「nm region」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

Especially preferably, this organic compound, as it is or in a solution state, has an absorption maximum in the region with a wavelength of 200-700 nm, and the molar absorptivity in this absorption is 100 or more.例文帳に追加

この有機化合物はそのままの状態、又は溶液状態で、特に好ましくは、波長２００〜７００ｎｍの領域に吸収極大を有し、そのモル吸光係数が１００以上の吸収を有する化合物である。 - 特許庁

To provide a plasma light source and a plasma light generating method that achieve higher output of EUV light by substantially shortening an emission cooling time of excitation level at which EUV light in an effective wavelength region (nearby 13.5 nm) is emitted.例文帳に追加

有効波長領域（１３．５ｎｍ近傍）のＥＵＶ光を発する励起準位の輻射冷却時間を実質的に短縮し、ＥＵＶ光の高出力化を達成できるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating composition for preventing insect attraction using pigments which absorb light with wavelength of ≤400 nm, excellent in dispersibility and aging stability of coating and imparting a coated film with excellent transparency in visible light region.例文帳に追加

４００nm以下の光を吸収する顔料を用いた、塗料の分散性および経時安定性が良好、且つ塗膜にした時の可視光領域での透明性に優れる防誘虫コーティング組成物を提供することにある。 - 特許庁

An optical filter, which has a damped wavelength region of 560-590 nm, is installed on the display screen side of the discharging space of the plasma display panel that makes color display, by filling a discharge gas made of mainly neon and xenon into the discharging space.例文帳に追加

放電空間にネオン及びキセノンを主成分とする放電ガスを封入してカラー表示を行うプラズマディスプレイパネルの放電空間から表示面側に、５６０〜５９０ｎｍの減衰波長領域を有する光学フィルタを配設する。 - 特許庁

To provide a method for forming a negative type pattern which is transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light, does not swell while having such a chemical structure as to ensure high dry etching resistance and has superior resolution.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmを含む遠紫外線領域で透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shifting mask blank adaptable to shortening of exposure wavelength (an exposure wavelength region of 140-200 nm) and an increase of transmittance of exposure light (8-30% transmittance) and having high processing accuracy.例文帳に追加

露光波長の短波長化（１４０ｎｍ〜２００ｎｍの露光波長領域）や露光光の透過率の高透過率化（透過率８〜３０％）に対応し、高い加工精度を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランク等を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a negative type pattern free of swelling and excellent in resolution while having a chemical structure transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser beam and having high dry etching resistance.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線領域において透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

The translucency lutetium oxide sintered body consists essentially of lutetium oxide and includes either one of tantalum or niobium or both thereof and has the in-line transmittance of 60% or more at a thickness of 1 mm in a visible wavelength region in the range of 400 to 800 nm.例文帳に追加

酸化ルテチウムを主成分とし、タンタル若しくはニオブのいずれか一方又は双方を含有し、厚さ１mm時の可視光帯域波長４００〜８００nmにおける直線透過率が６０％以上であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an electric field modulation spectrum near-field optical microscope devised to analyze linear and nonlinear physical characteristics by obtaining a spectrum as optical responsiveness by electric field modulation in a local region of an nm order.例文帳に追加

ｎｍオーダの局所領域において電場変調による光学応答性としてのスペクトルを得、線形及び非線形の物理特性を解析するようにした電場変調スペクトル近接場光学顕微鏡を提供する。 - 特許庁

Thereby an external light incident from a display side of this wavelength region is absorbed by the polarizing plates 21, 22 to reduce a reflected light of 500-600 nm having high sensitivity to eyes and improve visibility of pictures.例文帳に追加

これにより、表示側から入射する前記波長範囲の外光を偏光板２１，２２で吸収できるから、目の感度が高い５００〜６００ｎｍの反射光を減少させることができ、画像の視認性を向上できる。 - 特許庁

The optical transmittance of the cover material 10 in the wavelength region of 200-800 nm is 15% or less, and the paper layer 1 is a double face coating paper having a basis weight of 80-110 g/m2.例文帳に追加

