Immersionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3841件
The solid immersion lens that the lens holder possesses is made movable in the optical axis L direction and as a result thereof, the solid immersion lens 6 can be easily and firmly attached to the observation object 11.例文帳に追加
そして、固浸レンズホルダが有する固浸レンズを光軸Ｌ方向に移動させることが可能であり、その結果として、固浸レンズ６を観察対象物１１に容易に密着させることができる。 - 特許庁
To provide a top coat material suitable for immersion lithography, the material which is inert to an immersion liquid but is removable in an aqueous base-containing developer solution and is free of drawbacks of conventional techniques.例文帳に追加
浸漬液中で不活性であるものの水性含塩基現像剤中で除去可能であり、しかも従来技術の欠点をもたない液浸リソグラフィでの使用に適したトップコート材料を提供すること。 - 特許庁
To provide a positive resist composition with improved line edge roughness due to normal exposure and immersion exposure and excellent followability to water during immersion exposure, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
本発明により、通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a megasonic ultrasonic wave immersion lithography apparatus for removing air bubbles from liquid during the process period of lithography exposure by adding sound wave vibrations to immersion liquid, and to provide its method.例文帳に追加
イマージョン液に音波振動を加えることにより、リソグラフィ露光の工程期間中に液体から気泡を除去するメガソニック超音波イマージョン式リソグラフィ装置およびその方法を提供する。 - 特許庁
The recycle control device adjusts the routing of the immersion fluid so as to be reused or regenerated in the fluid handling structure, based on the quality of the immersion fluid indicated by the metrology device.例文帳に追加
リサイクル制御デバイスは、メトロロジーデバイスによって示された液浸流体の品質に基づいて、流体取扱い構造で再使用される、あるいは再生されるように液浸流体のルーティングを調整する。 - 特許庁
To enable reduction of fault in liquid immersion exposure by a method wherein acid which is melted and came out during liquid immersion exposure is compensated or supplemented seemingly, and further, a series of tacts such as exposure, development and pattern formation is compacted.例文帳に追加
液浸露光時に溶け出た酸を、補うもしくは、見かけ上補填すること、また露光・現像・パターン形成の一連のタクトをコンパクトにすることで液浸露光での不具合を低減すること。 - 特許庁
A space between the lens of an aligner and the upper layer film 14 is filled with an immersion substance 15, and an exposing light is irradiated from the aligner to the resist film 13 through the immersion substance 15 and the upper layer film 14.例文帳に追加
そして、露光機のレンズと上層膜１４との間に液侵物質１５を充填し、露光機から液侵物質１５及び上層膜１４を通してレジスト膜１３に露光光を照射する。 - 特許庁
A liquid immersion region of a liquid LQ is formed between a projection optical system PL and a substrate P, so as to expose the substrate P via the projection optical system PL and the liquid LQ of the liquid immersion region.例文帳に追加
投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に液体ＬＱの液浸領域を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものである。 - 特許庁
The center of the base plate 2 includes a frame 21, and three screws 9 passed through the frame 21 are pressed into contact with the immersion detector D to fix the mounting jig 1 to the immersion detector D.例文帳に追加
ベース板２の中央に枠２１が設けられ、枠２１に挿通する３本のネジ９が浸水検出器Ｄに圧接することによって、取付治具１が浸水検出器Ｄに固定される。 - 特許庁
The adjusting method switches from the dry-type image-forming optical system for forming an image through a gas layer contacting the image surface to the immersion-type image-forming optical system for forming an image through an immersion layer contacting the image surface.例文帳に追加
像面に接する気体層を介して像を形成する乾燥型結像光学系を、像面に接する浸液層を介して像を形成する液浸型結像光学系に変える調整方法。 - 特許庁
To provide an immersion nozzle which provides flow rate of molten steel in an intended direction over a distance as long as possible by restraining attenuation of the molten steel flow flowing out from discharge holes of the immersion nozzle.例文帳に追加
浸漬ノズルの吐出孔から流出する溶鋼流の減衰を抑制して、できるだけ長い距離に亘って意図した方向の流速を得ることのできる浸漬ノズルを提供すること。 - 特許庁
