例文 (836件) |
nm regionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 836件
To provide an ultraviolet absorbing film which absorbs ultraviolet rays of 410 nm or below in wavelength and to some extent absorbs a visible light short wavelength region, is prevented from being colored by printing using e.g. color inks, and has transparency to make contents and a contents display body be seen through the film.例文帳に追加
本発明は、410nm以下の紫外線を吸収し、可視光短波長領域をある程度吸収する、色インキなどの印刷により着色することなく、内容物および内容物表示体を透視可能な透明性を有する紫外線吸収フィルム提供することを課題とする。 - 特許庁
The flash lamp whose supply energy per pulse of flash pulses with spectral characteristics including a wavelength region of 300 nm or less is set to 0.5-20 J and number of flash pulses per second is set to 10-400 is moved to approach to the object to be sterilized and irradiate the object to be sterilized with flash pulses.例文帳に追加
300nm以下の波長域を含む分光特性の閃光パルスの1パルス当たりの供給エネルギーを0.5〜20Jとし、1秒当たりの閃光パルス数を10〜400箇とし、フラッシュランプを移動させて被殺菌対象物に近づけ閃光パルスを被殺菌対象物に照射する。 - 特許庁
When the irradiation optical system 20 is equipped with a short-wavelength cutoff filter 27, the light emitting from an ultrahigh-pressure mercury lamp 21 passes through the short-wavelength cutoff filter 27, in which rays in a deep ultraviolet region ranging from 270 to 333 nm are cut while leaving g-line, h-line and i-line rays.例文帳に追加
このとき、照射光学系20に短波長カットフィルター27が装着されている場合には、超高圧水銀灯21から出射された光は、短波長カットフィルター27を通過し、g線、h線及びi線を残して、270〜333nmの範囲にある深紫外線域の光がカットされる。 - 特許庁
To provide a mirror capable not only of improving durability including water resistance, thermal resistance and light stability etc., but also improving a visible radiation region reflection factor (especially the reflection factor at a visible light band of 410 nm), not to mention protective layer stripping prevention.例文帳に追加
耐水性や、耐熱性、耐光性等の耐久性の向上を図ることができるとともに、保護層の剥離を防止することができるのはもちろんのこと、可視光域の反射率(特に光の波長が410nmであるときの反射率)の向上を図ることができる反射鏡を提供する。 - 特許庁
In the method which obtains the information on a specimen, (a) a process in which the specimen is irradiated with continuous wavelength light in the region of 400 to 2,500 nm or in a part of it and (b) a process, in which a peak in the obtained spectrum is decomposed to an element peak by a spectroscopic technique are contained.例文帳に追加
(a)被検体に、400nmから2500nmまでのまたはその一部の領域の連続波長光を照射して、被検体のスペクトルを得る工程、および、(b)得られたスペクトル中のピークを、分光学的手法により要素ピークに分解する工程、を含む、被検体の情報を得る方法。 - 特許庁
By this manufacturing method, a silicon nitride film 7 of about 4 nm or smaller in thickness is formed on a silicon oxide film 6 formed on the top surface of a semiconductor substrate 1 and then the silicon nitride film 7 and silicon oxide film 6 in an region B where a thin gate insulating film is formed are removed in the order, by using a resist pattern 8 as a mask.例文帳に追加
半導体基板1の表面に形成された酸化シリコン膜6の上層に約4nm以下の窒化シリコン膜7を形成し、次いでレジストパターン8をマスクとして、薄いゲート絶縁膜を形成する領域Bの窒化シリコン膜7および酸化シリコン膜6を順次除去する。 - 特許庁
To solve the problem where the upper-limit of variable wavelength characteristics is limited since a conventional variable-wavelength semiconductor laser has a small total loss of a resonator and oscillates with a small threshold gain (first quantum level) and hence has a gain spectrum of only several tens to approximately 100 nm in terms of a wavelength region.例文帳に追加
従来の波長可変半導体レーザは共振器の全損失が小さく、低い閾値利得(第一量子準位)で発振するので、波長領域で見れば、数10から約100nm程度までの利得スペクトルにしかならず、波長可変特性の上限値が制限されている。 - 特許庁
A chopping frequency fc is set at F1=7.5 Khz when the speed Nm is in region E lower than a low level w1 and at F0=15 Khz when w1 is exceeded.例文帳に追加
