「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a continuous silicon immersion treatment furnace which can execute efficient silicon immersion treatment in high yield by stably supporting and sending a steel sheet in a furnace.例文帳に追加

本発明の目的は、鋼板を炉内で安定して支持および通板させることにより、歩留まりのよい効率的な浸珪処理を行うことができる連続浸珪処理炉を提供することにある。 - 特許庁

To provide an electrode of low volume resistivity in which spring back is suppressed when immersion in an electrolytic solution, and in which there is substantially no change in the volume resistivity before and after the immersion in the electrolytic solution.例文帳に追加

電解液に浸漬した際のスプリングバックを抑制し、電解液浸漬前後で実質的に体積抵抗率に変化のない、低体積抵抗率の電極を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition in which a defect, a scum and an elution ratio when liquid immersion exposure are improved and favorable for a liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The immersion pipe 70 is divided into an immersion-pipe upper tubular portion 70c, a skirt-like spread portion 70b and a skirt-like tubular portion 70a continuously provided from the lower end of the skirt-like spread portion 70b.例文帳に追加

浸漬管７０は、浸漬管上筒状部７０ｃと、スカート状拡がり部７０ｂと、スカート状拡がり部７０ｂの下端に連続したスカート筒状部７０ａと、に区分される。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition suitable to liquid immersion exposure, improved in defects, scums and a leaching ratio upon liquid immersion exposure, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photolithography method capable of well forming an immersion region when immersion-exposing an edge region of a substrate and making exposure while preventing a liquid from flowing out of a substrate stage.例文帳に追加

基板のエッジ領域を液浸露光する場合に良好に液浸領域を形成し、液体の基板ステージ外部への流出を抑えた状態で露光できる露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a continuous casting method by which an immersion nozzle can be prevented from breaking due to thermal stress occurring when a casting process is started, and to provide the immersion nozzle used for the continuous casting method.例文帳に追加

鋳造工程開始時に浸漬ノズルが熱応力により破損することを防止できる連続鋳造方法、および、この連続鋳造方法に使用される浸漬ノズルを提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for judging the injecting state of an immersion lance with which the usage rate of the immersion lance is improved, a load on an operator is reduced and also, the operation cost can be reduced.例文帳に追加

浸漬ランスの使用率を向上させ、オペレータの負担を軽減させるとともに、操業コストを低減させることができる浸漬ランス吹込み状態判定装置を提供する。 - 特許庁

To execute immersion exposure properly by preventing the occurrence of unevenness of coating in an outer peripheral end part of a wafer when spin-coating a coating film such as a resist or an immersion protection film on the wafer.例文帳に追加

ウエハ上にレジストや液浸保護膜等の塗布膜を回転塗布するときに、ウエハの外周端部に塗布むらが発生することを防止して、液浸露光を適正に実行可能にする。 - 特許庁

In viewing a semiconductor device 11, when detecting that the solid immersion lens 6 comes in contact with the semiconductor device 11, first, the solid immersion lens 6 is vibrated by the vibration generating part.例文帳に追加

半導体デバイス１１の観察を行う場合、まず固浸レンズ６が半導体デバイス１１に接触したことが検知されると、振動発生部により固浸レンズ６を振動させる。 - 特許庁

To provide a cleaning apparatus for cleaning a substrate or component of an immersion lithographic apparatus, and an immersion lithographic apparatus including an apparatus for cleaning one or more surfaces.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置の基板またはコンポーネントをクリーニングするためのクリーニング装置、および１つ以上の表面をクリーニングするための装置を含む液浸リソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

In the method of manufacturing the electrolytic capacitor cathode foil, an immersion treatment temperature is 25-70°C, and concentration of sodium molybdate in immersion treatment liquid is 0.05-0.25 wt.%.例文帳に追加

上記電解コンデンサ用陰極箔の製造方法において、浸漬処理温度が２５〜７０℃、浸漬処理液中のモリブデン酸ナトリウム濃度が０．０５〜０．２５ｗｔ％であることを特徴とする。 - 特許庁