尚、紙層１の紙には坪量８０〜１１０ｇ／ｍ^2 の両面塗工紙を用い、また、最内層にはポリエチレン系イージーピール性樹脂フィルムを用いてこれをドライラミネート用接着剤で貼り合わせて積層することが好ましい。 - 特許庁

The agricultural products, etc., are irradiated with blue visible light (central wavelength region: 450 nm) to increase contents of antioxidative substances such as polyphenols, physiologically active substances such as GABA or nucleotides such as inosinic acid, guanylic acid, etc., other than amino acids.例文帳に追加

青域（中心波長域４５０nm）の可視光線を照射することによって、アミノ酸以外のポリフェノールなどの抗酸化性物質もしくはGABAなどの生理活性物質もしくはイノシン酸、グアニル酸などのヌクレオチド量を増大させること。 - 特許庁

An active region 15 is prevented from deteriorating, and a threshold current is reduced, so that a wavelength 780 nm band InGaAsP well layer semiconductor laser device which operates stably for a long hours, outputting a high power of 100 mW or above can be obtained.例文帳に追加

こうして、活性領域１５の劣化を防ぐと共に閾値電流を下げることによって、１００mＷ以上の高出力時でも安定して長時間動作が可能な波長７８０nm帯ＩnＧaＡsＰ井戸層半導体レーザ素子を得る。 - 特許庁

An Au film 2 is deposited on an MgO (100) substrate 1, and a Ga converging ion beam 50 nm in beam diameter is applied to the section, where a junction is desired to be formed, to form an irradiated region 3 on the surface of the substrate, and then the Au film 2 is removed.例文帳に追加

ＭgＯ(１００)基板１上にＡu薄膜２を蒸着し、接合を形成したい位置にビーム径５０nｍのＧa収束イオンビームを照射して基板表面に照射領域３を形成し、Ａu薄膜２を除去する。 - 特許庁

The coloring composition for color filters includes a colorant (A) including a red-based azo pigment (a1) with a maximum refractive index in a light wavelength region of 600-700 nm of 1.8 or less, and a resin (B).例文帳に追加

６００〜７００ｎｍの光波長領域における最大屈折率が１．８以下である赤色系アゾ顔料（ａ１）を含む着色剤（Ａ）と、樹脂（Ｂ）とを含むことを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物により解決される。 - 特許庁

(2) A process for curing the curable resin composition layer (α) to form a resin cured material layer (β) which has 10 to 100% transmissivity to near infrared light at a 700 nm to 1.6 μm wavelength region.例文帳に追加

（２）前記硬化性樹脂組成物層（α）を硬化させて、７００ｎｍ〜１．６μｍの波長領域の近赤外線に対する透過率が１０％以上１００％以下である樹脂硬化物層（β）を形成する工程。 - 特許庁

To provide a laminated wavelength plate which functions as a half-wave plate in 400-700 nm wavelength region by using a quartz substrate excellent in heat resistance or in reliability as a material of the wavelength plate.例文帳に追加

波長板の材料として耐熱性、或いは信頼性に優れた水晶基板を用い、波長４００〜７００ｎｍの波長域において１／２波長板として機能する積層波長板を提供することを目的とする。 - 特許庁

The transparent film for the electronic display consists of a transparent film of ≥50% transmittance of the UV rays in a wavelength region of a 250 to 450 nm and ≥180°C glass transition temperature measured by a TMA (stress and strain measurement).例文帳に追加

波長２５０〜４５０ｎｍの領域における紫外線の透過率が５０％以上であって、ＴＭＡ（応力歪み測定）で測定したガラス転移温度が１８０℃以上である透明フィルムからなる電子ディスプレイ用の透明フィルム。 - 特許庁

The present invention measures a concentration of ammonium persulfate in a state where autolysis thereof advances using a flow cell with absorbance of 300 to 350 nm in an ultraviolet region in a line where the ammonium persulfate is cyclically supplied through a pump or the like.例文帳に追加

