「nm region」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

The substrate for the display device has: a plastic film of ≥70% mean light transmittance in a wavelength region of 400 to 700 nm and ≥100°C glass dislocation point; and a gas barrier layer containing an inorganic laminar compound and a polymer.例文帳に追加

波長４００〜７００ｎｍにおける平均光透過率が７０％以上、ガラス転移点が１００℃以上のプラスチックフィルムと、無機層状化合物及びポリマーを含むガスバリヤ層と、を有することを特徴とする表示装置用基板である。 - 特許庁

When a specific chemical structure of the sample 10 is detected by a PDA detector 34 when exposed to radiation (rays) at a region of 200-800 nm, a characteristic spectral peak is generated through an entrance slit 32 and a grating (diffraction grating) 33.例文帳に追加

２００〜８００ｎｍ領域における放射線（光線）にさらされたとき、サンプル１０の特定の化学構造はＰＤＡ検出器３４に検出されると、入口スリット３２およびグレーティング（回折格子）３３を通して特性スペクトルピークが生成される。 - 特許庁

The silver halide photographic emulsion contains ≥50% by number of silver halide grains each having ≥10 nm thickness of a short-range repulsion region measured by a force curve method using an atomic force microscope.例文帳に追加

原子間力顕微鏡を用いたフォースカーブ法によって測定される、近距離反発力領域の厚さが、１０ｎｍ以上であるハロゲン化銀粒子を粒子個数比率で５０％以上含有することを特徴とするハロゲン化銀写真乳剤である。 - 特許庁

To provide a method for evaluating the loss of a single mode optical fiber in a wavelength region of 1380 nm band and to provide a single mode optical fiber in which increase of loss due to diffusion of hydrogen can be reduced using that method for evaluating the loss.例文帳に追加

１３８０ｎｍ帯の波長領域でのシングルモード光ファイバの損失評価方法を提供し、この損失評価方法を用いて、水素の拡散による損失増加を低減することができるシングルモード光ファイバを提供する。 - 特許庁

To provide an absorbing material containing a compound having an absorptivity effective for a wavelength region (400-420 nm) around a purple-blue laser beam, and a protector and resin seal material for semiconductor substrates including the absorbing material.例文帳に追加

青紫色レーザー光付近の波長領域（４００〜４２０ｎｍ）に有効な吸収能を有する化合物を含有した青紫色レーザー光吸収材料、およびそれを用いた保護具、半導体基板用樹脂封止材を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma light source and a plasma light generating method that emit EUV light in an effective wavelength region (nearby 13.5 nm) by heating plasma up to desired excitation level and greatly reducing heat input caused by Joule heating.例文帳に追加

プラズマを所望の励起準位まで加熱して有効波長領域（１３．５ｎｍ近傍）のＥＵＶ光を発光させることができ、かつジュール加熱による入熱を大幅に低減することができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor for high definition printing which has high sensitivity characteristics in a wavelength region of 405±20 nm, excellent environmental stability and stable characteristics even in repeated use, and to provide an image forming apparatus having the photoreceptor.例文帳に追加

４０５±２０ｎｍの波長域で高い感度特性を有し、環境安定性に優れ、繰り返し使用時にも安定した特性を有する高精細印字用電子写真感光体をおよび該感光体を備える画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The carbon electrode containing a metal element has a content of the metal element, in a region where particles with a size of 5 nm or more containing the metal element are not observed in observation with a TEM, of 5 at% or more to carbon.例文帳に追加

金属元素を含有する炭素電極であって、ＴＥＭで観察したときに、金属元素を含む粒径５ｎｍ以上の粒子が観測されない領域における金属元素の含有量が、炭素に対して５ａｔ％以上である、炭素電極。 - 特許庁

The form containing the IR absorbent which has the specific absorption peak in the IR region and of which the transmission density at the maximal absorption wavelength in a solvent is 1.0 and simultaneously the transmission density at 420 nm is <0.03.例文帳に追加

赤外域に特定の吸収ピークを有し、且つ溶媒中の極大吸収波長における透過濃度が１．０であると同時に４２０ｎｍにおける透過濃度が０．０３未満である赤外吸収剤を含有することを特徴とする用紙。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor, in which decrease in distinctness of an image in repeated use is small, even when a latent image is formed using a laser light in the wavelength region of 380-500 nm, in an image forming apparatus using a laser as a light source.例文帳に追加

