「nm region」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

There is provided the process for the production of copper phthalocyanine fine particles that is in a crystal form other than α-form and that exhibits, in the region of 380-780 nm, an absorption spectrum shape extremely similar to that of α-form copper phthalocyanine fine particles.例文帳に追加

α型とは異なる結晶型であり、且つ、３８０〜７８０ｎｍにおける吸収スペクトルがα型の吸収スペクトル形状である銅フタロシアニン微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coloring matter for the front panel of a plasma display comprising a compound selectively absorbing orange light in a region of 550-620 nm with high absorption ability and achieving a sharp image.例文帳に追加

５５０〜６２０ｎｍ領域のオレンジ光をより選択的かつ高い吸収能で吸収できる化合物を含む鮮明な画像が達成しうるプラズマディスプレイ前面パネル用色素の提供。 - 特許庁

To provide a reflective mask blank for EUV lithography having a low reflection layer which exhibits a low reflectance to the wavelength region of EUV light and the inspection light of a mask pattern, and especially exhibits low reflection characteristics to the full wavelength region (190-260 nm) of the inspection light of a mask pattern.例文帳に追加

ＥＵＶ光およびマスクパターンの検査光の波長域に対する反射率が低く、特に、マスクパターンの検査光の全波長域（１９０〜２６０ｎｍ）に対して低反射特性を示す低反射層を有するＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a photo acid generator which is greatly high in sensitivity in a region near to the UV ray region of 300 to 400 nm and can highly enhance a reaction rate, and to provide a photoreactive composition which exhibits a very short reaction time in a reaction caused by the irradiation of a near UV ray.例文帳に追加

近紫外線領域である３００〜４００ｎｍ付近での感度が非常に高く、反応速度を非常に高めることができる光酸発生剤、および近紫外線照射による反応時間が非常に短い光反応性組成物を提供すること。 - 特許庁

In an FBG section 40 that performs high cutoff filtering against optical input in excess of 40 dB in a wide band exceeding 1 nm, a photo-sensitive material having a phtosensitivity against ultraviolet rays is added in the region of a cladding 42 so as to form the chirped Bragg grating same as that in the region of the core 41.例文帳に追加

光入力に対し、１ｎｍを越える広帯域で４０ｄＢを越える高遮断のフィルタリングを行うＦＢＧ部４０であって、クラッド４２の領域に、紫外線に対して感光性を有する感光性材料を添付し、コア４１の領域と同じチャープトブラッググレーティングを形成している。 - 特許庁

A plurality of laser radars 2 which calculate a distance up to an object existing in an earth-surface region, and a plurality of ultraviolet image sensors 3 which detect short-wavelength light contained in a range at a wavelength of 190 to 500 nm so as to image the earth-surface region, are installed on both sides of the runway 1.例文帳に追加

地表領域に存在する対象物までの距離を算出するレーザ・レーダ２、及び、波長が１９０ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲に含まれる光である短波長光を検出して地表領域を撮像する紫外画像センサ３を、滑走路１の両脇に複数設置する。 - 特許庁

The phase differential layer 12 is so constituted that at least part of the selected reflection wavelength band of the selected reflected light occurring in the liquid crystal molecular structure is included in a UV region of 100 to 400 nm and that the maximum reflectivity in the UV region attains ≥30%.例文帳に追加

位相差層１２は、液晶分子構造に起因した選択反射光の選択反射波長帯域の少なくとも一部が１００〜４００ｎｍの紫外領域に含まれ、且つ、この紫外領域における最大反射率が３０％以上であるように構成されている。 - 特許庁

The optical component 100 provided with the antireflection film 50 which has an effective wavelength region in a wavelength band of red and near infrared laser beams and includes an effective wavelength region having a width of ≥100 nm in a wavelength band of blue laser beams can be obtained by optimizing the optical film thickness of each layer.例文帳に追加

各層の光学膜厚を最適化した反射防止膜５０を備えた光学部品１００は、赤色、近赤外レーザ光の波長帯域に有効波長領域を有しかつ、青色レーザ光の波長帯域に１００ｎｍ以上の幅の有効波長領域を備えることが可能となる。 - 特許庁