電動機コイル1aの両端に第1,第2スイッチ18a,18bを接続し、目標トルクTrqおよび電動機速度Nmに基づいて、コイル1aへのチョッピング通電を指示する信号S8を発生し、速度Nmが低値w1以下のE領域のとき、チョッピング周波数fcをF1=7.5Khzに、w1を越えるとF0=15Khzに定める。 - 特許庁
A self-propelled earth-surface-state inspection vehicle 1 is provided with a laser radar 2 which calculates a distance up to an object existing in an earth-surface region, and an ultraviolet image sensor 3 which detects light contained in a range at a wavelength of 190 to 500 nm so as to image the earth surface state.例文帳に追加
地表領域に存在する対象物までの距離を算出するレーザ・レーダ2、及び、波長が190nm乃至500nmの範囲に含まれる光を検出して地表領域を撮像する紫外画像センサ3を、自走式の地表状態点検車両1が備える。 - 特許庁
Since an active layer 29 is provided so as to generate light at the wavelength of 500 nm or more, the wavelength of light to be confined into a core semiconductor region 19 is a long wavelength, and a first optical guide layer 27 with a two-layer structure and a second optical guide layer 31 with a two-layer structure are used.例文帳に追加
活性層29は波長500nm以上の光を発生するように設けられるので、コア半導体領域29に閉じ込めるべき光の波長は長波長であり、2層構造の第1の光ガイド層27と2層構造の第2の光ガイド層31とを用いる。 - 特許庁
An energy beam curable resin composition is characterized by including a resin (A) having ethylenic unsaturated groups in a molecule, a compound (B) which absorbs specifically excitation energy and fluoresces in a near infrared region of 650-1,000 nm and a light resistant improver (C).例文帳に追加
分子内にエチレン性不飽和基を有する樹脂(A)、励起エネルギーを特異的に吸収して650nmから1000nmの近赤外領域で蛍光を発する化合物(B)、耐光性向上剤(C)を含有することを特徴とするエネルギー線硬化型樹脂組成物。 - 特許庁
The color composition for marking contains at least one kind of cationic dye having absorption in the visible ray region and a boron-based erasing agent having a specified structure, and its color is erased by irradiation of laser light at 400 to 700 nm wavelength.例文帳に追加
可視光領域に吸収を有する少なくとも一種のカチオン系色素と、所定の構造を有するホウ素系消色剤とを含み、波長400〜700nmのレーザー光を照射されることにより消色することを特徴とするマーキング用着色組成物である。 - 特許庁
The coating material includes, as essential components, a synthetic resin (A) forming a coating film having a reflection region wherein reflectance is ≥10% at the wavelength of 300-500 nm, colored aggregate (B) having average particle size of 0.01-5 mm, and a photocatalytic metal oxide (C) having average particle diameter of ≤0.3 μm.例文帳に追加
波長300〜500nmにおいて反射率が10%以上となる反射領域を有する被膜を形成する合成樹脂(A)、平均粒子径0.01〜5mmの有色骨材(B)、及び平均粒子径0.3μm以下の光触媒金属酸化物(C)を必須成分とする。 - 特許庁
The photosetting composition contains a coloring agent, an alkali-soluble resin, a photosensitive polymer component and a photopolymerization initiator, wherein the photopolymerization initiator has ≥25,000 molar extinction coefficient (ε) in the wavelength region of 280 to 310 nm.例文帳に追加
着色剤、アルカリ可溶性樹脂、感光性重合成分、光重合開始剤を含む光硬化性組成物において、280〜310nmの波長領域のいずれかでのモル吸光係数(ε)が25000以上である該光重合開始剤を含有することを特徴とする光硬化性組成物。 - 特許庁
The liquid crystal composition comprises at least a liquid crystal compound which has a polymerizable group and of which birefringence is in inverse wavelength dispersion in a visible light region, and a polymerization initiator of which absorbance at 405 nm in methanol is ≥100 (ml/g cm).例文帳に追加
重合性基を有し、且つ可視光域において複屈折が逆波長分散な液晶化合物と、メタノール中における405nmでの吸光係数が100(ml/g・cm)以上の重合開始剤とを少なくとも含有することを特徴とする液晶組成物である。 - 特許庁
To manufacture a cylindrical flexographic printing original plate on which laser engraving is possible by photo-curing a liquid photosensitive resin composition having a very low light transmittance to ultraviolet light including light in a wavelength region of 200-450 nm under the above ultraviolet light.例文帳に追加