In order to reduce damage on the metallization, concentration of palladium in a palladium immersion plating liquid being used in immersion plating for forming the catalytic metal layer and the etching amount of metal are optimized.例文帳に追加

また、金属配線のダメージを低減するために、触媒金属層を形成する置換めっきに用いるパラジウム置換めっき液のパラジウム濃度および金属のエッチング量を最適化する。 - 特許庁

To provide a continuous casting method for Cr based aluminum killed stainless steel using an immersion nozzle made of dolomite graphite comprising ≥20 mass% CaO wherein the erosion of the immersion nozzle is improved.例文帳に追加

ＣａＯを２０質量％以上含有するドロマイトグラファイト質の浸漬ノズルを用いたＣｒ系アルミキルドステンレス鋼の連続鋳造方法において、浸漬ノズルの溶損を改善する。 - 特許庁

The planar work is the object of the immersion processing, and the immersion processing is executed by feeding the planar work together with the cassette into a processing tank containing a processing liquid and then pulling it up.例文帳に追加

板状ワークは浸漬処理の対象物であり、処理液を入れた処理糟内に板状ワークがカセットごと投入され、その後引き上げられることにより浸漬処理が実行される。 - 特許庁

To provide semiconductor substrate processing technology capable of improving the performance of a solid immersion lens in the case of processing the semiconductor substrate and forming the solid immersion lens on the surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板を加工して、その表面に固浸レンズを形成する場合に、かかる固浸レンズの性能を向上することができる半導体基板の加工技術を提供する。 - 特許庁

The solution supply unit 40 has a container 41 for housing the immersion solution 21A, and a storage spraying nozzle 43 for spraying and storing the immersion solution 21A in the container 41.例文帳に追加

溶液供給部４０は、浸漬溶液２１Ａを収納する容器４１と、該容器４１に浸漬溶液２１Ａを噴霧して貯留する貯留用噴霧ノズル４３とを有している。 - 特許庁

ORGANIZATION METHOD AND DEVICE OF DATA ON IMMERSION QUANTITY IN CABLE WITH BUILD-IN OPTICAL FIBER AND TRANSMISSION LOSS OF OPTICAL FIBER, AND IMMERSION QUANTITY ESTIMATION METHOD OF CABLE WITH BUILD-IN OPTICAL FIBER例文帳に追加

光ファイバを内蔵するケーブルの浸水量と光ファイバの伝送損失とに関するデータの構築方法及び装置、光ファイバを内蔵するケーブルの浸水量推定方法 - 特許庁

To form a solid immersion lens into a shape which most efficiently makes incident light incident and to increase a margin of assembling accuracy by making an inclination margin between a lens and an object large in the solid immersion lens.例文帳に追加

ソリッドイマージョンレンズにおいて、入射光を最大に効率よく入射させる形状とし、またレンズと対象物との傾きマージンを大として、組み立て精度のマージンを大とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by a liquid immersion method by which follow-up property of a liquid for liquid immersion exposure along a lens for liquid immersion exposure can be improved without decreasing water-repelling property, and transparency to light at a wavelength of 193 nm or 157 nm can be improved.例文帳に追加

撥水性を損なうことなく、液浸露光用液体の液浸露光用のレンズへの追随性を向上させ、また１９３ｎｍや１５７ｎｍの波長の光に対する透明性なども改善することができる液浸法によるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A solid immersion lens 12 is disposed in the proximity of a recording film 2a of a magneto-optical disk 2, and an objective lens 13 to condense recording and reproducing light emitted by a light source onto the solid immersion lens 12 is disposed above the solid immersion lens 12 to constitute an optical head 10.例文帳に追加

