immersion liquid are attracted or repelled from the object, because of the kinetic potential on the surface of air bubble in the immersion liquid.例文帳に追加

そこで、電圧発生装置が浸漬液と接触している対象物（例えば電極）に電位差を印加し、浸漬液中の気泡表面の運動電位によって、浸漬液中の気泡及び／又は粒子が対象物から引き寄せられる、又ははじかれる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for liquid immersion lithography excellent in solubility of resist materials, a resist pattern forming method using the resist composition for liquid immersion lithography, and a fluorine-containing resin useful as an additive for use in the resist composition for liquid immersion lithography.例文帳に追加

レジスト材料の溶解性に優れた液浸露光用レジスト組成物、該液浸露光用レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法および当該液浸露光用レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素化合物を提供すること。 - 特許庁

In this biological treatment apparatus wherein the immersion membrane 6 is arranged in the aerobic digestion tank 5 for biologically treating excess sludge, an ejector 8 is provided as the air diffusion means for performing air diffusion with respect to the immersion membrane 6 and the vibration means for vibrating the surface of the immersion membrane 6.例文帳に追加

余剰汚泥を生物処理するための好気性消化槽５内に浸漬膜６を配置した生物処理装置において、浸漬膜６に対して散気を行う散気手段及び浸漬膜６の膜面を振動させる振動手段としてエゼクタ８を設けた。 - 特許庁

To provide an excellent resist composition for liquid immersion exposure free from deterioration in the depth of a focus (DOF) and in profile even when applied to liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光に適用した場合でもＤＯＦ及びプロファイルの劣化が無く優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In an immersion lithography apparatus in which an immersion liquid is supplied to a local space, the shape of a top view of the local space is substantially a polygon which is substantially parallel to a substrate.例文帳に追加

局部空間に液浸液が供給される液浸リソグラフィ装置において、局部空間の平面図の形状が実質的に基板と平行の実質的に多角形である。 - 特許庁

To restrain the erosion or the fall-down of a refractory at a lower part of an immersion tube or the crack of an outer peripheral monolithic refractory causing to the pick-up of nitrogen, in the immersion tube for vacuum-degassing apparatus.例文帳に追加

真空脱ガス装置用浸漬管において、浸漬管下部の耐火物の溶損・脱落あるいは窒素ピックアップの原因となる外周不定形耐火物の亀裂を抑制すること。 - 特許庁

This seed rice-treating apparatus is characterized by charging seed rice into the vertical immersion basket 15 capable of being utilized as the seed rice container and then immersing the immersion basket 15 in a hot water tank 7 to sterilize the seed rice with the hot water.例文帳に追加

種籾コンテナとして利用可能な堅型の浸漬カゴ１５に種籾を入れ、温湯槽７に前記浸漬カゴ１５を入れて種籾を温湯消毒することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an immersion nozzle wherein flow velocities for the intended direction can be obtained in a long distance as much as possible by suppressing the attenuation of molten steel flow from a spouting hole of the immersion nozzle.例文帳に追加

浸漬ノズルの吐出孔から流出する溶鋼流の減衰を抑制して、できるだけ長い距離に亘って意図した方向の流速を得ることのできる浸漬ノズルを提供すること。 - 特許庁

In a liquid immersion lithography equipment in which liquid immersion liquid is supplied to local space, the profile of the plan view of the local space is substantially parallel to a substrate and is substantially a polygon.例文帳に追加

局部空間に液浸液が供給される液浸リソグラフィ装置において、局部空間の平面図の形状が実質的に基板と平行の実質的に多角形である。 - 特許庁

A member is provided to prevent immersion liquid ingress to a gap between components or to adhere to at least one component to provide a surface to a feature of an immersion system.例文帳に追加

コンポーネント間のギャップへの液浸液の侵入を防止し、又は少なくとも１つのコンポーネントに付着して液浸システムのフィーチャに表面を提供する部材が提供される。 - 特許庁

The liquid immersion system is used for liquid immersion exposure wherein the substrate is exposed to exposure light through an optical member and liquid, and the optical path of the exposure light between the optical member and substrate is filled with the liquid.例文帳に追加