200nm以上450nm以下の波長領域の光を含む紫外線に対する光線透過率の極めて低い液状感光性樹脂組成物を、前記紫外線により光硬化させ、レーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版を形成するための方法の提供。 - 特許庁
In the charge eliminating method of an electrostatic chuck, after a wafer fixed on the electrostatic chuck is removed, a surface of the electrostatic chuck is irradiated with ultraviolet ray whose main luminescence wavelength is in 150-450 nm wavelength region, and residual potential of the surface of the electrostatic chuck is eliminated.例文帳に追加
静電チャック上に固定されたウエハを取り除いた後、静電チャック表面に150nm〜450nmの波長域に主発光波長を有する紫外線を照射することにより、前記静電チャック表面の残留電位を除去する、静電チャックの帯電除去方法である。 - 特許庁
The photosensitive colored composition includes at least a pigment, a transparent resin, a monomer having an ethylenically unsaturated double bond, and an oxime ester type photopolymerization initiator, and cures upon exposure to ultraviolet light of 230-320 nm wavelength in a far-ultraviolet region.例文帳に追加
少なくとも、顔料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、およびオキシムエステル系光重合開始剤を含有し、波長が230〜320nmの遠紫外域の紫外線露光により硬化することを特徴とする感光性着色組成物である。 - 特許庁
A light selective transmission filter includes a resin sheet and an optical multilayer film formed on at least one surface of the resin sheet, in which the resin sheet includes a resin layer containing a dye having an absorption maximum in the wavelength region of 600 to 800 nm.例文帳に追加
樹脂シートと、その少なくとも一方の表面に形成されてなる光学多層膜とを含む光選択透過フィルターであって、該樹脂シートは、600〜800nmの波長域に吸収極大を有する色素を含有する樹脂層を有する光選択透過フィルター。 - 特許庁
To provide a novel orange phosphor that is more efficient to further put LED illumination into practice hereinafter and is excited by light having a wavelength of 400-500 nm within a near-ultraviolet to visible light region to emit highly bright light, and a manufacturing method of the same.例文帳に追加
これからのLED照明のさらなる実用化を図る、より高効率の橙色蛍光体で、波長400〜500nmの近紫外線から可視領域の光で励起され、高輝度に発光する新しい橙色蛍光体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
An image forming method for forming a toner image is provided in which a nonmagnetic one-component developer comprising a toner including fine particles of which the number average primary particle diameter is 10-500 nm and having a volume-base median diameter of 3-8 μm is used, and in which an elastic member is disposed between an image exposure position and a development region.例文帳に追加
数平均一次粒径が10〜500nmの微粒子を含有し、かつ、体積基準のメディアン径が3〜8μmのトナーからなる非磁性一成分現像剤を用い、像露光位置と現像領域との間に弾性部材を設けてトナー画像を形成する画像形成方法。 - 特許庁
In the processing method of optical element, compression forming is performed by using a free curved plane die having the surface roughness Ra ≤6 nm and the shape precision PV ≤1 μm in the superplasticity flow temperature region of the amorphous metal thin film and the surface roughness and shape precision of the free curved plane die is applied.例文帳に追加
加工方法において、非晶質金属薄膜の超塑性流動温度域で、面粗度Ra≦6nm及び形状精度PV≦1μm以下の自由曲面型を用いて圧縮成形し、自由曲面型の表面粗度及び形状精度を付与させる。 - 特許庁
The photocatalyst 4 has an ultraviolet absorption film 2 which is formed on the surface of a transparent substrate 1 and has 30% or below in transmittance of ultraviolet light of 360 nm wavelength and 70% or above in transmittance of visible light of 400-780 nm wavelength, and a photocatalyst film (visible light type photocatalyst film) 3 which is formed on the ultraviolet absorption film 2 and exhibits a decomposition reaction in the visible light region.例文帳に追加
光触媒体4は、透明基材1の表面に設けられ、透明基材1に設けられた状態における波長360nmの紫外線の透過率が30%以下、波長400〜780nmの可視光の透過率が70%以上である紫外線吸収膜2と、この紫外線吸収膜2上に設けられ、可視光領域で分解反応を示す光触媒膜(可視光型光触媒膜)3とを具備する。 - 特許庁