The optical pickup device is provided with a semiconductor laser 1 which selectively generates a laser beam at 635 nm wavelength and a laser beam at 780 wavelength and with an optical element 5, having a center region 5b where a hologram is formed and a peripheral region 5a, where a diffraction grating is formed.例文帳に追加

光ピックアップ装置は、波長６３５ｎｍのレーザビームと波長７８０ｎｍのレーザビームとを選択的に生成する半導体レーザ１と、ホログラムが形成された中央領域５ｂと、回折格子が形成された周辺領域５ａとを有する光学素子５とを備える。 - 特許庁

If the impurity concentration of the high impurity concentration region 6 is lower than 1/10 of the impurity concentration of source/drain regions at a position 30 nm inside the edge of the source/drain region, the perfect depletion type operation can be performed more efficiently and, further, the decline of the threshold voltage can be suppressed more effectively.例文帳に追加

高濃度領域６の不純物濃度が、ソース／ドレイン領域端より３０ｎｍの内側の位置で、ソース／ドレイン領域端の不純物濃度の１／１０より低ければ、完全空乏型の動作がより有効に実現し、且つ、閾値電圧の低下がより効果的に抑制される。 - 特許庁

This photosolder resist ink contains an ultraviolet ray-curing resin (A) having an ethylenically unsaturated group and carboxyl group in its side chain, a photo polymerization initiator (B), and a black pigment (C) having a reflection region in the wave length region of not shorter than 500 nm.例文帳に追加

上記の課題は（Ａ）側鎖にエチレン性不飽和基とカルボキシル基とを有する紫外線硬化性樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、および（Ｃ）５００ｎｍ以上の波長領域に反射領域を有する黒色顔料を含むことを特徴とするフォトソルダーレジストインクとすることによって解決される。 - 特許庁

On the other hand, a high absorption region which is characteristic with respect to melanin exists at a position where a wavelength ranges from 400 to 450 nm, and since this range is pertinent to the wavelength of a B component among the RGB components in this region, an image where oxygenated hemoglobin is emphasized is generated by using this characteristic.例文帳に追加

一方、波長が４００〜４５０ｎｍの位置には、メラニンに対して特徴的な高吸収領域が存在し、この領域では、ＲＧＢ成分のうち、Ｂ成分の波長に該当するため、この特性を用いて酸化ヘモグロビンを強調した画像を生成する。 - 特許庁

The product of the refractive index (n) and the layer thickness(d) of the second dielectric layer 16 satisfies (nd)>130 nm so that the reflectance Ra of the amorphous phase region and the reflectance Rc in the crystal phase region in the recording layer 14 always have the relation of Ra>Rc.例文帳に追加

ここでは、第２誘電体層１６の屈折率ｎとその層厚ｄとの積ｎｄが ｎｄ＞１３０ｎｍ を満足するため、記録層１４のアモルファス相領域の反射率Ｒａと結晶相領域の反射率Ｒｃとの間には、 Ｒａ＞Ｒｃ が常に成立している。 - 特許庁

Particularly the carrier has at least one projection in each 100 nm×100 nm region of the surfaces of the carrier particles or the horizontal distance between a projection on the surfaces of the carrier particles and a recess adjacent to the projection is ≥3 nm or the surface coating layers of the carrier particles contain a compound having a siloxane bond skeleton in the principal chain and/or a side chain.例文帳に追加

特に、キャリア粒子表面の１００ｎｍ×１００ｎｍ領域内に少なくとも１個の凸部を有すること、またはキャリア粒子表面の凸部とこれに隣接する凹部の水平距離が３ｎｍ以上であること、或いはキャリア粒子表面のコート層が主鎖および／または側鎖にシロキサン結合骨格を有する化合物を含有することを特徴とする上記電子写真用キャリア。 - 特許庁