液浸システムは、光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光で用いられ、光学部材と基板との間の露光光の光路を液体で満たす。 - 特許庁

Interval-detecting laser beam L1 and L2 having respective incident angles θ1 and θ2 are also incident on the solid immersion lens 32 and are converged at the center position of the bottom surface of the solid immersion lens 32.例文帳に追加

また、固浸レンズ３２には、入射角度θ１，θ２の間隔検出用となるレーザ光Ｌ１，Ｌ２が入射しており、固浸レンズ３２の底面中心位置に集光されている。 - 特許庁

The cleaning device EU continuously attains the washing operation consisting of immersion washing, steam washing and vacuum drying with immersion washing tanks 1a-1c and a steam washing tank 2.例文帳に追加

浸漬洗浄槽１ａ〜１ｃと蒸気洗浄槽２とによって、浸漬洗浄と蒸気洗浄と真空乾燥とからなる洗浄動作を連続的に実現する洗浄装置ＥＵである。 - 特許庁

To provide: a new fluorine-containing copolymer useful as an additive for a resist composition for liquid immersion lithography; a resist composition for liquid immersion lithography containing the same; and a resist pattern forming method.例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素共重合体、それを含有する液浸露光用レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A washing apparatus is provided with an immersion tank 7 to immerse a long strip rolled like a roll in a washing liquid for a prescribed duration and a washing tank 1 for washing the long strip after immersion.例文帳に追加

ロール状に巻いた長尺帯状体を洗浄液内に一定時間浸漬する浸漬槽７と、浸漬後の長尺帯状体を洗浄する洗浄槽１を備えている。 - 特許庁

To provide a method for producing an optical fiber preform including a core to which an immersion additive has been uniformly added in a radial direction thereof by a combination of an MCVD method and an immersion method.例文帳に追加

ＭＣＶＤ法＋液浸法で作製した光ファイバのコア部分において、コアの径方向に渡って液浸添加物が均一に添加された光ファイバ母材の製造方法の提供。 - 特許庁

An immersion lithographic projection apparatus having a megasonic transducer configured to clean a surface and a method of cleaning the immersion lithographic projection apparatus using megasonic waves through a liquid are disclosed.例文帳に追加

表面を洗浄するメガソニックトランスデューサを有する液浸リソグラフィ投影装置、及び液体を通じてメガソニック波を使用して液浸リソグラフィ投影装置を洗浄する方法が開示される。 - 特許庁

To provide a resist composition which can decrease elution of substances in a liquid immersion medium used in an immersion lithography process, and to provide a method for forming a resist pattern by using the resist composition.例文帳に追加

イマージョンリソグラフィー工程において用いられる液浸媒体中への物質溶出を低減できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The air intrusion into the molten steel 2 passing through the immersion refractory 8 of the immersion tube 7, is hindered with the Ar gas, and thus the low nitrogen steel can easily be produced by using the RH-degassing apparatus.例文帳に追加

浸漬管７の浸漬き耐火物８を経路として溶鋼２中に侵入する空気が、Arガスによって阻止され、ＲＨ脱ガスによる低窒素鋼の製造を容易とする。 - 特許庁

To reduce the number of exposure defects and improve exposure accuracy by preventing an increase in the number of particles of a liquid immersion auxiliary plate located around a substrate as a processing target in a liquid immersion lithography device.例文帳に追加

液浸露光装置において被処理基板の周囲に配置している液浸補助板のパーティクル増加を防ぐことができ、露光欠陥の低減及び露光精度の向上をはかる。 - 特許庁

The liquid immersion member forms a liquid immersion space by holding a first liquid between the member and an object so that the optical path of an exposure light irradiated to the object is filled with the first liquid.例文帳に追加

液浸部材は、物体に照射される露光光の光路が第１液体で満たされるように、物体との間で第１液体を保持して液浸空間を形成する。 - 特許庁

To reduce effect of thermal expansion and thermal contraction in a liquid-immersion system using a supply system for supplying an immersion liquid to a substrate and/or a local area of a substrate table.例文帳に追加

基板および／または基板テーブルの局部領域に液浸流体を供給する供給システムを使用する液浸システムにおける熱膨張／熱収縮の影響を低減する - 特許庁