In the semiconductor device including a first silicon nitride film, having a thickness of 200 to 500 nm formed on a glass substrate; a second silicon nitride film formed on the first silicon nitride film; and an amorphous semiconductor film which is formed on the second silicon nitride film and includes a region which serves as a channel formation region, the configuration includes boron at the interface between the first insulating film and the second insulating film.例文帳に追加
上記目的を解決するため、ガラス基板上に200nm〜500nmの膜厚の第1の窒化珪素膜と、前記第1の窒化珪素膜上に第2の窒化珪素膜と、前記第2の窒化珪素膜上にチャネル形成領域となる領域を含む非晶質半導体膜と、を有する構成において、前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜との界面において、ボロンを有する。 - 特許庁
In the laminated electrophotographic photoreceptor having a charge generating layer and a charge transfer layer successively formed directly on a conductive supporting body or formed with an intermediate layer interposed, the electrophotographic photoreceptor is irradiated with semiconductor laser light having 400 to 450 nm wavelength as the addressing light, and the charge transfer layer contains at least a polymer type charge transfer material and transmits monochromatic light in 390 to 460 nm wavelength region.例文帳に追加
導電性支持体上に直接または中間層を介して電荷発生層、電荷輸送層を順次設けた積層型電子写真感光体において、該電子写真感光体が書込光として400〜450nmの波長を有する半導体レーザー光を照射され、且つ該電荷輸送層が少なくとも高分子型電荷輸送材料を含有し、且つ390〜460nm波長領域の単色光を透過することを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁
Specifically, the irradiating laser beam has a wave length in the ultraviolet region of 100 to 400 nm, and the surface-modified layer is formed on the metal surface by the steps of condensing the ultraviolet laser beam, and irradiating the metal surface with the condensed laser beam while making the beam scan the metal surface with a two-dimensional shape.例文帳に追加
つまり、照射するレーザ光は、その波長が100nm以上400nm以下の紫外領域にあるものであり、この紫外レーザ光を集光させ、集光されたレーザ光を、金属表面上を2次元状に走査しながら照射させて、金属表面に表面改質層を形成するようにしている。 - 特許庁
A light source and a holographic optical element (HOE) are established so that the HOE in which a half-wavelength width of diffraction peak in a wavelength region of each color of RGB is narrow and ≤20 nm is used and a video light guided by optical pupil through the HOE has intensity peak near a wavelength where color purity of RGB becomes higher.例文帳に追加
RGBの各色の波長域における回折ピークの半値波長幅がそれぞれ20nm以下と狭いHOEを用い、HOEを介して光学瞳に導かれる映像光が、RGBの色純度が高くなる波長付近に強度ピークを有するように、光源およびHOEを設定する。 - 特許庁
A second harmonic beam pulse generated from the amplified pulse beam by nonlinearity of an optical device (periodic polarization inversion Mg added LiNbO_3:PPMgLN) 50 is taken out by an optical filter 60 and an optical supercontinuum pulse in a 800 nm wavelength region is generated from a photonic crystal fiber (PCF) 70.例文帳に追加
そして、増幅されたパルス光から光デバイス(周期分極反転Mg添加LiNbO_3:PPMgLN)50の非線形性により発生する第2高調波光パルスを光学フィルタ60で取り出して、フォトニック結晶ファイバ(PCF)70から800nm波長領域でのスーパーコンチニュウム光を発生する。 - 特許庁
The metallized polyimide film has: a polyimide film; an intermediate layer formed by injecting one or more kinds of elements selected among Mo, Cr, Ni and Si into a surface region within 20 nm from the surface of the polyimide film; and a conductive layer formed on the intermediate layer, and composed of copper or a copper alloy.例文帳に追加
この金属化ポリイミドフィルムは、ポリイミドフィルムと、このポリイミドフィルムの表面から20nm以内の表層領域にMo,Cr,NiおよびSiから選択される1種又は2種以上の元素を注入した中間層と、この中間層上に形成された銅又は銅合金からなる導電層とを有する。 - 特許庁