To provide an ultraviolet rays absorption polymer film capable of transmitting nearly all light in >400 nm wavelength region and shielding nearly all light in <400 nm wavelength region, a polarizer element effectively protected by this kind of ultraviolet rays absorption polymer film and an LCD(liquid crystal display) comprising the polarizer protected from deterioration caused by ultraviolet rays irradiation.例文帳に追加

４００ｎｍより長い波長領域におけるほとんど全ての光を透過させ且つ４００ｎｍより短い波長領域におけるほとんど全ての光を遮断することが可能な紫外線−吸収重合体フィルム、そのような紫外線−吸収重合体フィルムにより効果的に保護される偏光子要素、並びに紫外線−照射による劣化に対して保護される偏光子を含んでなるＬＣＤを提供すること。 - 特許庁

The coating liquid for generating polarizing film includes a lyotropic liquid crystal compound (A) having optical absorption property in a visible light region of ≥400 nm wavelength, a lyotropic liquid crystal compound (B) having no or low optical absorption property in a visible light region of ≥400 nm wavelength, and a solvent which dissolves the lyotropic liquid crystal compound (A) and the lyotropic liquid crystal compound (B).例文帳に追加

波長４００ｎｍ以上の可視光領域で光吸収特性を有するリオトロピック液晶化合物（Ａ）と、波長４００ｎｍ以上の可視光領域で光吸収特性を有しないか又は光吸収特性が小さいリオトロピック液晶化合物（Ｂ）と、前記リオトロピック液晶化合物（Ａ）及びリオトロピック液晶化合物（Ｂ）を溶解する溶媒とを含む偏光膜生成用コーティング液。 - 特許庁

An average pitch of fine surface projection and recession of the reflection electrode 31 is controlled to be 1 μm or less, and reflectance in a wavelength region of 200-400 nm is controlled to be 90% or more of reflectance at the wavelength of 400 nm, by forming a metal film constituting the reflection electrode 31 at 170°C or below.例文帳に追加

反射電極３１を構成する金属膜の成膜温度を１７０℃以下で行うことにより、反射電極３１の微細な表面凹凸の平均ピッチを１μｍ以下に制御し、波長域２００ｎｍ〜４００ｎｍでの反射率を波長４００ｎｍでの反射率の９０％以上とする。 - 特許庁

To provide a resin composition for a filter of a face image photographing device such as a face direction detection device and a face authentication device, which blocks visible light and a light ray in the near-infrared region of 850 nm or shorter vaguely recognizable with human eyes and which transmits the near-infrared light of the wavelength side longer than 850 nm.例文帳に追加

可視光及び人間の眼でかすかに認識できる８５０ｎｍ以下の近赤外領域の光線を遮蔽し、８５０ｎｍより長波長側の近赤外線を透過させる、顔向き検知装置や顔認証装置等の顔面像撮影装置のフィルター用樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is suitable for a lithographic printing original plate having high sensitivity to the oscillation wavelength of an inexpensive short wave semiconductor laser, and which uses a new photoinitiation system having high sensitivity in a wide wavelength region from 350 nm to 450 nm, excellent plate wear and favorable handling property in a bright room.例文帳に追加

安価な短波半導体レーザの発振波長に対し高感度な平版印刷版用原版等に適した、３００ｎｍから４５０ｎｍの広い範囲の波長に対し高感度を有し、かつ耐刷性に優れ、また明室取り扱い性が良好な新規な光開始系を用いた感光性組成物を提供する。 - 特許庁

Average pitch of the fine surface ruggedness of the reflection electrode 31 is controlled to be ≤1 μm and the reflectance in 200-400 nm wavelength region is specified to be ≥90% of the reflectance at 200 nm wavelength by film-depositing the metal film to be the reflection electrode 31 at ≤170°C.例文帳に追加

反射電極３１を構成する金属膜の成膜温度を１７０℃以下で行うことにより、反射電極３１の微細な表面凹凸の平均ピッチを１μｍ以下に制御し、波長域２００ｎｍ〜４００ｎｍでの反射率を波長４００ｎｍでの反射率の９０％以上とする。 - 特許庁