レーザーを光源として用いる画像形成装置において３８０〜５００ｎｍの波長域のレーザー光を用いて潜像形成を行った場合でも、繰り返し使用時の画像の鮮明度の低下が小さい電子写真感光体を提供する。 - 特許庁

To provide a wire grid polarizing plate which has fine irregular grids having a pitch of 150 nm or less, has no constitutional restriction, moreover, exhibits an excellent polarization degree over the wide band of visible light region and can protect the fine irregular grids.例文帳に追加

１５０ｎｍ以下のピッチの微細凹凸格子を有し、構成上の制約がなく、しかも可視光領域の広帯域にわたって優れた偏光度を発揮すると共に、微細凹凸格子を保護することができるワイヤグリッド偏光板を提供すること。 - 特許庁

After a step of forming a gate electrode 3 of a MOS transistor, a silicon oxide film 2 having a film thickness of 400 nm or more is formed on the whole surface of a wafer, and ion implantation 6 is performed through the silicon oxide film 2 to form an offset drain region.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタのゲート電極３形成工程後に、膜厚が４００ｎｍ以上のシリコン酸化膜２をウェハ全面に形成し、シリコン酸化膜２上からイオン注入６をすることによりオフセットドレイン領域を形成する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming a fine pattern of about 0.35 μm in photolithography using i-line (365 nm), excel lent in DOF characteristics in such an ultrafine region and having attained high sensitivity.例文帳に追加

ｉ線（３６５ｎｍ）を用いたホトリソグラフィ技術において、０．３５μｍ程度の微細なパターン形成が可能で、そのような超微細な領域においてＤＯＦ特性に優れ、かつ高感度化が達成されたポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The coating composition contains a pigment having a color developing compound present on the surfaces of base particles having light reflecting properties and a binder, and has a light reflectance of a formed coating film of ≥10% in the region of 800-1,200 nm.例文帳に追加

光反射性を有する基体粒子表面に発色性化合物が存在する顔料と、結合剤を含有する塗料組成物であり、形成塗膜の光反射率が８００から１２００ｎｍの領域で１０％以上とする。 - 特許庁

To obtain a cosmetic capable of hiding color unevenness such as dermal stains or ephelides on the bare skin and increasing a recess of a spectrum in a wavelength region of 500-620 nm in a spectral reflection spectrum in order to impart a healthy skin color without dullness to the bare skin.例文帳に追加

素肌のシミ、ソバカス等の色むらを隠蔽すると同時に、くすみのない健康的な肌色を素肌に付与するべく、分光反射スペクトルにおいて500 〜 620nmの波長領域におけるスペクトルの窪みを大きくする化粧料を提供すること。 - 特許庁

To provide a hydrophilic low reflection member having high light transmittance in a wide region of 400-1,200 nm, strong adhesive strength to a base material, excellent weather resistance, hydrophilicity, antifouling property and antistatic function and inexpensive.例文帳に追加

４００〜１２００ｎｍの幅広い領域で高い光透過率を有し、基材との接着強度が強く、耐候性に優れ、親水性で防汚性がよく、帯電防止機能を有し、しかもコスト的に安価な親水性低反射部材を提供する。 - 特許庁

To provide an optical device structure that a change of the lapse of time in optical elements in use is controlled in an optical device using an ultraviolet region, especially in the optical device using the wavelength range of a wavelength of 400 nm or less wherein absorption of oxygen is large.例文帳に追加

紫外線領域を使用する光学装置において、特に酸素の吸収が大きな波長４００ｎｍ以下の波長域で使用する光学装置で、使用している光学素子経時変化を抑制した光学装置構成を提供する。 - 特許庁

The aqueous coating composition comprises a synthetic resin, a luminous pigment containing strontium aluminate, and a white fluorescent material 75-100% in diffuse reflectance in the overall wavelength region covering 380-780 nm wavelength.例文帳に追加

合成樹脂、アルミン酸ストロンチウムを含有する蓄光顔料、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全波長領域で、拡散反射率が７５％〜１００％である白色蛍光材料を含有することを特徴とする水性塗料組成物。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable composition highly sensitive to light in the ultraviolet and visible to infrared wavelength regions including a wavelength region of ≤450 nm, excellent in decolorability of an absorbing component corresponding to the light and free of yellowing.例文帳に追加

４５０ｎｍ以下の波長領域を含む紫外、可視〜赤外波長領域の光に高感度に感応し、かつ該波長光に対応する吸収成分の消色性に優れ、黄着色のない光重合性組成物等を提供すること。 - 特許庁

