p-n junctionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 625件
A bypass capacitor C1 is formed by a P-N junction between an N-type well region 2e and a P-type substrate 2, on the side of an analog circuit block 20.例文帳に追加
アナログ回路ブロック20側では、Nウェル領域2eとP基板2との間のPN接合によりバイパスコンデンサC1を形成する。 - 特許庁
An N-type semiconductor 2 and a P-type semiconductor 3 are laminated on a substrate 1 made of a compound semiconductor to form a P-N junction 4.例文帳に追加
化合物半導体から成る基板1にN形半導体2、P形半導体3を積層してPN接合部4を形成する。 - 特許庁
Further, at least one n/p or p/n junction which is, provided between the first and second junctions, arrayed laterally there, and at least one gate terminal G contacting the p-or n-doped region of the first junction or n- or p-doped region of the second junction, are provided.例文帳に追加
それはまた、第一および第二接合の間に配置され、そこに横方向に配列されている少なくとも一つのn/pまたはp/n接合と、第一接合のpまたはnドープされた領域または第二接合のnまたはpドープされた領域に接触している少なくとも一つのゲート端子とを含む。 - 特許庁
The second clad layer 21 and the third clad layer 23 make up a p-n junction 27.例文帳に追加
第2のクラッド層21及び第3のクラッド層23はpn接合27を構成する。 - 特許庁
The terminal resistor 130 is integrated on the same chip with the p-n junction structure.例文帳に追加
終端抵抗器130は、pn接合構造と同一のチップに集積されている。 - 特許庁
To reduce the voltage dependency of a capacitance element and increase the p-n junction breakdown voltage thereof.例文帳に追加
容量素子の電圧依存性を小さくすると共に、PN接合耐圧を向上する。 - 特許庁
To provide the subject microscope capable of observing fine P-N junction in an LSI.例文帳に追加
LSI中の微細なpn接合を観察可能とする顕微鏡装置の提供。 - 特許庁
An inclination side 11 is formed on a silicon semiconductor substrate having a P-N junction 12.例文帳に追加
PN接合12を有するシリコン半導体基体2に傾斜側面11を形成する。 - 特許庁
A p-n junction diode of the n+ doped polysilicon region 22 and p+ doped polysilicon region 21b functions as a temperature detecting element 17.例文帳に追加
n^+ ドープドポリシリコン領域22とp^+ドープドポリシリコン領域21bとで構成されるpn接合ダイオードが温度検知素子17として機能する。 - 特許庁
This P-N junction light emitting element is formed by sequentially forming an N-type GaN layer 12, an N-type GaN-based layer 14, and a P-type GaN-based layer 16 on a sapphire substrate 10.例文帳に追加
サファイア基板10上に順次N型GaN層12、N型GaN系層14、P型GaN系層16を形成し、PN接合型発光素子を形成する。 - 特許庁
In this case, a forward bias voltage is impressed upon the p-n junction between the emitter and base and light hν having a wavelength corresponding to the band gap of the p-n junction is emitted.例文帳に追加
この場合に、エミッタ・ベース間のpn接合に対して順方向のバイアスが印加された状態となり、pn接合部のバンドギャップに応じた波長の光hνを放出する。 - 特許庁
The back gate region BG forms p-n junction with the epitaxial layer EP, and is a second conductivity type one.例文帳に追加
バックゲート領域BGはエピタキシャル層EPとpn接合を構成し、第2導電型である。 - 特許庁
When an electric current flows to the P-N junction, infrared rays are emitted by recoupled minority carriers.例文帳に追加
このPN接合部は、電流が流れると、少数キャリアの再結合で赤外線を発光する。 - 特許庁
A PN junction is formed between a P+-InAsP window layer 6 and the N- InAsP window layer 4.例文帳に追加
pn接合は、p^+−InAsP窓層6とn−InAsP窓層4との間に形成される。 - 特許庁
The alternate hetero-junction layer 5 is sandwiched by the p-type layer 1 and the n-type layer 2.例文帳に追加
当該交互ヘテロ接合層5は、p型層1とn型層2とにより挟持されている。 - 特許庁
Each tunnel junction structure includes a p-type lower layer 20 and an n-type upper layer 21.例文帳に追加
各トンネル接合構造は、p型の下部層20とn型の上部層21とを含んでいる。 - 特許庁
Based on the results of analysis, an amount of electron injected to the p-n junction 13 is specified.例文帳に追加