An average pitch of fine surface irregularity of the reflective electrode 31 is controlled to 1μm or less, and a reflectance in a wavelength region of 200-400 nm is controlled to 90% or more at that of the wavelength of 400 nm, by forming the metallic film constituting the electrode 31 at 170°C or below.例文帳に追加

反射電極３１を構成する金属膜の成膜温度を１７０℃以下で行うことにより、反射電極３１の微細な表面凹凸の平均ピッチを１μｍ以下に制御し、波長域２００ｎｍ〜４００ｎｍでの反射率を波長４００ｎｍでの反射率の９０％以上とする。 - 特許庁

The globe 3 is made of a translucent material with transmissivity with respect to light having a wavelength of 550 nm or above adjusted to attenuate relative emission intensity of light having a wavelength of 550 nm or above in the emission spectrum of the neutral-white fluorescent lamp 2 while at the same time amplifying relative emission intensity of light having a wavelength in a blue light region.例文帳に追加

グローブ３は、昼白色の蛍光ランプ２の発光スペクトルにおける波長５５０ｎｍ以上の相対発光強度を減衰させ、青色光領域の波長の相対発光強度を増幅させるよう、波長５５０ｎｍ以上の光の透過率が調整された透光性材料から構成されている。 - 特許庁

The silver halide photographic element comprises a light- sensitive silver halide emulsion layer having associated therewith a coupler that forms a dye for which the λ_max using spin-coating is shifted towards the infrared region of the spectrum by at least 30 nm, when compared to the λ_max of the same dye in solution form, to a value of at least 700 nm.例文帳に追加

スピン塗工法を用いたλ_maxが、溶液形態の同じ色素のλ_maxと比較したときに、少なくとも３０ｎｍスペクトルの赤外領域に向かってシフトして少なくとも７００ｎｍの値になる色素を形成するカプラーを関連して有する感光性ハロゲン化銀乳剤層を含んで成るハロゲン化銀写真要素。 - 特許庁

The method for disinfecting harmful bacteria in a diatom-containing culture is provided and comprises a process for irradiating a diatom with at least one visible light having a band width of ≤100 nm, preferably having a central wavelength in a wavelength region of 410-780 nm.例文帳に追加

本発明はまた、珪藻を含む培養物中の有害細菌の殺菌方法も提供し、該方法は、珪藻に、１００ｎｍ以下の帯域幅を有する少なくとも１つの可視光を照射する工程を含み、好ましくは、該可視光は４１０〜７８０ｎｍの波長領域内に中心波長を有する。 - 特許庁

The TFT 10 has the base insulating layer 2 in which boron is contained in a region of 100 nm or smaller from the surface of the insulating substrate 1 in a way that a boron concentration decreases at an average rate of almost 1/1,000 times or smaller per 1 nm from the surface of the insulating substrate 1 to the semiconductor layer 3.例文帳に追加

開示されるＴＦＴ１０は、下地絶縁層２に、絶縁性基板１表面から略１００ｎｍ以内の領域に、絶縁性基板１表面から半導体層３に向かってボロン濃度が平均的に１ｎｍあたり略１／１０００倍以下の割合で減少するようにボロンが含まれている。 - 特許庁

The glass ceramic of which the surface roughness Ra without grinding is <50 nm, the thermal expansion at 20-300°C is <1.2×10^-6/K and the transmittance is >85% at near-infrared region of 1050 nm and thickness of 4 mm contains β-quartz and/or keatite solid solution.例文帳に追加

研磨することなく表面粗度Ｒａが＜５０ｎｍ、２０〜３００℃の温度範囲で熱膨張が＜１．２×１０^-6／Ｋ、近赤外領域における透過率が１０５０ｎｍにおいて、厚みが４ｍｍで＞８５％である、ベータ石英および／またはキータイト固溶体を含み、次の組成（質量％）を含を有する。 - 特許庁

The flash discharge lamp is provided with an arc tube made of a material having a light-transmitting region in a wavelength range of 200 nm or less, and a light-beam absorbing layer having absorption characteristics on light with a wavelength of 200 nm or less with yttrium oxide as a main component is fitted on an outer surface of the arc tube.例文帳に追加