The photocatalytic material is composed of a substrate made of a light transmitting material, and fullerene or a fullerene derivative carried by the light transmitting material through a specific crosslinking agent, and excited by light of a wavelength region of 200-850 nm.例文帳に追加

透光材料からなる基材と、該透光材料に特定の架橋剤を介して担持されるフラーレンまたはフラーレン誘導体とで構成され、２００〜８５０ｎｍの波長域の光で励起されることを特徴とする光触媒材料。 - 特許庁

To provide a recording medium that improves the shieldability of color in a 400-500 nm of wavelength region in infrared absorption images in comparison with when scattered images are not formed on the infrared absorption images.例文帳に追加

本発明における赤外吸収画像上に本発明における散乱画像を形成しない場合に比べて、赤外吸収画像における４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長領域の色の遮蔽性が向上された記録媒体を提供する。 - 特許庁

The negative type lithography plate having a photopolymerization photosensitive layer on a support has a pigment having absorbancy in a wavelength region of ≥750 nm and contains a hydrazine compound.例文帳に追加

支持体上に光重合性の感光層を有するネガ型平版印刷版において該感光層中に、７５０ｎｍ以上の波長領域に吸収を有する色素を含有し、かつヒドラジン化合物を含有することを特徴とするネガ型平版印刷版。 - 特許庁

The image forming method includes multi-exposing and developing a photosensitive composition comprising at least a polymerizable polymer, a photopolymerization initiator and a sensitizing dye which performs sensitization in a wavelength region of 380-1,300 nm.例文帳に追加

少なくとも重合性ポリマー、光重合開始剤、及び３８０ｎｍから１３００ｎｍの波長域において増感する増感色素を含有する感光性組成物を多重露光した後、現像処理することを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

The broadband illuminator emits broadband light of at least 150 mW with respect to a supplied input voltage of 1 mW, to a target region over a broadband continuous wavelength of a continuous wavelength range of at least 100 nm.例文帳に追加

広帯域照明器であって、少なくとも１００nmの連続波長域の広帯域の連続波長にわたって、１ミリワットの入力電圧に対し少なくとも１５０マイクロワットの広帯域光出力を標的領域に放射する広帯域照明器。 - 特許庁

The silicon member used for manufacturing a semiconductor is characterized by that the silicon member consists of a silicon-formed body of resistivity 0.1 Ω.cm or less and a concentration of metal impurity within a region of a surface layer of 50 nm is 1×10^11 atom/cm^2 or less.例文帳に追加

半導体製造用シリコン部材の発明は、抵抗率０．１Ω・ｃｍ以下のシリコン成形体から成り、かつ表層５０ｎｍ領域内の金属不純物濃度が１×１０^１１原子／ｃｍ^２以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To solve the problem that the heat-insulating laminated glass, in which electroconductive ultra-fine particles having heat-ray-shielding property are dispersed in a laminated interlayer film, has small reflectance in a near infrared region of ≤1,000 nm and the heat-insulating performance of the glass is insufficient.例文帳に追加

合わせ中間膜中に熱線遮蔽性を有する導電性超微粒子を分散させてなる断熱合わせガラスは、１０００ｎｍ以下の近赤外領域の反射率が小さく、断熱性能が十分なものとは言い難い。 - 特許庁

A transparent yttrium oxide sintered body that contains, with yttrium oxide as a main component, at least either one of tantalum or niobium or both thereof and has the in-line transmittance of 60% or more at a thickness of 1 mm in a visible wavelength region in the range of 400 to 800 nm.例文帳に追加

酸化イットリウムを主成分とし、少なくともタンタル若しくはニオイブのいずれか一方又は双方を含有し、厚さ１mm時の可視光帯域波長４００〜８００nmにおける直線透過率が６０％以上であることを特徴とする。 - 特許庁

The PRPs are arranged to produce near-field electromagnetic gap modes in a space between the nanolens (62) and a confronting detection region on the substrate surface (80) when the gap between the nanolens (62) and the substrate (80) is 30-nm or less.例文帳に追加

このＰＲＰは、ナノレンズ（６２）と基板（８０）との間のギャップが３０ｎｍ以下の場合に、ナノレンズ（６２）と基板表面（８０）上の直面する検出領域との間の空間に近距離場電磁ギャップモードを生ずるように配置される。 - 特許庁

The method for purifying acetic anhydride includes adjusting absorbance of crude acetic anhydride to ≥0.12 by UV spectrum at a measurement wavelength in a region of 300-330 nm, distilling the crude acetic anhydride and separating and recovering purified acetic anhydride.例文帳に追加