その解析結果により、pn接合13に入射した中性子量が特定される。 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING THIN FILM OF COPPER-ALUMINUM OXIDE SEMICONDUCTOR AND p-n JUNCTION STRUCTURE USING IT例文帳に追加
銅・アルミ酸化物半導体薄膜の製造方法及びこれを用いたpn接合構造 - 特許庁
To provide a back junction type solar cell having fine p-type and n-type regions.例文帳に追加
微細なp型領域とn型領域とを有する裏面接合型の太陽電池を提供する。 - 特許庁
A p-n junction multilayer structure is then formed atop the roughened substrate surface to form the LED.例文帳に追加
そして、pn接合多層構造が基板粗面上に形成されて、LEDが形成される。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING P-N JUNCTION IN SEMICONDUCTOR MODULE, FLAME DETECTOR, MOS TRANSISTOR AND IMAGE SENSOR例文帳に追加
半導体モジュールにおけるpn接合の製造方法、炎検知器、MOSトランジスタおよびイメージセンサ - 特許庁
To provide an optical semiconductor element which reduces inductance and capacitance generated between a terminal resistor and a p-n junction.例文帳に追加
終端抵抗器とpn接合との間に生じるインダクタンスやキャパシタンスを低減する。 - 特許庁
METHOD OF PROCESSING HIGH VOLTAGE p++/n- WELL JUNCTION AND DEVICE OBTAINED THEREOF例文帳に追加
高耐圧p++/n−ウエル接合部を処理形成する方法および該方法によって得られた装置 - 特許庁
Since a P-N junction is not formed in the lattice defect regions 53 and 54, the parasitic capacity among the N+ region 14 and the P+ regions 15 and 16 is reduced.例文帳に追加
格子欠陥領域53、54にはPN接合が形成されないので、N^+領域14とP^+領域15、16との間の寄生容量が少ない。 - 特許庁
Thus, a p-n junction in the protective diode 1 is constituted of the side face of the p+ type diffusion region 16 and the n+ type diffusion region 4a.例文帳に追加
このため、保護ダイオード1におけるpn接合は、上記p+型拡散領域16の側面と、上記n+型拡散領域4aとで構成される。 - 特許庁
Then, the former is made into a p-type conversion material, and the latter is made into an n-type conversion material, and they are subjected to p-n junction, so as to compose a thermoelectric element.例文帳に追加
そして前者はp型の変換材料、後者はn型の変換材料となり、これらをp−n接合し、熱電変換素子が構成される。 - 特許庁
This manufacturing method of polycrystalline or microstalline TFTs is achieved by doping a certain part of a channel n-type and a certain part of a channel p-type, whereby a p-n junction is formed within a channel.例文帳に追加
これは、n型のある部分およびp型のある部分をドーピングすることにより達成され、それによりp-n接合をチャネル内に形成する。 - 特許庁
In this evaluation method, a p-n junction diode for evaluation has a shape, where long line shaped many p-n junction regions 1 are bound with a contact and its upper wiring 3 and are then guided to an electrode pad 4.例文帳に追加
評価用pn接合ダイオ−ドは細長い線状の多数のpn接合領域1がコンタクト及びその上部配線3によって束ねられて電極パッド4に導かれた形状をしている。 - 特許庁
A p-type second semiconductor region 13 forming a p-n junction and an n-type first semiconductor region 14 are formed within an n-type silicon substrate 11.例文帳に追加
n型のシリコン基板11の内部にpn接合を構成するp型の第2半導体領域13と、高不純物密度でn型の第1半導体領域14とが形成される。 - 特許庁
The p-type dopant diffused region becomes a p-type semiconductor layer 3, and this forms a p-n junction 17 between the two layers 4 and 3.例文帳に追加
これにより、p型ドーパントが拡散された領域がp型半導体層3とされ、n型半導体層4との間でp−n接合部17が形成される。 - 特許庁
When the semiconductor depletion layer capacitor is used, the dopant density in the vicinity of a junction of a P-N junction or the like is made higher than that of a region isolated from the junction.例文帳に追加
半導体空乏層容量を用いる場合には、pn接合等の接合近傍のドーパント密度を、接合から離れた領域のドーパント密度よりも高くしておく。 - 特許庁
The p-type diffusion layer forms n-type diffusion layers 19, 40, and the pn junction region.例文帳に追加