After the multicomponent dispersion family food containing starch, protein, lipid, and like is dyed by fluorescent coloring matters, the tissue structure of the starch, protein, and lipid can be analyzed as a three-dimensional image by observation in a region having lower wavelength than -40 nm being the maximum absorption wavelength of the fluorescent coloring matters.例文帳に追加
澱粉、蛋白質、脂質等を含有する多成分分散系食品を蛍光色素で染色した後、蛍光色素の最大吸収波長の−40nmより低波長領域で観察することによって、澱粉、蛋白質及び脂質の組織構造を立体的画像として解析することができる。 - 特許庁
The molding for optical system made of a resin composition which comprises a compound having at least one epoxy group and/or glycidyl group has surface roughness of 50 nm or less and has linear expansion coefficient of 40 ppm or less in a temperature region of the glass transition temperature.例文帳に追加
エポキシ基及び/又はグリシジル基を少なくとも1つ以上有する化合物を含有してなる樹脂組成物から形成された光学系用成形体であって、該光学系用成形体は、表面粗度が50nm以下でかつガラス転移温度以下の温度領域での線膨張係数が40ppm以下である光学系用成形体。 - 特許庁
In the planographic printing plate obtained by sequentially coating the top of a support with at least an undercoat layer, a silver halide emulsion layer containing a sensitizing dye which imparts maximum spectral sensitivity in a wavelength region of ≥600 nm and a physical developing nucleus layer, an aliphatic carboxylic acid having at least one hydroxyl group or an alkali metallic salt thereof is contained.例文帳に追加
支持体上に少なくとも下塗り層、600nm以上の波長域に極大分光感度を付与する増感色素を含有するハロゲン化銀乳剤層及び物理現像核層を順次塗布してなる平版印刷版おいて、少なくとも1つの水酸基を有する脂肪族カルボン酸またはそのアルカリ金属塩を含有する。 - 特許庁
The light-transmitting member is a light-transmitting member made of molten quartz glass containing titanium and is characterized in that the concentration of oxygen defect structures showing absorption at a wavelength in 163 nm is ≤6×10^-3 mol/L in 100 μm surface region from a light incident surface.例文帳に追加
この光透過部材は、チタンを含有する溶融石英ガラスよりなる光透過部材であって、当該光透過部材は、光入射面から100μmの表面層領域において、波長163nmに吸収を示す酸素欠陥構造の濃度が6×10^-3mol/L以下であることを特徴とする。 - 特許庁
The thin film having the laminar structure of a smooth surface, an underlayer thereof and a steep interface is manufactured by depositing the film and bombarding the surface region of a depth of ≤20 nm of the deposited film with the ions of rare gas which has an energy within a range from 100 to 300 eV and is heavier than Ne.例文帳に追加
20nm以下の深さの表面領域に対して、100〜300eVの範囲内のエネルギーをもつNeより重い希ガスのイオンを膜堆積後に衝撃させることにより、滑らかな表面の層状構造とその下地層と急峻な界面をもつ薄膜の作製方法を提供する。 - 特許庁
The illumination device uses an oscillation laser as a light source to illuminate a specified illumination region with a luminus flux at ≤180 nm wavelength and is equipped with an optical member made of a magnesium fluoride crystal which generates a different polarization state of the beam with respect to the plane perpendicular to the optical axis.例文帳に追加
本発明の一側面としての照明装置は、発振レーザーを光源として波長180nm以下の光束を用いて所定の照明領域を照明する照明装置であって、弗化マグネシウム結晶より成形され、光軸と垂直な面内に関し前記光束の偏光状態を異ならせる光学部材を有する。 - 特許庁
To provide a metal-containing squalirium compound which can record and regenerate with blue semiconductor laser beams, has high light-absorbing characteristics in a wavelength region of 300 to 530 nm, exhibits excellent thermal decomposition behaviors, has excellent solubility in solvents, and has excellent light resistance and durability, and to provide an optical recording medium using the compound.例文帳に追加
青色半導体レーザーで記録再生可能な300〜530nmの波長領域に高い光吸収特性を有し、かつ熱分解挙動及び溶媒に対する溶解性に優れ、耐光性と耐久性に優れた含金属スクアリリウム化合物及び該化合物を用いた光学記録媒体を提供する。 - 特許庁
