Immersionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3841件
To overcome such a problem with a conventional construction method as an inflow of sediment between an outer peripheral surface of a caisson and a sheet, reduce friction with peripheral ground, and make immersion of the caisson smooth.例文帳に追加
従来工法の問題であるケーソンの外周面とシートとの間への土砂の流入を防ぎ周辺地盤との摩擦を低減し、ケーソンの沈設を円滑にする。 - 特許庁
To provide a method for starting a casting which can stably produce a continuously cast slab excellent in the quality by preventing the development of magnesium vapor in an immersion nozzle.例文帳に追加
浸漬ノズル内でのマグネシウムのベーパーの発生を防止し、品質の優れた連続鋳造鋳片を安定して製造することが可能な鋳造開始方法を提供する。 - 特許庁
The gas suction ejector 16 produces a sucking force through spouting of the cleaning solution on pressure feeding of the cleaning solution in the immersion cleaning chamber 2 with a pump 14.例文帳に追加
気体吸引エジェクタ16は、浸漬洗浄室2の洗浄液をポンプ14により圧送する際の洗浄液の噴出に伴って吸引力を発生させる。 - 特許庁
A thin film 12a made of a saturable absorbent (saturable absorbent film) is formed on the bottom of the solid immersion lens 12, and a protective film 12b is further formed on the lower face of the film 12a.例文帳に追加
固体浸レンズ12の底面には飽和性吸収体からなる薄膜(飽和性吸収体膜)12aを設け、更にその下面には保護膜12bを設ける。 - 特許庁
To provide an information recording and reproducing device increased in recording density to an extent expectable from NA(numerical aperture) even when an NA is raised by using a solid immersion lens.例文帳に追加
固体浸レンズを用い高NA化した場合でも、NAから期待される程度に記録密度を上昇させた情報記録再生装置及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide a device for accelerating of mushroom cultivation capable of efficiently supplying cold water to a bed log water immersion tank and warming bed log on a germination hot bed.例文帳に追加
ハダ木浸水槽への冷水の供給、および発芽温床でのハダ木の暖房を効率良く行うことのできる椎茸栽培促進装置を提案すること。 - 特許庁
W/H≤0.6...(A), (W×H)/(D×D)≥0.8...(B), wherein, W: the horizontal width (mm) of the spouting hole, H: the vertical length (mm) of the spouting hole, D: the inner diameter (mm) of the immersion nozzle.例文帳に追加
W/H≦0.6 ・・(A)、(W×H)/(D×D)≧0.8 ・・(B)、 ここで、W:吐出孔の横幅(mm)、H:吐出孔の縦長さ(mm)、D:浸漬ノズルの内径(mm) - 特許庁
The press-in equipment 11 is equipped with a circular ring press-in frame 12 mounted on the immersion body 21 and a plurality of press-in jacks 13 provided on the press-in frame 12.例文帳に追加
圧入設備11は、沈設体21上に載せられる円環圧入枠12と、その圧入枠12上に設けられる複数の圧入ジャッキ13とを備える。 - 特許庁
To lower the frictional resistance of the surface of a cutting edge in the case of the immersion of a caisson, to reduce the adhesion and fixing of soil on the inside of the cutting edge and to decrease the penetration resistance of the cutting edge.例文帳に追加
ケーソン沈設時に、刃口表面の摩擦抵抗を減らし、刃口内側に土が付着、固着するのを減少させ、刃口貫入抵抗を減少させる。 - 特許庁
The immersion member is arranged in at least one part of the side part, and comprises a first collection opening for collecting at least part of the liquid between the outer circumferential surface and the side.例文帳に追加
液浸部材は、側部の少なくとも一部に配置され、外周面と側部との間の液体の少なくとも一部を回収可能な第1回収口を有する。 - 特許庁
To provide an exposure apparatus capable of precisely transferring a pattern while suppressing environmental variation even if a liquid flows out of a substrate when exposure processing is performed by a liquid immersion method.例文帳に追加
液浸法で露光処理する場合において基板の外側に液体が流出しても環境変動を抑えて精度良くパターン転写できる露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of machining an optical element for manufacturing a fine aperture having satisfactory accuracy in a reflection region and to provide a method of machining a solid immersion mirror.例文帳に追加
反射領域に精度の良い微小な開口を簡単に製造することができる光学素子の加工方法及び固浸ミラーの加工方法を提供する。 - 特許庁
To disclose a fluid handling structure configured to supply and confine an immersion liquid in a space demarcated between a projection system and a counter surface countered to the system itself.例文帳に追加