ＵＶスペクトルの測定波長３００〜３３０ｎｍの領域での粗無水酢酸の吸光度を０．１２以上とした後、該粗無水酢酸を蒸留して精製無水酢酸を分離回収することを特徴とする無水酢酸の精製方法。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photosensitive body for high precision printing which has high sensitivity characteristics in a wavelength region of 405±20 nm, is excellent in environmental stability, and having stable characteristics even when used in repetition, and to provide an image forming apparatus including the photosensitive body.例文帳に追加

４０５±２０ｎｍの波長域で高い感度特性を有し、環境安定性に優れ、繰り返し使用時にも安定した特性を有する高精細印字用電子写真感光体をおよび該感光体を備える画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The contrast medium comprises a rod-like nanoparticle containing any of gold, silver, copper and platinum, and a material having wave length of ≤0.1 cm^-1 absorption factor in the 700-1,200 nm wave length region and existing around the rod-type nanoparticle, and has a particle shape.例文帳に追加

金、銀、銅、白金のいずれかを含むロッド状ナノ粒子と、該ロッド状ナノ粒子の周囲に存在する７００〜１２００ｎｍの波長領域内に吸光係数が０．１ｃｍ^−１以下の波長が存在する材料と、からなり、粒子形状を有する造影剤。 - 特許庁

This heat insulation coating material for being applied on the surface of the waterproof sheet having flexibility is provided by adding a pigment to a thermoplastic resin having (-)20-20°C range glass transition point to make ≥20 % insolation reflectivity in 700-2,100 nm wave length region.例文帳に追加

可撓性を有する防水シートの表面に塗布する遮熱塗料であって、ガラス転移点が−２０〜２０℃の範囲にある熱可塑性樹脂に顔料を添加することにより７００〜２１００ｎｍの波長域における日射反射率が２０％以上としてなる。 - 特許庁

To provide a photo acid-generating agent having very high sensitivity in a near ultraviolet region i.e., in the vicinity of the wavelength range of 300 to 400 nm and remarkably enhancing the reaction rate, and a photoreactive composition reacting in a very short time upon exposure to near ultraviolet rays.例文帳に追加

近紫外線領域である３００〜４００ｎｍ付近での感度が非常に高く、反応速度を非常に高めることができる光酸発生剤、および近紫外線照射による反応時間が非常に短い光反応性組成物を提供すること。 - 特許庁

A method for manufacturing a compound semiconductor device comprises a step of forming a delta-doped layer 112, having impurity concentration higher than that of a collector layer 103 on a region of about 10 nm or smaller, from a heterojunction interface to a set-back layer 104 of a collector layer 103, having a band gap larger than that of a base layer 105.例文帳に追加

ベース層１０５よりもバンドギャップが大きいコレクタ層１０３におけるセットバック層１０４とのヘテロ接合界面から１０ｎｍ程度以内の領域に、コレクタ層１０３よりも不純物濃度が高いデルタドープ層１１２が形成されている。 - 特許庁

Since the phosphor efficiently absorbs ultraviolet light at near a wavelength of 380 nm, which is in the light emission region of an ultraviolet light-emitting diode, the phosphor can be used for a light-emitting diode which has a structure emitting light by a phosphor using the ultraviolet light-emitting diode as the excitation source.例文帳に追加

紫外線発光ダイオードの発光領域である波長３８０ｎｍ付近の紫外線をも効率よく吸収するので、上記紫外線発光ダイオードを励起源とする蛍光体により発光する構造の発光ダイオードにも用いることができる。 - 特許庁

Or, the amount of absorption of sunlight is increased by using a light-transmission substrate having a light absorption rate of 40% on average at a near-infrared wavelength region of 1,500-20,000 nm as a light transmission substrate 1 of the solar battery element 10.例文帳に追加

あるいは、太陽電池素子１０の透光性基板１として、１５００〜２０００ｎｍの近赤外波長領域で平均４０％以上の光吸収率を有する透光性基板を用いていることで、太陽光の吸収量を多くする。 - 特許庁

The photosensitive resin formation for a flexographic plate includes at least (A) a photosensitive resin layer and (B) a slip layer situated on the layer (A), containing a compound whose UV absorbing region is in the range of at least 320-420 nm and comprising one or more polymers.例文帳に追加