光磁気ディスク２の記録膜２ａに近接する位置に固体浸レンズ１２を設け、この固体浸レンズ１２の上側には光源から射出される記録再生光を固体浸レンズ１２に集光させる対物レンズ１３を設けて光ヘッド１０を構成する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition for liquid immersion exposure superior in sensitivity and hence resolution, having a satisfactory pattern shape to be obtained, superior margin in focus depth, and a little amount of eluted substance into liquid immersion liquid that is brought into contact therewith during liquid immersion exposure.例文帳に追加

感度が良好であることにより解像度に優れ、得られるパターン形状が良好であり、更に焦点深度余裕に優れ、かつ液浸露光時に接触した液浸露光用液体への溶出物量が少ない液浸露光用の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the continuous casting method using the immersion nozzle, the horizontal cross sectional shape of the outer shape of the immersion nozzle 1A disposed below the molten metal surface in a mold or the outer shape of a straightening plate 1B fitted to the immersion nozzle is formed asymmetrically with respect to the center line 11 in the longitudinal direction of the mold.例文帳に追加

浸漬ノズルを用いた連続鋳造方法において、鋳型内湯面下における浸漬ノズル１Ａの外形または浸漬ノズルに取り付けた整流板１Ｂの外形の水平断面形状を鋳型長手方向の中心線11に対して非対称形状とした。 - 特許庁

This immersion exposure device includes: a stage for mounting a substrate to be subjected to exposure processing thereon; a projection lens located above the substrate; a shower head for supplying an immersion liquid between the substrate mounted on the stage and the projection lens; and a dummy wafer W1 mounted on the stage for cleaning the immersion liquid.例文帳に追加

液浸露光装置は、露光処理を行う基板を戴置するステージと、基板の上方に位置する投影レンズと、ステージに戴置された基板と投影レンズとの間に液浸液を供給するシャワーヘッドと、ステージに戴置され、液浸液を洗浄するダミーウェハＷ１と、を有する。 - 特許庁

This coil end protective painting method, including the immersion of the coil end in the protective paint (paint powder) 5 and the melting of the protective paint 5 by heat attached onto the coil end, provides a method of heating the immersion-side coil end 8 and melting the protective paint by heat transmitted to the immersion-side coil end.例文帳に追加

コイルエンドを保護塗料（塗装粉体）５に浸漬し、熱により保護塗料５を溶解しコイルエンドに付着させる、モータコイルのコイルエンド保護塗装方法であって、非浸漬側コイルエンド８を加熱し、浸漬側コイルエンドに伝えられた熱により保護塗料を溶解する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ultrasonic flaw detection method and an apparatus, having a high S/N ratio and capable of detecting micro defects at a surface layer part of a material to be inspected having a coarse surface, such as a slab via immersion testing (full immersion testing, partial immersion testing, and a water-column ultrasonic method).例文帳に追加

水浸法（全没水浸法、局部水浸法、水柱超音波法）を用いて、スラブのように表面が粗い検査材の表層部にある微小欠陥を高いＳ／Ｎで探傷することが可能な超音波探傷方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, excellent in depth of focus, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、焦点深度に優れ、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The system further has a stage for positioning a semiconductor wafer coated with a resist on the liquid immersion fluid holder, and a lens provided near the liquid immersion fluid holder and capable of being positioned to project an image on the semiconductor wafer coated with the resist through the liquid immersion fluid 126.例文帳に追加

さらにこのシステムは、レジストで被膜された半導体ウェハを液浸流体ホルダーに位置させるステージと、液浸流体ホルダーの近傍に在って、液浸流体126を通して、レジストで被膜された半導体ウェハ上に画像を投影するための位置決め可能なレンズとを有している。 - 特許庁

By carrying out a liquid immersion lithography process in such a state that a top barrier covering a resist film is formed by using the composition containing the tris(trimethylsiloxy)silyl group providing hydrophobicity, the dissolution of photoresist components into an immersion medium during exposure processing through the immersion medium can be prevented.例文帳に追加

疏水性特性を提供するトリス(トリメチルシロキシ)シリル基を含む組成物を使用してレジスト膜を覆うトップバリアーを形成した状態で液浸リソグラフィ工程を行うことによって、液浸媒体を通じた露光中にフォトレジスト成分が液浸媒体に溶解されることを防止できる。 - 特許庁