投影システムと自身に対向する対向表面の間に画定された空間に液浸液を供給し、閉じ込めるように構成された流体ハンドリング構造を開示する。 - 特許庁
Before the substrate is immersed into the conducting solution or after the substrate is immersed in the conducting solution or before and after the immersion into the conducting solution, the substrate is immersed into a sensitizing solution.例文帳に追加
基体を導電化溶液に浸漬する前、もしくは導電化溶液に浸漬した後、または導電化溶液への浸漬の前後に、感受性化溶液に基体を浸漬する。 - 特許庁
To provide systems and methods for making maintenance of an optical element of an immersion lithography apparatus easier and thereby improve the useful lifetime of the optical element.例文帳に追加
液浸リソグラフィ装置の光学素子の保守をより容易なものとし、それにより光学素子の耐用年限を向上させるためのシステム及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method with which the pH condition of an immersion process in the production of deinked pulp is neutralized, drainage load is lightened and ink is excellently released.例文帳に追加
本発明は脱インキパルプ製造における浸漬工程のpH条件を中性化して、排水負荷を軽減すると同時に良好にインキを剥離する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a system and method for facilitating maintenance of an optical element in an immersion lithography apparatus, thereby lengthening a service life of the optical element.例文帳に追加
液浸リソグラフィ装置の光学素子の保守をより容易なものとし、それにより光学素子の耐用年限を向上させるためのシステム及び方法を提供する。 - 特許庁
In this way, non-metallic inclusion of Al2O3, etc., as precipitate in the steel is reacted with the Ca in the molten steel and removed as slag and the clogging of the immersion nozzle, etc., can be restrained.例文帳に追加
これによって、鋼中析出物であるAl_2O_3等の非金属介在物が溶鋼中の[Ca]と反応してスラグとして除去され、浸漬ノズル等の閉塞を抑制できる。 - 特許庁
To provide an exposure device which can perform exposing treatment excellently by suppressing influence a device or a material of substrate perimeter is suffered by a leakage of a liquid forming oil immersion region.例文帳に追加
液浸領域を形成する液体の漏洩により基板周辺の装置・部材が受ける影響を抑え、良好に露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide an immersion nozzle for continuous casting and continuous casting method for steel which prevent alumina from adhering to the inside of a discharge hole and can restrain molten steel from drifting.例文帳に追加
吐出孔内部へのアルミナ付着を防止し、溶鋼偏流を抑制することができる、連続鋳造用浸漬ノズルおよび鋼の連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a resist composition or composition for upper-layer film formation for liquid immersion in which a fine pattern is formed without mixing of foreign matters.例文帳に追加
異物の混入が少なく、微細なパターンを形成することができるレジスト組成物又は液浸用上層膜形成用組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a curable liquid resin composition having quick curability and good storage stability and giving an optical fiber element having high immersion resistance in hot water.例文帳に追加
高い耐温水浸漬特性の光ファイバ素線が得られるとともに、高速硬化性に優れ、保存安定性も良好な液状硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To increase a feeling of immersion by representing the positional relation between a first-person point of view (for example, the position of a virtual camera in video contents) and a sound source by voice.例文帳に追加
一人称視点(例えば映像コンテンツにおける仮想カメラの位置)と音源の位置関係を音声的に表現することで没入感を上昇させる。 - 特許庁
An immersion bucket 4 to which a foodstuff is fed is provided with plural drain holes 12 and inverted from a horizontal position 47 into an inversion position 48 by an inverting means 9.例文帳に追加
食材が投入される浸漬バケット4は、複数の排水孔12が形成され、反転手段9によって水平位置47と反転位置48とにわたって反転される。 - 特許庁
In the continuous casting method in which molten steel is supplied into a mold from an immersion tube, the kind of steel contains 0.3-2.0 wt.% C, 0.15-3.5 wt.% Si and 0.0001-0.2 wt.% V, and casting speed is made to ≥1.0 m/min.例文帳に追加
浸漬管からモールド内に溶鋼を供給する連続鋳造方法において、鋼種はC:0.3〜2.0wt%、Si:0.15〜3.5wt%、V:0.0001〜0.2wt%を含み、鋳造速度を1.0m/min以上とする。 - 特許庁