自己分解が進んだ状態での過硫酸アンモニウムの濃度を、ポンプ等で循環供給するラインで、フローセルを利用して、紫外線領域における３００〜３５０ｎｍの吸光度により濃度測定を行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a synthetic silica glass optical material having high resistance to optical damages by ultraviolet radiation in an ultraviolet wavelength range, particularly in an ultraviolet wavelength region of less than about 250 nm, and particularly exhibiting a low laser-induced density change.例文帳に追加

紫外線波長範囲、特に、約２５０ｎｍ未満の波長領域の紫外線による光学的損傷に対する高い耐性を有し、特に、低いレーザ誘起密度変化を示す合成シリカガラス光学材料を提供する。 - 特許庁

The UV polarization light source device is formed by combining the polarization film containing the substance having a dichroic property in a UV region, an optical filter for cutting UV having short wavelength (preferably ≤290 nm wavelength) and a UV irradiation device.例文帳に追加

紫外領域において二色性を示す物質を含有する偏光フィルムと、短波長の紫外線（好ましくは波長２９０ｎｍ以下）をカットする光学フィルターと、紫外線照射装置とを組合せた紫外線偏光光源装置。 - 特許庁

The non-resonance two-photon absorption material contains a compound whose non-resonance two-photon absorption cross-sectional area at one or more wavelengths in a wavelength region shorter than a wavelength given by adding 200 nm to a linear absorption maximum wavelength.例文帳に追加

線形吸収極大波長に200nmを加えた波長よりも短波長な波長領域内の少なくとも一つの波長における非共鳴2光子吸収断面積が3000GM以上である化合物を含む非共鳴2光子吸収材料。 - 特許庁

The high frequency soft magnetic film is disclosed to directly deposit a magnetic metal whose average size is 10 nm or below and the alloy cluster on a substrate material (substrate) so as to realize a complex permeability in excess of that of a ferrite at a high destination region.例文帳に追加

高周波領域でフェライトを凌駕する複素透磁率が実現できるように、平均サイズ10nm以下の磁性金属及び合金クラスターを直接に基材（基板）上に堆積したことを特徴とする高周波軟磁性体膜。 - 特許庁

Although a first piezoelectric layer 71 on a vibration plate 52 is removed at a step of a photolithography etching process with remaining a region where a lower electrode 60 is formed, a second piezoelectric layer 72 containing lead zirconate titanate having a thickness equal to or more than 4 nm and equal to or less than 20 nm is formed over the first piezoelectric layer 71, the lower electrode 60, and the vibration plate 52 after the photolithography etching process.例文帳に追加

フォトリソエッチ工程の段階で、下電極６０が形成される領域を残して、振動板５２上の第１圧電体層７１が除去されるが、フォトリソエッチ工程後に、第１圧電体層７１、下電極６０および振動板５２にわたって、４ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の厚みのチタン酸ジルコン酸鉛を含む第２圧電体層７２を形成する。 - 特許庁

In the glass panel for vehicle with the combiner in which the increased reflection film is formed on a prescribed region of a main surface of a window shield glass for vehicle, the increased reflection film has the refractive index of 1.70-1.90 at 550 nm wave length and 70-90 nm physical film thickness.例文帳に追加

車両用ウインドシールドガラスの主表面の所定の領域に、増反射膜を形成してコンバイナーとしたＨＵＤ用コンバイナー付き車両用ガラス板において、前記増反射膜は、５５０ｎｍの波長における屈折率が１．７０〜１．９０で、物理膜厚が７０〜９０ｎｍである金属酸化物からなることを特徴とするＨＵＤ用コンバイナー付き車両用ガラス板である。 - 特許庁

The X-ray detected by the method described above is discharged mostly from the region within the diffusion range of the incident electron in the observation sample support member, and if the diffusion range of the incident electron is controlled to about a few nm, the resolution of the scanning X-ray microscope can be not more than 10 nm which has been considered to be the theoretical limit by the conventional method.例文帳に追加

上述の手法で検知されるＸ線は、概ね、観察試料支持部材内での入射電子の拡散範囲内の領域から放出されることとなり、当該入射電子の拡散範囲を数ｎｍ程度に制御すれば、得られる走査型Ｘ線顕微鏡像の分解能は、従来の手法の理論的限界とされていた１０ｎｍ以下とすることが可能となる。 - 特許庁