The immersion lithography system (252) collects the immersion fluid (248) directly existing between the fluid barrier (254) and the device (30), the fluid barrier (254) may comprise a discharge inlet arranged in the vicinity of the device (30), and the immersion lithography system (252) may comprise a low pressure source in communication with the discharge inlet.例文帳に追加

液浸流体システム(252)は、流体バリア(254)とデバイス(30)との間に直に存在する液浸流体(248)を回収し、流体バリア(254)はデバイス(30)の近傍に位置付けられる排出インレットを含むことができ、液浸流体システム(252)は排出インレットに連通する低圧源を含むことができる。 - 特許庁

To provide an ultrasonic flaw detection method and a device therefor, capable of detecting with a high S/N ratio, micro defects at a surface layer part of a material to be inspected having a coarse surface like a slab, by using immersion testing (full immersion testing, partial immersion testing, and a water-column ultrasonic method).例文帳に追加

水浸法（全没水浸法、局部水浸法、水柱超音波法）を用いて、スラブのように表面が粗い検査材の表層部にある微小欠陥を高いＳ／Ｎで探傷することが可能な超音波探傷方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a projection optical system in which a liquid in a liquid immersion region can be prevented from leaking to the outside of the liquid immersion region when the liquid immersion region is formed in a space of a light emitting surface side of an optical element, and to provide an exposure apparatus and a method of manufacturing a device.例文帳に追加

光学素子の光射出面側の空間に液浸領域が形成された際に、該液浸領域内の液体が光学素子の光入射面側の空間側に漏出することを抑制できる投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The immersion nozzle is heated before starting casting and/or during casting by using a block-type heating heater 1 arranged at the lower part of the metal-made immersion nozzle 2, and the molten metal is poured into the small cross sectional mold 3 having 5 to 50 mm mold thickness through the immersion nozzle.例文帳に追加

金属製浸漬ノズル２の下方部に設けたブロック型加熱ヒータ１を用いて、鋳造開始前および鋳造中に、または鋳造中に、前記浸漬ノズルを加熱し、この浸漬ノズルを介して鋳型厚みが５〜５０ｍｍである小断面鋳型３内に溶湯を注入する。 - 特許庁

To provide a refining apparatus for molten steel with which local breakage on the inner wall of an immersion tube is not developed and, even in the case of performing slag refining in the inner part of the immersion tube, a raw material for slag can efficiently be supplied into the refining reaction while restraining the exhaust of the slag to the outside of the immersion tube.例文帳に追加

浸漬管内壁に局部的な破損が生じることがなく、また、浸漬管内部でスラグ精錬を行う場合であってもスラグが浸漬管外へ排出されることを抑制してスラグ原料を効率よく精錬反応に供することができる溶鋼の精錬装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an immersion nozzle for continuous casting which is used for pouring molten steel into a casting mold and realizes an improvement in cast billet quality or stability of casting by suppressing erosion of the immersion nozzle and inhibiting the clogging or blocking of the nozzle caused by inclusions stuck to the immersion nozzle.例文帳に追加

鋳型内に溶鋼を注湯する浸漬ノズルの溶損を抑制し、さらに、浸漬ノズルに介在物が付着してノズル詰まりやノズル閉塞を生じるのを抑制して鋳片の品質向上や鋳造の安定化を図ることができる連続鋳造用浸漬ノズルを提供する。 - 特許庁

Therein, as an immersion height setting mechanism for setting an immersion height of the additive 16 in the water immersion region Aw by setting a pressure of air trapped in the air trap Aa, a cap 28 on which through-holes 28b serving as fluid aperture of an air-bleeding passage are formed is disposed.例文帳に追加

そして、空気溜まりＡａに溜まった空気の圧力を設定することによって浸水領域Ａｗでの添加剤１６の浸漬高さを設定する浸漬高さ設定機構として、エア抜き通路の流体絞りとなる貫通孔２８ｂが形成されたキャップ２８を設けた。 - 特許庁