A penetrating hole 10 formed in a longitudinal axis direction of a door element 5, and a water-immersion preventive device 14 preventing water-immersion to a female thread portion 11a of a female thread piece 11 and a male thread portion 12a of a valve rod 12 are provided.例文帳に追加
扉体５の縦軸方向に設けた貫通孔１０と雌ねじコマ１１の雌ねじ部１１ａおよび弁棒１２の雄ねじ部１２ａへの浸水を防止する浸水防止装置１４を設ける。 - 特許庁
The method for the continuous casting is constituted in such a manner that the molten steel is supplied into a mold by using the device for supplying the molten steel, while energizing between the internal face of the immersion nozzle 4 and the molten steel 8 passing through the inside of the immersion nozzle.例文帳に追加
この溶鋼供給装置を用い、浸漬ノズル４の内面とその内部を通過する溶鋼８との間に通電しながら溶鋼を鋳型に供給する連続鋳造方法。 - 特許庁
In addition, in the method for producing the water-resistant corrugated board, the corrugated board is immersed into the immersion liq. for the water-resistant corrugated board for a time being at most 10 min and the corrugated board taken out from the immersion liq. is dried by heating at 100-150°C.例文帳に追加
さらに、耐水段ボールの製造方法は、耐水段ボール用浸漬液に段ボールを１０分以下の時間浸漬し、該浸漬液から取り出した段ボールを１００〜１５０℃にて加熱乾燥させる。 - 特許庁
Therefore, the lubricant hardly adheres or transfers to a light exit surface of a solid immersion lens even when recording and reproducing are carried out utilizing a floating optical head mounting the solid immersion lens.例文帳に追加
これによりソリッドイマージョンレンズを搭載した浮上型光ヘッドを用いて記録再生を行なっても潤滑剤がソリッドイマージョンレンズの光射出面に付着または移着することが殆どなくなる。 - 特許庁
In the exposure apparatus, a liquid immersion region for liquid LQ is formed between a projection optical system PL and a substrate P and the substrate P is exposed via the projection optical system PL and the liquid LQ in the liquid immersion region.例文帳に追加
投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に液体ＬＱの液浸領域を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものである。 - 特許庁
The liquid for the liquid immersion lithography process containing a crown compound is used, so that the excellent resist-pattern is formed in the liquid immersion lithography process with the use of the UV light of not more than 200 nm.例文帳に追加
クラウン化合物を含有してなる液浸露光プロセス用液体を使用することにより、200nm以下の紫外光を用いた液浸露光プロセスにおいて、良好なレジストパターンを形成できる。 - 特許庁
The method for performing immersion lithography on a semiconductor substrate includes supplying a resist layer 14 on the surface of a semiconductor substrate 10 and exposing the resist layer 14 by using an immersion lithography exposure system 20.例文帳に追加
半導体基板上に液浸リソグラフィを行なう方法は、半導体基板１０の表面上にレジスト層１４を供給し、液浸リソグラフィ露光システム２０を使用して、このレジスト層１４を露光する。 - 特許庁
To provide non-self developing type and developing type norbornene polymers applicable to a liquid-immersion lithography process, a manufacturing methods for the polymers, a composition using the polymer, and the liquid-immersion lithography process using the composition.例文帳に追加
液浸リソグラフィプロセスに適用する非自己現像型及び現像型のノルボルネン系ポリマー、ポリマーの製造方法、ポリマーを使用する組成物、及び組成物を使用する液浸リソグラフィプロセスを提供する。 - 特許庁
Inert gas is filled in the refractory 4 segment within the thick part of the immersion pipe to shut off the infiltration of the nitrogen in the atmosphere air into the immersion pipe.例文帳に追加
上記配管２１に不活性ガスを供給して、その浸漬管３の管厚内部耐火物４部分に不活性ガスを充満させて、大気中の窒素が浸漬管３内部に侵入するのを遮断する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure which gives a good pattern profile, excels also in focal depth and ensures a small amount of materials eluting into water with which the composition contacts in liquid immersion exposure.例文帳に追加
得られるパターン形状が良好で、焦点深度にも優れ且つ液浸露光時に接触する水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an immersion liquid and pattern forming method using the same appropriate to reduce a resist top layer which is hardly dissolved, and resist pattern falling, as well as resist sensitivity variation that occurs during immersion exposure.例文帳に追加