一方、P型の拡散層は、N型の拡散層19、40とPN接合領域を形成している。 - 特許庁
The pin junction 100 is obtained by stacking an n-layer 13, an i-layer 14 and a p-layer 15 in this order.例文帳に追加
pin接合100は、n層13、i層14、及びp層15をこの順に積層して得る。 - 特許庁
Then, impurity diffusion is conducted on the polycrystalline silicon substrate 1, and p-n junction part is formed after etching.例文帳に追加
エッチング後、多結晶シリコン基板1に対して不純物拡散を行ってpn接合部を形成する。 - 特許庁
A P-N junction is formed between the first semiconductor region 12 and the second semiconductor region 13A.例文帳に追加
第1半導体領域12と第2半導体領域13Aとの間にPNジャンクションが形成される。 - 特許庁
P-N JUNCTION BORON PHOSPHIDE SEMICONDUCTOR LIGHT- EMITTING ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD AND LIGHT SOURCE FOR DISPLAY DEVICE例文帳に追加
pn接合型リン化硼素系半導体発光素子、その製造方法および表示装置用光源 - 特許庁
By this oxidation, the depth of pn junction made between the P well 6 and the N-type region 6 becomes shallow.例文帳に追加
この酸化により、Pウェル5とN型領域6で形成されるpn接合深さが浅くなる。 - 特許庁
NONVOLATILE MEMORY CELL WITH P-N JUNCTION FORMED IN POLYSILICON FLOATING GATE, AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加
ポリシリコン浮遊ゲートにPN接合を形成した不揮発性メモリ・セル及びそのメモリ・セルを製造する方法 - 特許庁
Thus, the P-N junction surface 5 is tilted against the bottom surface 1B of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加
したがって、このPN接合面5は、半導体基板1の底面1Bに対して傾斜している。 - 特許庁
The diode (50) is formed by pn-junction of the p^+-diffusion layer and the n-type high concentration layer.例文帳に追加
p^+拡散層とN型高濃度層との間のpn接合によってダイオード(50)を構成する。 - 特許庁
A PN junction is implemented at the contact portion between the P-type semiconductor film and the interconnector (N-type semiconductor).例文帳に追加
P型半導体膜とインターコネクタ(N型半導体)との接合部において、「PN接合」が実現される。 - 特許庁
Between the drain layer 9 and the embedded layer 11, a high-concentration P-N junction is formed.例文帳に追加
N+型ドレイン層9とP+型埋め込み層11との間で、濃度の高いPN接合が形成される。 - 特許庁
To provide a semiconductor device that can surely perform an ON/OFF control in a vertical P-N junction.例文帳に追加
縦型PN接合において確実にオン/オフの制御をすることができる半導体装置を提供する。 - 特許庁
NITRIDE SEMICONDUCTOR LASER HAVING LATERAL P-N JUNCTION FORMED BY SINGLE ELOG GROWTH例文帳に追加
単一のELOG成長により形成される横方向のp−n接合を有する窒化物半導体レーザ - 特許庁
Pn junction J is formed by the second n-type semiconductor layer 19 and the p-type semiconductor layer 17.例文帳に追加
第2のn型半導体層19とp型半導体層17とはpn接合Jを形成する。 - 特許庁
The solar cell includes a substrate having a light collecting surface and a P-N rectifying junction.例文帳に追加
本発明の太陽電池は、光受容表面及びP−N整流接合を有する基板を含む。 - 特許庁
In a semiconductor device having a PN junction part, a low concentration substrate junction of a p^+ layer and an n^- layer steep in impurity concentration gradient is formed, and a diffusion layer of a p^- layer in a low concentration is formed by making a surface concentration low and diffusing deeply so that it does not make a junction with the n^- layer of the substrate.例文帳に追加
PN接合部を有する半導体装置において、不純物濃度勾配の急峻なp^+層とn^-層の低濃度基板接合を形成し、低濃度のp^-層の拡散層を基板のn-層と接合ができないように表面濃度を薄く、深く拡散させて形成した。 - 特許庁
On the surface 1A, an N-type semiconductor layer 2 and a P-type semiconductor layer 3 are sequentially grown epitaxially to form a P-N junction surface 5 which contributes to light emission.例文帳に追加
この表面1A上に、N型半導体層2およびP型半導体層3を順にエピタキシャル成長させて、発光に寄与するPN接合面5が形成されている。 - 特許庁
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