In the tempered glass, the region of high Si concentration in which the concentration ratio of an Si atomic concentration (atom%) to that in the central position of the tempered glass in its thickness direction is higher than 5%, is formed in the range of depth of >0 to ≤30 nm along the thickness direction from the glass surface.例文帳に追加
強化ガラスには、強化ガラスの厚さ方向の中心位置におけるSiの原子濃度(原子%)に対するSiの原子濃度(原子%)の濃度比率が5%以上高いSi高濃度領域が、ガラス表面から厚さ方向に沿って0より大きく30nm以下の深さの範囲に形成される。 - 特許庁
In the glass plate, a Si high concentration region where the concentration ratio of the Si atomic concentration (atom%) to the Si atomic concentration (atom%) in the center position in the thickness direction of the glass plate is higher by 5% or more is formed in a depth range of >0 and ≤30 nm along the thickness direction from the glass surface.例文帳に追加
ガラス板には、ガラス板の厚さ方向の中心位置におけるSi原子濃度(原子%)に対するSi原子濃度(原子%)の濃度比率が5%以上高いSi高濃度領域が、ガラス表面から厚さ方向に沿って0より大きく30nm以下の深さの範囲に形成されている。 - 特許庁
To provide a plasma light source and a plasma light generating method which can shorten the radiation cooling time of the excitation level to emit EUV light of a valid wavelength region (in the vicinity of 13.5 nm) and to radiate input power as EUV light in a shorter time, and which can enhance utilization efficiency of EUV light.例文帳に追加
有効波長領域(13.5nm近傍)のEUV光を発する励起準位の輻射冷却時間を短縮して、入力パワーをより短時間でEUV光として放射させることができ、かつEUV光の利用効率を高めることができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。 - 特許庁
In the electrophotographic photoreceptor used for an electrophotographic apparatus using a semiconductor laser having an oscillating wave length ranging from near ultraviolet region to 500 nm, a photosensitive layer of the electrophotographic photoreceptor incorporates at least one kind of a bisazo pigment having a specific structure as a charge generating material.例文帳に追加
近紫外領域から500nmの範囲に発振波長を有する半導体レーザーを露光光源とする電子写真装置に使用される電子写真感光体において、該電子写真感光体の感光層が電荷発生物質として特定構造のビスアゾ顔料を少なくとも一種含有させる。 - 特許庁
In the projection type liquid crystal display device, a linearly polarizing plate having ≥30% and ≤70% transmittance in 430 to 700 nm wavelength region for linearly polarized light having the oscillation plane parallel to the absorption axis is disposed between a light source and a linearly polarized plate in the light source side.例文帳に追加
光源と光源側直線偏光板との間に、吸収軸に対して平行な振動面を有する直線偏光光に対する透過率が波長430〜700nmの範囲において30%以上70%以下である直線偏光板が配置されてなることを特徴とする投射型液晶表示装置。 - 特許庁
This infrared absorption film comprises a base material film and a cured product layer disposed on one surface thereof comprising an energy-curable resin composition including an inorganic-based pigment, where the light transmittance at least in whole region of 850-1,300 nm wavelength is ≤10%, and the visible light transmittance is ≥65%.例文帳に追加
基材フィルムと、その一方の面に設けられた無機系色素を含むエネルギー硬化型樹脂組成物からなる硬化物層を有し、少なくとも波長850〜1300nmの全領域における光線透過率が10%以下であり、かつ可視光線透過率が65%以上の赤外線吸収フィルムである。 - 特許庁
The crop raising system 1 includes: a light source 2 for irradiating far-red light having a peak wavelength in a wavelength region of 685-780 nm; a control part 3 for controlling light irradiation action of the light source 2; and a time setting part 4 for arbitrarily setting a time zone for allowing the control part 3 to make the light source 2 perform light irradiation action.例文帳に追加
作物育成システム1は、波長域685〜780nmにピーク波長を持つ遠赤色光を照射する光源2と、光源2の光照射動作を制御する制御部3と、制御部3に対して光源2の光照射動作させる時間帯を任意に設定する時間設定部4とを備える。 - 特許庁
To provide a squarylium compound/metal complex which is highly able to absorb light in the wavelength region of 300-530 nm, therefore enables recording and reproduction with a blue semiconductor laser, is excellent in thermal decomposition behaviors and solvent solubility, and is also excellent in light resistance and durability and to provide an optical recording medium using the complex.例文帳に追加