本発明の閃光放電ランプは、２００ｎｍ以下の波長範囲に光透過域を有する材料よりなる発光管を備え、この発光管の外表面に、酸化イットリウムを主成分とする、波長が２００ｎｍ以下の光に対して吸収特性を有する光線吸収層が設けられた構成とされている。 - 特許庁

To provide an optical compensation laminate film having reverse dispersion properties sufficient to achieve an ideal phase difference (λ/4 (nm)) throughout a visible-light region and capable of suppressing degradation in optical compensation performance at high temperature.例文帳に追加

可視光領域の全域において理想の位相差（λ／４（ｎｍ））を実現できる充分な逆分散性を有し、更に高温下での光学補償性能の劣化を抑制できる光学補償積層フィルムを提供する。 - 特許庁

The method for making the tomato fruit sugar content higher as the tomato fruit weight becomes larger includes to irradiate a tomato after a light period, with light whose light intensity of red light in a 600-700 nm wavelength region is the strongest.例文帳に追加

トマト果実の重量が大きくなるほど前記トマト果実の糖度を高めるには、トマトに対し、明期終了後、６００〜７００ｎｍの波長域の赤色光の光強度が最も強い光を照射する。 - 特許庁

A raster input scanner 102, which is a photosensitive imaging device for recoding images across the entire visible spectrum, is provided with a set of photosensors which have a peak response around the orange region (about 600 nm) of the spectrum.例文帳に追加

全可視スペクトルにわたる画像を記録する感光性画像形成装置であるラスタ入力スキャナ１０２は、スペクトルのオレンジ部分（約６００ｎｍ）の近くでピーク応答をもつ一組の光センサ１６を備える。 - 特許庁

It is preferable that the coloring matter to be blended is a dye, an organic pigment having the maximal absorption wavelength (λmax) of a visible region in 500-700 nm, or a carbon black of which the surface has been treated so as to acquire hydrophobicity.例文帳に追加

配合する色素は、可視光領域での極大吸収波長（λｍａｘ）が５００〜７００ｎｍにある染料や有機顔料、あるいは、表面を疎水性に処理されたカーボンブラックなどであると良い。 - 特許庁

An intermediate composition region having an intermediate composition of a metal composition and oxide composition in a chemical conversion coating of a valve metal is formed at a thickness above 40 nm so as to suppress the movement of the oxygen atoms in the chemical conversion coating.例文帳に追加

弁金属の化成膜中の酸素原子の移動を抑制するように、化成膜中に金属組成と酸化物組成との中間組成を有する中間組成領域を、４０ｎｍ以上の厚さに形成する。 - 特許庁

To provide a reflective aliphatic polyester resin film which demonstrates good light reflection performance even in a short wavelength region in the vicinity of 400 nm, and is used in a reflector such as a liquid crystal display.例文帳に追加

液晶表示装置等の反射板に使用される脂肪族ポリエステル系樹脂反射フィルムにおいて、４００ｎｍ付近の短波長領域においても良好な光反射性能を発揮する反射フィルムを提供する。 - 特許庁

To solve the problem that, in optical components used in a short wavelength region of 300 nm or less, even in cases where almost no metallic impurities such as CeO_2 are detected and the surface roughness is less than 1ÅRMS, the transmittance may still be lower by 0.5% or more than a theoretical transmittance.例文帳に追加

ＣｅＯ_2などの金属不純物がほとんど検出されず、かつ表面粗さも１ÅＲＭＳ以下であっても、理論透過率より０．５％以上も透過率が低いことがあり、問題となる。 - 特許庁

A metal layer is disposed on a rear surface of a transparent film where transparent resin is held on a base material of glass fiber, and the reflectance in a visible light region of 400-780 nm is 95% or higher.例文帳に追加

ガラス繊維の基材に透明樹脂が保持されている透明フィルムの背面に金属層を有し、４００〜７８０ｎｍの可視光領域における反射率が９５％以上であることを特徴とする。 - 特許庁