液浸露光時に生じるレジスト表面難溶化層、レジストパターンの倒れ、更にはレジスト感度の変動を低減させるのに好適な液浸水及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an immersion aligner capable of reducing the precision deterioration when detecting a reference mark of a movable stage due to residues of impurities incorporated in immersion liquid itself, thereby reducing the deterioration of aligning precision.例文帳に追加
液浸液自体に含まれる不純物の残留物による可動ステージの基準マークを検出する際の精度劣化を低減し、位置合わせ精度の劣化を低減する液浸露光装置を提供する。 - 特許庁
In a liquid immersion exposure apparatus, a liquid immersion member is disposed at least on a part of the surrounding of a light path of exposure light passing through an optical member and a first liquid between the optical member and an object.例文帳に追加
液浸部材は、液浸露光装置内において、光学部材、及び光学部材と物体との間の第１液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される。 - 特許庁
The immersion sensor 1 includes both a sensor body 10 in which an optical fiber 2 for immersion detection is drawn and a wiring part 44 in which an optical fiber 42 for position detection is wired outside the sensor body 10.例文帳に追加
浸水検知用光ファイバ２が引き込まれるセンサ本体１０と、センサ本体１０の外部において位置検出用光ファイバ４２が配線される配線部４４とを備えた浸水センサ１。 - 特許庁
In the method of recycling liquid for liquid immersion exposure, the liquid for liquid immersion exposure used for exposure is brought into contact with heat-treated adsorbent for purification, and then is recycled for exposure.例文帳に追加
露光に用いた液浸型露光用液体を、加熱処理された吸着剤に接触させて精製した後、露光に再利用する液浸型露光用液体のリサイクル方法の提供による。 - 特許庁
EFFECT OF INCREASE OF ABSORPTION TO MAINTENANCE AND GROWTH OF PLANT BY IMMERSION OF LEAF ATTACHED TO PLANT IN SOLUTION, ADDITION OF SUBSTANCE FOR STIMULATING ABSORPTION OF SOLUTION AND EMPLOYMENT OF DOUBLE STRUCTURE CONTAINER FOR IMMERSION OF LEAF例文帳に追加
植物に着生したままの葉を溶液中に浸け、溶液吸収促進物質添加と葉を浸ける２重構造容器による吸収量の増大が植物の管理育成に及ぼす影響 - 特許庁
To provide a culture solution-saving type hydroponic tank with an immersion chamber, which enables the amount of culture solution charged into a cultivation tank to be kept at a minimum necessary for cultivation, and enabling immersion of plants for pest control.例文帳に追加
栽培槽に入れる培養液の量を栽培に必要な最小限に止め、しかも害虫駆除のための植物浸漬を行うことのできる浸漬室つき水耕栽培槽を提供する。 - 特許庁
The heating temperature of the hot water is set to a high level, taking consideration of thermal loss caused by immersion of the konjac seed tuber, etc., and the temperature control is switched after immersion to get the optimum temperature for hot water sterilization.例文帳に追加
この温湯の加熱温度をコンニャク種芋等の浸漬による熱損失分を考慮して高く設定し、浸漬後には温湯消毒の適正温度になるよう温度制御を切り替えて処理する。 - 特許庁
A liquid immersion member 3 is disposed, in a liquid immersion exposure apparatus, at least at some part of the periphery of a light path of exposure light that passes through an optical member and a liquid between the optical member and an object.例文帳に追加
液浸部材３は、液浸露光装置内において、光学部材、及び光学部材と物体との間の液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される。 - 特許庁
To provide an SIL (solid immersion lens) facilitating an assembly manufacturing operation and improving yield.例文帳に追加
組み立て製造作業が容易で歩留まりの向上が可能なＳＩＬ（ソリッドイマージョンレンズ）を提供する。 - 特許庁
To prevent an immersion pipe of a melting metal holding furnace from being corroded near liquid surface by a simple structure.例文帳に追加
溶融金属保持炉の浸管が液面付近で侵食され易いのを簡単な構造で防止する。 - 特許庁
A sheet manufacturing apparatus 2000 is provided with an immersion mechanism 1500, an attachment/detachment mechanism, and a chamber 1100.例文帳に追加
薄板製造装置２０００は、浸漬機構１５００と、脱着機構と、チャンバー１１００とを備えている。 - 特許庁
To provide a simplified microscopic observation apparatus capable of efficiently observing a substrate by an immersion method.例文帳に追加
液浸法による基板の観察を効率よく行える簡素な顕微鏡観察装置を提供する。 - 特許庁
To enhance stability of molten steel flow in a casting mold by improving swirling flow inside an immersion nozzle.例文帳に追加
浸漬ノズル内を流れる旋回流を改善し、鋳型内溶鋼流動の安定性を向上させる。 - 特許庁