To provide an apparatus and a method of reducing contamination of an immersion liquid in a lithographic apparatus when a closing surface is used to confine liquid in a liquid supply system.例文帳に追加
閉塞面を用いて液体を液体供給システムに閉じ込める際に、リソグラフィ装置内の浸漬液の汚染を低減させる装置および方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a nozzle cleaning device that cleans small nozzles one by one by combining immersion cleaning and injection cleaning and that surely removes solder particles or the like.例文帳に追加
浸漬洗浄および噴射洗浄を組み合わせて小型ノズルの洗浄を1つずつ行うことができ、ハンダ粒子等を確実に除去できるノズル洗浄装置を提供する。 - 特許庁
Temperature drop of the work W is suppressed between the solder detachment position on the primary nozzle 12 side of the work W and the solder immersion starting position on the secondary nozzle 13 side.例文帳に追加
ワークWの一次ノズル12側のはんだ離脱位置から二次ノズル13側のはんだ浸漬開始位置までの間でのワークWの温度の落ち込みを抑制する。 - 特許庁
A lithographic optical column structure is disclosed for performing immersion lithography, at least on a projection optical system and a wafer of an optical system inside different fluids of equal pressure.例文帳に追加
同一圧力の異なる流体内における、光学システムの少なくとも投影光学系とウェハに浸漬リソグラフィを実行するリソグラフィック光学カラム構造を開示する。 - 特許庁
To provide a lithographic projector and a device manufacturing method capable of reducing or avoiding the deterioration of a photoresist that exists in a liquid immersion part of the surface of a substrate.例文帳に追加
基板表面の液侵部分に存在するフォトレジストの劣化が低減され、あるいは回避されるリソグラフィック投影装置及びデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁
A lithography equipment comprises a liquid supply system LS that supplies an immersion liquid IML between a substrate and a down stream side lens DSL of a projection system PS of the lithography equipment.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、リソグラフィ装置の投影システムPSの下流側レンズDSLと基板との間に液浸液IMLを供給する液体供給システムLSを備える。 - 特許庁
In addition, provided is a water repellent liner prepared by immersion or coating waxes containing the volcanic glassy white clay on the surface of water repellent liner as the antiskid agent.例文帳に追加
さらに、ワックス類を含浸または塗工してなる撥水ライナーにおいて、該撥水ライナーの表層に火山ガラス質白土を防滑剤として含有する撥水ライナー。 - 特許庁
To provide a resin forming a resist pattern prevented from the occurrence of defects of a resist film in liquid-immersion exposure, and having excellent line edge roughness and top shape.例文帳に追加
液浸露光の際にレジスト膜の欠陥発生を抑制でき、さらにラインエッジラフネス及びトップ形状に優れたレジストパターンを形成できる樹脂を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for continuously casting metal by which the clogging of an immersion nozzle can stably be prevented and the occurrence of a defective product caused by the defect in a cast slab can be prevented.例文帳に追加
浸漬ノズルの閉塞を安定して防止するとともに、鋳片欠陥に起因する製品欠陥の発生を防止できる金属の連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a new material for microlithography, including compositions useful as a photoresist barrier layer and in immersion lithography and antireflective applications.例文帳に追加
フォトレジストバリヤー層として並びに液浸リソグラフィ及び反射防止用途において有用である組成物をはじめとするミクロリソグラフィのための新規な材料を提供する。 - 特許庁
To accurately and certainly confirm the incidence position of ultrasonic waves in an ultrasonic flaw detection method or an ultrasonic flaw detection system by a water immersion method.例文帳に追加
本発明の目的は、水浸法による超音波探傷方法または超音波探傷システムにおいて、超音波の入射位置を正確かつ確実に確認することにある。 - 特許庁
To securely block the permeation of chemicals into a transducer even when an ultrasonic handpiece is subjected to washing with hot water containing alkaline or acidic chemicals or immersion cleaning in the hot water.例文帳に追加
超音波ハンドピースにアルカリ性若しくは酸性の薬品を含む熱水洗浄又は浸漬洗浄を行う場合でも、振動子への薬液の浸透を確実に遮断する。 - 特許庁
The vacuum-degassing treating apparatus 1 has two immersion tubes of a rising side immersion tube 8 for guiding molten steel 3 in a ladle 2 into the degassing tank, and a descending side immersion tube 9 for returning molten steel treated in the degassing tank from the degassing tank to the ladle below a degassing tank 5.例文帳に追加