The mold release film has a release layer on one side of polyester film, wherein a light transmittance in all wavelength region of the film of 300-380 nm is 20% or less, an average transmittance of light of wavelength of 400-760 nm is 80-99%, and a residual Si-H index of the release layer surface is 2.0 or less.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの片面に離型層を有するフィルムであり、当該フィルムの３００〜３８０ｎｍの波長領域における光線透過率が全域にわたって２０％以下であり、波長４００〜７６０ｎｍの光線の平均透過率が８０〜９９％であり、離型層表面の残存Ｓｉ−Ｈ指数が２．０以下であることを特徴とする離型フィルム。 - 特許庁

To provide an optical component provided with an antireflection film which is formed thinly with a few number of layers on the surface of a base body made of synthetic resin, has an effective wavelength region in a wavelength band of red and near infrared laser beams and has an effective wavelength region having a width of ≥100 nm in a wavelength band of blue laser beams.例文帳に追加

合成樹脂製の基体表面に薄く少ない層数で形成されるとともに、赤色、近赤外レーザ光の波長帯域に有効波長領域を有しかつ、青色レーザ光の波長帯域に１００ｎｍ以上の幅の有効波長領域を有する反射防止膜を備えた光学部品を提供することを目的とする。 - 特許庁

The multi-mode optical fiber, that is used in this system, has a high OFL (Overfilled Launch) band over a broad wavelength region to attain the wavelength multiplex transmission, preferably an OFL band of 1.5 (GHz km) or higher for each channel of a wavelength region of 720 to 1400 nm, and more preferably, an OFL band of 2.5 (GHz km) or higher.例文帳に追加

該システムに用いるマルチモード光ファイバは、波長多重伝送が可能なように広い波長領域で高いＯＦＬ帯域を有し、好ましくは７２０〜１４００ｎｍの波長領域の各チャンネルでＯＦＬ帯域が１．５ＧＨｚ・ｋｍ以上、より好ましくは２．５ＧＨｚ・ｋｍ以上のＯＦＬ帯域を有しているものが使用される。 - 特許庁

The method includes: applying a photo polymerization compound to an unfixed toner image that is formed on a recording medium; irradiating an far-infrared region with light that is located in a region without having emission wavelength and having 360-420 nm of local maximum emission wavelength using LED; curing the photo polymerization compound; and fixing the unfixed toner image on the recording medium.例文帳に追加

記録媒体上に形成された未定着トナー画像に光重合組成物を塗布し、その後、遠赤外領域に発光波長帯を持たず且つ極大発光波長が３６０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の領域にある光をＬＥＤを用いて照射し、光重合組成物を硬化させて未定着トナー画像を記録媒体に定着する。 - 特許庁

The semiconductor photosensor includes: a semiconductor light receiving element having high spectral sensitivity over a range of approximately 400-1,100 nm; and a light transmissive resin for shielding light with a wavelength in an infrared region and transmitting light with a wavelength in a visible light region in which microparticles, in such a quantity that a photocurrent is obtained from the semiconductor light receiving element are dispersed in a transparent resin.例文帳に追加

ほぼ４００ｎｍから１１００ｎｍの範囲の波長に高い分光感度を有する半導体受光素子と、赤外域の波長の光を遮断すると共に、可視光域の波長の光を透過して半導体受光素子から光電流が得られる量の微粒子が透明樹脂内に分散させた光透過樹脂を備えている。 - 特許庁

To provide a near infrared ray absorbing material with which an image is made to be distinct and which is at the same time, excellent in weatherability and durability by solving a problem on the conventional technology and selectively absorbing only orange rays (in the region of 550-620 nm) which makes the image indistinct as well as near infrared rays absorption and hardly absorbing rays in other visible light region.例文帳に追加

従来技術の問題点を解決し、近赤外線吸収に加え、画像を不鮮明にするオレンジ光（５５０〜６２０ｎｍ領域）のみを選択的に吸収すると共に、他の可視光領域はほとんど吸収しないようにすることにより、画像を鮮明にし、同時に耐候・耐久性に優れた近赤外線吸収材料を提供する。 - 特許庁