The liquid immersion lithographic apparatus is provided to minimize bubbles generated or to prevent bubbles from being generated in the immersion liquid by reducing sizes or volumes of gaps between a target object and a substrate support table, and their upper structures, in the liquid immersion lithographic apparatus, and/or preparing a cover plate covering the gaps.例文帳に追加

液浸露光装置において、対象物と基板テーブル上の間隙の大きさまたは間隙領域を低減することにより、及び／または、間隙を覆い隠すカバープレートを備えることにより、液浸用液体中での気泡の形成を最小化または防止される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of allowing formation of a photoresist film that has a little amount of an eluted substance in a liquid for immersion exposure, with which the film is brought into contact during immersion exposure, that shows a large receding contact angle with the liquid for immersion exposure, and gives a fine resist pattern with high accuracy.例文帳に追加

液浸露光時に接触する液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、液浸露光用液体との後退接触角が大きい、微細なレジストパターンを高精度に形成することが可能なフォトレジスト膜を形成し得る感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an objective for a microscope in which not only a stable liquid immersion preventing function can be secured by a liquid immersion preventing member but also durability can be drastically improved and further the facilitation of handling in attaching/detaching the liquid immersion preventing member can be realized and workability in observation by the microscope can be enhanced.例文帳に追加

液浸防止部材による安定した液浸防止機能を確保できるのは勿論、その耐久性を飛躍的に向上させることができ、さらには、液浸防止部材の着脱時の扱いが容易で、顕微鏡観察の作業性も高めることもできる顕微鏡対物レンズを提供する。 - 特許庁

The apparatus has: a fluid handling system for supplying an immersion fluid between a projection system final component and a surface having a characteristic portion in a cross section thereof; and an adjustment fluid source for locally changing the composition of the immersion fluid such that at least surface tension of the immersion fluid locally decreases when the meniscus of the immersion fluid contacts the characteristic portion.例文帳に追加

この装置は、投影系の最終要素と断面に特徴部分を有する表面との間に液浸液を供給する流体ハンドリングシステムと、液浸液のメニスカスが前記特徴部分に接触するときに少なくとも、液浸液の表面張力に局所的減少を起こすよう液浸液の組成を局所的に変化させる調整流体源と、を有する。 - 特許庁

There is provided an active immersion liquid control system including: a first electrode capable of electrically connecting a surface at least periodically contacting to the immersion liquid to the immersion liquid to be controlled; a second electrode related to the surface, electrically insulated from the immersion liquid to be controlled; and a voltage control device for supplying a controlled voltage difference between the first electrode and the second electrode.例文帳に追加

少なくとも周期的に液浸液と接触している表面と、制御される液浸液と電気的に接続可能な第一電極、表面に関連し、制御される液浸液から電気的に絶縁される第二電極、及び第一電極と第二電極の間に制御された電圧差を提供する電圧制御装置を備える能動的液浸液制御システムと、を備える。 - 特許庁

To obtain a composition for sterilizing a medical instrument such as an endoscope, etc., by short-time immersion.例文帳に追加

短時間の浸漬により内視鏡等の医療用機器の殺菌が可能な組成物の提供。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR SIMPLY REMOVING SLAG STUCK TO IMMERSION TUBE IN RH VACUUM DEGASSING APPARATUS例文帳に追加

ＲＨ真空脱ガス装置浸漬管付着スラグの簡易除去装置および簡易除去方法 - 特許庁

An immersion water storage chamber 70 separated from a motor chamber 40 is formed at the bottom part of the motor chamber 40.例文帳に追加

モータ室４０の底部に、モータ室４０から仕切られた浸水溜まり室７０を形成する。 - 特許庁

To provide a liquid immersion system capable of suppressing remaining of liquid on a body such as a substrate.例文帳に追加

基板等の物体上における液体の残留を抑制できる液浸システムを提供する。 - 特許庁