The ultraviolet semiconductor light emitting element having a luminescent wavelength in an ultraviolet region of 200 to 300 nm includes a light emitting layer 4 between an n-type nitride semiconductor layer 3 and a p-type nitride semiconductor layer 5.例文帳に追加

２００ｎｍ〜３００ｎｍの紫外域に発光波長を有する紫外半導体発光素子であって、ｎ形窒化物半導体層３とｐ形窒化物半導体層５との間に発光層４を有する。 - 特許庁

In case the ultraviolet ray emitted from the metal halide lamp is irradiated onto a curing agent with a photoinitiator having an absorption wavelength region from 280 to 320 nm contained, the rate of curing can be increased.例文帳に追加

このメタルハライドランプから発光される紫外線を、２８０〜３２０ｎｍの間に吸収波長域をもつ光開始剤が含有された硬化剤に照射させた場合に、硬化速度の速めることが可能となる。 - 特許庁

In case the ultraviolet ray emitted from the metal halide lamp is irradiated onto a curing agent with a photoinitiator having an absorption wavelength region from 320 to 380 nm contained, the rate of curing can be increased.例文帳に追加

このメタルハライドランプから発光される紫外線を、３２０〜３８０ｎｍの間に吸収波長域をもつ光開始剤が含有された硬化剤に照射させた場合に、硬化速度の速めることが可能となる。 - 特許庁

To provide a method of producing a MgIn_2O_4 material capable of significantly decomposing organic materials in a visible light wavelength region of not less than 400 nm by a simpler method.例文帳に追加

より簡便な方法で、波長が４００ｎｍ以上の可視光領域において、有機物の分解を有意に行うことが可能な、ＭｇＩｎ_２Ｏ_４材料を製造するための方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Alternatively, the number of nitrogen compounds of 10 to 200 nm in the region within 3 μm to the sheet thickness direction from the sheet surface is controlled to ≥2 times compared with the number of the nitrogen compounds with the above dimensions in the central part of the sheet thickness.例文帳に追加

または板表面から板厚方向３μm以内の領域における10nm以上200nm以下の窒素化合物の個数が、板厚中心部の前記大きさの窒素化合物の個数に比較して、２倍以上とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which an LaO film is etched with high precision to leave an LaO film in a predetermined region in a microstructure like a CMOS semiconductor device after hp45 nm.例文帳に追加

ｈｐ４５ｎｍ以降のＣＭＯＳ半導体装置のような微細構造において、ＬａＯ膜を高精度でエッチングして所定の領域にＬａＯ膜を残すことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device having the MOS structure where the gate insulating film with thickness of 100 nm or thicker is formed by LPCVD process on the surface of a region containing boron as a dopant element.例文帳に追加

不純物元素としてボロンを含有する領域の表面に、１００ｎｍ以上の厚さのゲート絶縁膜がＬＰＣＶＤ法により形成されるＭＯＳ構造を有する半導体装置の製造方法とする。 - 特許庁

To enable recording and reproduction of information with a beam of light with a wavelength of ≤500 nm, and to enable retention of a recording region before recording and after recording under a stable condition.例文帳に追加

波長５００ｎｍ以下の光によって情報の記録及び再生が可能であり、かつ、記録前及び記録後における記録領域を安定した状態で保持することのできる追記型光記録媒体を提供する。 - 特許庁

A reflection suppressing layer 202 of light having a wavelength region ranging from at least 400 to 800 nm is provided between the projecting part 201 formed by a resin layer and the base material 200 supporting the projecting part 201.例文帳に追加

樹脂層により形成される凸部２０１と凸部２０１を支持する基材２００との間に少なくとも４００ｎｍから８００ｎｍの波長領域の光の反射抑制層２０２を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a rare earth-activated metal aluminate-based phosphor which has an excitation band in the near ultraviolet region of wavelengths of around 400 nm and emits light highly efficiently.例文帳に追加

波長４００ｎｍ付近の近紫外域に励起帯を有して高効率な光を発光する蛍光体を製造することができる希土類付活金属アルミネート系蛍光体の製造方法を提供する。 - 特許庁