To provide a two-photon absorption material which can perform a two-photon absorption of light rays in a wavelength region shorter than 700 nm, can perform a two-photon absorption recording material which contains the two-photon absorption material and allows two-photon absorption recording thereon using recording light in this wavelength region and has sufficient recording and reproducing characteristics, and to provide a two-photon absorption recording medium.例文帳に追加

７００ｎｍよりも短波長の領域の光を２光子吸収できる２光子吸収材料、該２光子吸収材料を含有することにより、上記波長領域の記録光を用いて２光子吸収記録でき、かつ十分な記録再生特性を有する２光子吸収記録材料、及び２光子吸収記録媒体を提供する。 - 特許庁

The pellicle film includes, on the surface of a raw material pellicle film 21 at least in an exposure light source side, an ultraviolet light absorbing layer 22 that has an average transmittance of 90% or more to the ultraviolet light with the wavelength region of 350-450 mm, and an average transmittance of 50% or less to the ultraviolet light with the wavelength region of 200-300 nm.例文帳に追加

このペリクル膜の特徴は、原料ペリクル膜２１の少なくとも露光光源側の表面に、３５０〜４５０ｎｍの波長域の紫外線に対する平均透過率が９０％以上であると共に、２００〜３００ｎｍの波長域の紫外線に対する平均透過率が５０％以下である紫外線吸収層２２が付与されてなる点にある。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor showing high sensitivity even in a wave length ranging from near ultraviolet region to the wave length region of 500 nm, having stable performance with the charge potential and the residual potential, hardly changed even in repeated use, and giving a high quality output image stably at the time of forming the image by an electrophotographic process.例文帳に追加

近紫外領域から５００ｎｍの波長域でも高感度を示し、かつ繰り返し使用しても帯電電位及び残留電位がほとんど変化せずに安定した性能を有し、電子写真プロセスにより画像形成を行う際に、安定して高品位な出力画像を与える電子写真感光体を提供すること。 - 特許庁

To prevent foreign matter from sticking to the exposure pattern region of a photomask applicable to the 157 nm photolithography technique, electron beam lithography technique and EUV (extreme-ultraviolet radiation) lithography technique when the photomask is delivered, stored and attached to a stepper after production and to make the top of the exposure pattern region free of a shielding material in exposure.例文帳に追加

１５７ｎｍの光リソグラフィ技術、電子線リソグラフィ技術及びＥＵＶリソグラフィ技術に適用可能なフォトマスクに対し、フォトマスクを製造した後、納品時や保管時、ステッパーへの装着時などに異物が露光パターン領域に付着することを防止し、且つ露光の際には露光パターン領域上に遮蔽物が存在しないようにする。 - 特許庁

To provide a simultaneous two-photon absorption recording material for performing playback with high sensitivity using a playback laser beam having a wavelength region in the vicinity of 400 to 550 nm by generating a fluorescent dyestuff having a high molar extinction coefficient in the wavelength region, and to provide a two-photon absorption optical recording and playback method and a recording medium using the same.例文帳に追加

４００〜５５０ｎｍ近傍の波長領域にモル吸光係数の大きい蛍光性色素を生成させることで、上記波長範囲の再生レーザー光を用いて高感度に再生を行うことができる同時２光子吸収記録材料、それを用いた２光子吸収光記録再生方法記録媒体を提供する。 - 特許庁

The optical element is obtained by the photopolymerization of a polymerizable composition that contains a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein the shortest wavelength λ1 in the light absorption region of the polymerizable compound to be photopolymerized and the wavelength λ2 in the longest wavelength side in the light absorption region of the photopolymerization initiator have a relation of λ2-λ1≥40 nm.例文帳に追加

光重合する重合性化合物の光吸収領域の最も短波長λ１と、光重合開始剤の光吸収領域の最も長波長側の波長λ２との間に、λ２−λ１≧４０ｎｍの関係を有する、前記重合性化合物と光重合開始剤を含む重合性組成物の光重合によって得られた光学素子。 - 特許庁