The exposure apparatus includes: an optical member having an emission surface for emitting exposure light and formed with an immersion space on the emission surface side; and a movable member capable of forming an immersion space between the emission surface and itself, and having an upper surface including a first region of a hydrophilic property with respect to liquid in the immersion space.例文帳に追加
露光装置は、露光光を射出する射出面を有し、射出面側に液浸空間が形成される光学部材と、射出面との間に液浸空間を形成可能であり、液浸空間の液体に対して親液性の第１領域を含む上面を有する可動部材とを備える。 - 特許庁
To provide an inspection device supplying an electric power from an inspection object surface to which a solid immersion lens is opposed.例文帳に追加
固体浸レンズが対向する被検査対象面から給電可能な検査装置を提供すること。 - 特許庁
To provide an exposure method capable of exposing a substrate well when a substrate is exposed based on liquid immersion method.例文帳に追加
液浸法に基づいて基板を露光する際、基板を良好に露光できる露光方法を提供する。 - 特許庁
To provide an exposure apparatus capable of achieving satisfactory exposure processing with a liquid immersion region maintained in a desired state.例文帳に追加
液浸領域を所望状態に維持して良好に露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide lithography equipment that has improved focusing, for example, in immersion lithography equipment.例文帳に追加
例えば、浸漬リソグラフィ装置内での焦点合せが改善されたリソグラフィ投影装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a liquid immersion lithographic apparatus in which a member is disposed over the surfaces of a substrate and a substrate table.例文帳に追加
基板及び基板テーブルの表面上に部材が設けられた液浸リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of preventing immersion exposure liquid from relatively deeply entering under a substrate.例文帳に追加
液浸露光用の液体が基板の下に比較的深く侵入すること防止する方法を提供する。 - 特許庁
To improve resolution in the case of imaging internal flaws, using a method of C-scan immersion ultrasound flaw detection.例文帳に追加
水浸Ｃスキャン超音波探傷による内部欠陥の映像化における分解能を向上させる。 - 特許庁
The immersion lithography method includes: a step of forming a resist on a substrate; a step of exposing the resist in a fluid in an immersion lithography system; a step of baking the resist so that the amount of the fluid that diffuses the quencher in the resist in immersion lithography is confined to 5×10^-13 mol/cm^2; and a step of developing the exposed resist.例文帳に追加
液浸リソグラフィ方法は、基板上にレジストを形成する工程と、液浸リソグラフィシステムの流体内でレジストを露光する工程と、レジストをベーキングし、レジスト内にあるクエンチャーを液浸リソグラフィに拡散させる流体量を５×１０−１３モル／ｃｍ２にする工程と、露光後のレジストを現像する工程とを含む。 - 特許庁
For film thickness of a test pattern region of the dummy board, the relation between immersion time and film reducing amount is plotted.例文帳に追加
ダミー基板のテストパターン領域の膜厚について、浸漬時間と膜減り量の関係をプロットする。 - 特許庁
To narrow the dead zone of a local immersion-type ultrasonic probe and to detect defects near a surface.例文帳に追加
局部水浸型超音波探触子の不感帯を狭くして、表面近傍の欠陥を検出する。 - 特許庁
When the immersion tube 2 is exchanged, after accommodating the exchanging objective immersion tube 2 into one of the accommodating part 21 by descending the supporting arm 13, the accommodating frame table 20 is turned at 180° by ascending the supporting arm 13 and the new immersion tube 2 is taken out from the other accommodating part 21 by ascending the supporting arm 13.例文帳に追加
浸漬管２の交換の際には、支持アーム１３を降下させて一の収容部２１に交換対象浸漬管２を収容した後、支持アーム１３を上昇させて収容架台２０を１８０度回動させ、支持アーム１３を昇降させて他の収容部２１から新たな浸漬管２を取り出す。 - 特許庁
DEVICE FOR CONTINUOUSLY PREPARING SALT WATER AND SALT IMMERSION TREATING DEVICE USING THE SAME AND DESALTING DEVICE例文帳に追加
食塩水の連続製造装置、並びにこれを用いた食塩漬け込み処理装置及び脱塩装置 - 特許庁
To provide a resin making a resist film surface well hydrophobic in patterning by immersion exposure, making an immersion liquid following property well, at the same time, prohibiting a developed acid from elution to immersion liquid and showing an effect for suppressing a development defect, and to provide a production method for the above and a positive-type resist composition containing the resin.例文帳に追加
液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、液浸液への発生酸の溶出を防止し、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
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