青色半導体レーザーで記録再生可能な300〜530nmの波長領域に高い光吸収特性を有し、かつ熱分解挙動及び溶媒に対する溶解性に優れ、耐光性と耐久性に優れたスクアリリウム化合物金属錯体及び該化合物を用いた光学記録媒体を提供すること。 - 特許庁
The silver halide photographic sensitive material has at least one silver halide emulsion layer on the substrate and contains at least one specified sensitizing dye in the silver halide emulsion and the maximum value of reflection density of a face on the side with the silver halide emulsion layer in the 600-700 nm region is 0.01-0.50.例文帳に追加
支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を有し、該ハロゲン化銀乳剤中に特定の増感色素を少なくとも1つ含有し、該ハロゲン化銀乳剤層を有する側の面の600〜700nmに於ける反射濃度の最大値が0.01〜0.50であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - 特許庁
To provide a nonionic substituted ethynyl gold-nitrogen-containing heterocyclic carbene complex exhibiting light emission in a blue region of the wavelength of 460 nm or shorter essential for realizing a full-color display and useful as an organic light emitting material or the like of a high melting temperature of 200°C or higher withstanding Joule heat generated upon applying a voltage thereto for use in an organic electroluminescent device.例文帳に追加
フルカラーディスプレイを実現するために不可欠な460nm以下の青色領域の発光を有し、電圧印加時に発生するジュール熱に耐えうる200℃以上の高い融点をもつ有機ルミネッセンス素子用発光材料等として有用な非イオン性の置換エチニル金−含窒素へテロ環カルベン錯体を提供する。 - 特許庁
The reflection spectrum B of ammonium sulfate (crystal) on the surface of the optical component of the exposure optical system having optical transmittance, which is measured using a spectrally reflected spectrum of an incident angle of 15° including a wavelength region of 150-300 nm, is compared with a reference reflected spectrum A to detect the crystal of ammonium sulfate.例文帳に追加
光学的透過性を有する露光光学系光学部品の表面の硫酸アンモニウム(結晶)を、波長領域150から300nmを含む入射角15度による分光反射スペクトルを用いて測定した反射スペクトルBと、基準となる反射スペクトルAとを比較することで、検出することを特徴とする。 - 特許庁
The color image forming method uses six color toners and a black toner having a volume-base median diameter (D50) of 3-7 μm and a storage modulus which begins to drop at 10-40°C and becomes a region of 10^3-10^4 Pa at 70-130°C, and containing particles having a primary particle diameter of 40-800 nm.例文帳に追加
体積基準のメディアン径(D50)が3〜7μm、貯蔵弾性率の降下開始温度が10〜40℃、貯蔵弾性率が10^3〜10^4Paの領域となる温度が70〜130℃であり、1次粒径が40〜800nmの粒子を含有する6種類の有彩色トナー及び黒色トナーを用いたカラー画像形成方法。 - 特許庁
At a position facing a discharge space S between a front glass substrate 1 and a back glass substrate 6, a magnesium oxide layer 5 is provided containing crystal powder from which magnesium oxide crystals are selected to be excited by electron beams for cathode luminescence with a peak in a wavelength region of 200-300 nm.例文帳に追加
前面ガラス基板1と背面ガラス基板6の間の放電空間Sに面する位置に、電子線によって励起されて波長域200〜300nm内にピークを有するカソード・ルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体が選別された結晶体粉末を含む酸化マグネシウム層5が設けられている。 - 特許庁
The light absorber comprises a metal coordination compound composed of an aromatic compound containing sulfur and/or nitrogen and a metal ion coordinatable with the aromatic compound, and has an average light transmittance of at most 50% within the wavelength region of 280-400 nm when it forms a layer having a thickness of 20 μm.例文帳に追加
本発明の光線吸収剤は、硫黄及び/又は窒素を含む芳香族化合物と、該芳香族化合物に配位可能な金属イオンと、からなる金属配位化合物を含有し、膜厚20μmの層を形成したとき、波長域280〜400nmにおける光線透過率の平均値が50%以下となる。 - 特許庁
例文 (836件) |
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