To provide a heat insulating member including a cholesteric liquid crystal layer having a high reflectance of infrared light in a wavelength region near to about 900-1,300 nm in which solar energy quantity is high and having high light transmissivity in a visible light region (i.e. having an extremely sharp reflection characteristic change) even when the number of the cholesteric liquid crystal layers is two or less.例文帳に追加

コレステリック液晶層の数が２層以下であっても、太陽エネルギー量の高い約９００〜約１３００ｎｍ付近の波長領域にある赤外線の反射率が高く、かつ、可視光線領域の光線透過率の高い（すなわち、極めて鋭い反射特性変化を有する）コレステリック液晶層を有する断熱部材を提供する。 - 特許庁

In the electrostatic charge image developing toner which includes toner particles containing a resin and a colorant, a primary particle diameter of the toner particles is 25-1,450 nm, a true density is 2.5-4.8 g/cm^3, and at least an amorphous silica region and a metal oxide region are present in each surface of external additive particles.例文帳に追加

樹脂と着色剤を含有するトナー粒子を含む静電荷像現像用トナーにおいて、該トナー粒子の一次粒子径が２５ｎｍ〜１４５０ｎｍ、真密度が２．５ｇ／ｃｍ^3〜４．８ｇ／ｃｍ^3であり、且つ、前記外添剤粒子の表面に、少なくとも無定形シリカ領域と金属酸化物領域とを有することを特徴とする静電荷像現像用トナー。 - 特許庁

Consequently, even when a distance between neighboring two contact holes is of a level so small as several tens of nm or less in a high-density cell array region, the contact holes can be well separated from each other, and a short circuit can thus be prevented between neighboring unit cells.例文帳に追加

これにより、高密度セルアレイ領域で互いに隣接した２個のコンタクトホールの間隔が数十ｎｍまたはそれ以下のレベルに小さくなっても、コンタクトホールが互いに良好に分離して隣接した単位セル間の短絡が防止される。 - 特許庁

Next, a 10 nm or less thick n-side cap layer 8A composed of different material from that of the gate electrode metal film M is formed on only the entire portion belonging to the inside of an nFET region Rn out of an upper surface of the gate electrode metal film M.例文帳に追加

次に、ゲート電極用金属膜Ｍの上面のうちでｎＦＥＴ領域Ｒｎ内に属する部分にのみ、全面的に、ゲート電極用金属膜Ｍとは異種材料の、１０ｎｍ以下の厚みのｎ側キャップ層８Ａを形成する。 - 特許庁

The refractive indexes and thickness of the first interference layer 46A and the second interference layer 46B are adjusted so that a reflection factor in a continuous wavelength region of 100 nm or more out of a light emitting band of the radiant rays R can become 0.1 or less.例文帳に追加

第１干渉層４６Ａおよび第２干渉層４６Ｂの屈折率および厚みは、輻射線Ｒの発光帯のうち連続した１００ｎｍ以上の波長領域において反射率が０．１以下になるように調整される。 - 特許庁

A carbon fiber precursor acrylic fiber bundle of the present invention has total fineness of 30000 Dtex or more, has a crystal region size along a direction perpendicular to a lengthwise direction of 13 nm or more, and has a concentration of a solvent included therein of 0.02 to 0.1 mass%.例文帳に追加

本発明の炭素繊維前駆体アクリル繊維束は、総繊度が３００００Ｄｔｅｘ以上であり、長手方向に対して垂直方向の結晶領域サイズが１３ｎｍ以上、溶剤含有濃度が０．０２〜０．１質量％である。 - 特許庁

A fragile layer is formed in a region located at the depth under 1,000 nm from the one front surface of a single crystal semiconductor substrate and a first impurity semiconductor layer, a first electrode, and an insulating layer are formed in the side of the one front surface of the single crystal semiconductor substrate.例文帳に追加

単結晶半導体基板の一表面から１０００ｎｍ未満の深さの領域に脆化層を形成し、且つ単結晶半導体基板の一表面側に第１不純物半導体層、第１電極、絶縁層を形成する。 - 特許庁