少なくとも（Ａ）感光性樹脂層、（Ｂ）層（Ａ）上にあり、少なくとも３２０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲に紫外線吸収領域が存在する化合物を含有し、１種以上の重合体から成るスリップ層を含むフレキソ版用感光性樹脂構成体。 - 特許庁

The compound is excellent in solubility and water resistance, has a good performance of optical absorption in a wavelength region of 330-500 nm, and can be suitably used for an optical recording medium for using laser beam to record and/or regenerate information.例文帳に追加

（Ｂｎはベンジル基である。）該化合物は、溶解性、耐水性に優れており、３３０〜５００ｎｍの波長領域に良好な光吸収特性を有し、レーザー光を用いて情報を記録及び／又は再生する光学記録媒体用途に好適に使用できる。 - 特許庁

This fishing line excellent in light resistance is characterized by comprising the polybenzazole fiber imparted with a light resisting agent e.g. oxidation dyestuff compound having ≤30% regular reflectance in more than 30% region in the move length range of 450-700 nm.例文帳に追加

波長が４５０ｎｍから７００ｎｍの間における３０％以上の領域で、繊維の正反射率が３０％以下となる酸化染料化合物、等の耐光剤を付与してなるポリベンザゾール繊維からなることを特徴とする耐光性に優れた釣り糸。 - 特許庁

To provide a method of producing a multilayer film mirror used in a soft X-ray region of 2.3 to 4.4 nm, which comprises stacking the multilayer film by epitaxial growth and by which crystal defects in the multilayer film can be reduced and the reflectivity to soft X-rays can be improved.例文帳に追加

２．３ｎｍ〜４．４ｎｍの軟Ｘ線領域に用いる多層膜ミラーを作製する方法にであり、多層膜をエピタキシャル成長で積層させることにより多層膜内の結晶欠陥を減少させ、軟Ｘ線の反射率を向上させるものである。 - 特許庁

An adhesive sheet for sticking a wafer comprises a base material resin film and an adhesive layer formed on the base material resin film, in which the parallel light transmittance in a wavelength region of 400-1100 nm is 80% or more.例文帳に追加

基材樹脂フィルムと、前記基材樹脂フィルム上に粘着剤層が形成された粘着シートであって、４００〜１１００ｎｍの波長領域における平行光線透過率が８０％以上であることを特徴とするウエハ貼着用粘着シートである。 - 特許庁

The ultraviolet irradiation device is equipped with the discharge lamp 30 having a light emitting tube 11 made of synthetic quartz glass and emitting ultraviolet rays with a region of 240 nm or less and a treatment device 1 for irradiating a continuously flowing liquid to be treated with ultraviolet rays emitted from the discharge lamp.例文帳に追加

合成石英ガラス製の発光管１１を有し、２４０ｎｍ以下の領域の紫外線を放射する放電灯３０と、前記放電灯から放射される紫外線を、連続して流れる被処理液体に対して照射する処理装置１とを具える。 - 特許庁

A focusing mechanism in the apparatus operates to move the lens assembly toward and away from the substrate surface (80), with a gap of less than 30-nm, to produce electromagnetic gap modes that enhance the Raman spectroscopy signals produced by the sample (82) in the detection region.例文帳に追加

この装置における焦点合わせ機構が作動し、３０ｎｍ未満のギャップで基板表面（８０）に向けておよび離してレンズアセンブリを動かし、検出領域におけるサンプル（８２）により生じたラマン分光学シグナルを高める電磁ギャップモードを生じる。 - 特許庁

Thereby, by using the wavelength conversion material, an ultraviolet-region part of Cherenkov light generated when elementary particles pass through the silica aerogel can be transformed into visible light with such a wavelength of 400-500 nm as detected with high sensitivity by means of a photoelectron multiplier tube.例文帳に追加

これにより、素粒子がシリカエアロゲルを通過する際に発生するチェレンコフ光のうち紫外線領域のものを、波長変換材料によって、光電子増倍管による検知感度が良い波長４００〜５００ｎｍの可視光に変換することができる。 - 特許庁

The polynuclear copper complex can be utilized when an organic film of the organoelectroluminescent element is formed, and not only emits light within a yellow to red wavelength region (560-630 nm) as a highly efficient phosphorescent material but also has high luminance and a low turn-on voltage.例文帳に追加

本発明の多核銅錯体は、有機電界発光素子の有機膜の形成時に利用可能であり、高効率の燐光材料として黄色ないし赤色波長領域（５６０〜６３０ｎｍ）で発光するだけでなく、高い輝度と低い駆動電圧を有する。 - 特許庁