本発明の真空脱ガス処理装置1は、脱ガス槽5の下部に、取鍋2内の溶鋼3を脱ガス槽内に導くための上昇側浸漬管8と、脱ガス槽で処理した溶鋼を脱ガス槽から取鍋へ戻すための下降側浸漬管9との2本の浸漬管を有する真空脱ガス処理装置において、前記上昇側浸漬管の内径(Du)と前記下降側浸漬管の内径(Dd)とが下記の(1)式の関係の範囲内で、下降側浸漬管の内径(Dd)が上昇側浸漬管の内径(Du)よりも大きいことを特徴とする。 - 特許庁
There is provided a method of adjusting speed and/or routing of a part of a movement plan of a table under an immersion fluid supply system of a lithographic apparatus.例文帳に追加
リソグラフィ装置の液浸流体供給システム下方でのテーブルの動作予定の一部分である速度及び経路の一方または双方を適応させる方法である。 - 特許庁
To provide a pattern forming method, capable of suppressing development defects by using a defect removing agent in formation of a fine resist pattern by liquid immersion exposure or the like.例文帳に追加
液浸露光法等により微細なレジストパターンを形成する際に、欠陥除去剤を用いることによって、現像欠陥を抑制できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an immersion-type display system, with which a feature in a peripheral environment and the position and the angle of the head of a user with respect to an object can be decided.例文帳に追加
周囲環境中の特徴及びオブジェクトに対するユーザーの頭部の位置及び角度を判定することを可能にする、没入型表示システムを提供すること。 - 特許庁
A recessed part 2c is formed on a major side 2b of the analysis plate 2, and a projection 2d, functioning as a solid immersion lens is formed to a bottom 2ca of the recessed part 2c.例文帳に追加
解析用プレート2の主面2bには凹部2cが設けられており、その凹部2cの底面2caには固浸レンズとして機能する凸部2dが設けられている。 - 特許庁
A recessed part 2c is formed to a major side 2b of the analysis plate 2, and a projection 2d, functioning as a solid immersion lens is formed to a bottom 2ca of the recessed part 2c.例文帳に追加
解析用プレート2の主面2bには凹部2cが設けられており、その凹部2cの底面2caには固浸レンズとして機能する凸部2dが設けらている。 - 特許庁
To provide: a polymer for a resist suitable for dry exposure, immersion exposure, and double patterning; a resist material including the same; and a pattern formation method using the resist material.例文帳に追加
ドライ露光、液浸露光、ダブルパターンニングに適するレジスト用重合体、それを含むレジスト材料、ならびにそのレジスト材料を用いるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a ridge between rice fields having a sufficient strength, which can be formed at a low cost and is capable of preventing the immersion or infusion of water and also provides the forming method therefor.例文帳に追加
十分な強度を有する畦畔を低コストで形成することができ、また、用水の浸入や浸出も防止可能な畦畔及びその形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a forming method of resist pattern wherein generation of defective profile, and the generation of dimension and profile difference in a wafer surface and/or in a shot can be controlled in an oil immersion exposing method.例文帳に追加
液浸露光法において、不良形状、ウェハ面内及び/或いはショット内における寸法・形状差を抑制し得るレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a protective tube of an immersion type heater of a burner combustion type for use in heating and temperature insulation of a molten metal bath in a holding furnace and the like of a nonferrous metal pressurizing/ casting apparatus.例文帳に追加
非鉄金属の加圧鋳造装置の保持炉等における溶融金属浴の加熱保温に使用されるバーナー燃焼方式の浸漬型ヒーターの保護管を提供する。 - 特許庁
The resist pattern is formed by using the liquid for a liquid immersion exposure process containing a straight chain methyl hydrogen silicone oil and an annular silicone oil at a wavelength range of 200 nm or smaller.例文帳に追加
200nm以下の波長範囲において、直鎖メチル水素シリコーンオイルまたは環状シリコーンオイルを含有する液浸露光プロセス用液体を用いてレジストパターンを形成する。 - 特許庁
In this case, one ionicity is selected from among four types of ionicity, that is, positive ionicity, negative ionicity, non-ionicity and amphoteric ionicity as surfactant to be used for the immersion liquid L as surfactant solution.例文帳に追加
ここで、界面活性剤溶液である液侵液Lに用いる界面活性剤としては、陽イオン性、陰イオン性、非イオン性、両性の4種のうち選択されたものである。 - 特許庁
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