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「p-n-p junction」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索
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p-n-p junctionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 625



例文

In a diode, having a function of a P-type layer and an N-type layer, the P-type layer has a main junction part a, and a junction part having density different from that at the main junction part a.例文帳に追加

P型層とN型層が接合されたダイオードにおいて、P型層は、メイン接合部a、及びメイン接合部aとは濃度が異なる接合部を有する。 - 特許庁

Further, at least one n/p or p/n junction which is, provided between the first and second junctions, arrayed laterally there, and at least one gate terminal G contacting the p-or n-doped region of the first junction or n- or p-doped region of the second junction, are provided.例文帳に追加

それはまた、第一および第二接合の間に配置され、そこに横方向に配列されている少なくとも一つのn/pまたはp/n接合と、第一接合のpまたはnドープされた領域または第二接合のnまたはpドープされた領域に接触している少なくとも一つのゲート端子とを含む。 - 特許庁

A p-n junction diode of the n+ doped polysilicon region 22 and p+ doped polysilicon region 21b functions as a temperature detecting element 17.例文帳に追加

n^+ ドープドポリシリコン領域22とp^+ドープドポリシリコン領域21bとで構成されるpn接合ダイオードが温度検知素子17として機能する。 - 特許庁

For an N-type ZnO, Al doped is used to form a p-n junction, thus obtaining a light-emitting element.例文帳に追加

N型ZnOとしてはAlをドープしたものを用いてPN接合を形成し発光素子を得る。 - 特許庁

例文

The second clad layer 21 and the third clad layer 23 make up a p-n junction 27.例文帳に追加

第2のクラッド層21及び第3のクラッド層23はpn接合27を構成する。 - 特許庁


例文

The p^+ type anode layer 15 and the n^- type base layer 14 form a pn junction.例文帳に追加

上記p^+型アノード層15とn^−型ベース層14でpn接合を形成する。 - 特許庁

The terminal resistor 130 is integrated on the same chip with the p-n junction structure.例文帳に追加

終端抵抗器130は、pn接合構造と同一のチップに集積されている。 - 特許庁

To reduce the voltage dependency of a capacitance element and increase the p-n junction breakdown voltage thereof.例文帳に追加

容量素子の電圧依存性を小さくすると共に、PN接合耐圧を向上する。 - 特許庁

To provide the subject microscope capable of observing fine P-N junction in an LSI.例文帳に追加

LSI中の微細なpn接合を観察可能とする顕微鏡装置の提供。 - 特許庁

例文

An inclination side 11 is formed on a silicon semiconductor substrate having a P-N junction 12.例文帳に追加

PN接合12を有するシリコン半導体基体2に傾斜側面11を形成する。 - 特許庁

例文

This P-N junction light emitting element is formed by sequentially forming an N-type GaN layer 12, an N-type GaN-based layer 14, and a P-type GaN-based layer 16 on a sapphire substrate 10.例文帳に追加

サファイア基板10上に順次N型GaN層12、N型GaN系層14、P型GaN系層16を形成し、PN接合型発光素子を形成する。 - 特許庁

Since a P-N junction is not formed in the lattice defect regions 53 and 54, the parasitic capacity among the N+ region 14 and the P+ regions 15 and 16 is reduced.例文帳に追加

格子欠陥領域53、54にはPN接合が形成されないので、N^+領域14とP^+領域15、16との間の寄生容量が少ない。 - 特許庁

Thus, a p-n junction in the protective diode 1 is constituted of the side face of the p+ type diffusion region 16 and the n+ type diffusion region 4a.例文帳に追加

このため、保護ダイオード1におけるpn接合は、上記p+型拡散領域16の側面と、上記n+型拡散領域4aとで構成される。 - 特許庁

Then, the former is made into a p-type conversion material, and the latter is made into an n-type conversion material, and they are subjected to p-n junction, so as to compose a thermoelectric element.例文帳に追加

そして前者はp型の変換材料、後者はn型の変換材料となり、これらをp−n接合し、熱電変換素子が構成される。 - 特許庁

This manufacturing method of polycrystalline or microstalline TFTs is achieved by doping a certain part of a channel n-type and a certain part of a channel p-type, whereby a p-n junction is formed within a channel.例文帳に追加

これは、n型のある部分およびp型のある部分をドーピングすることにより達成され、それによりp-n接合をチャネル内に形成する。 - 特許庁

The N- diffusion layer 17b does not cover the N+ diffusion layer 17a at a junction part (2), and the N+ diffusion layer 17a is joined to the P+- well 9 at the junction part (2).例文帳に追加

N^-拡散層17bは接合部分 でN^+拡散層17aを覆っておらず、N^+拡散層17aは接合部分 でP^+-ウエル9と接合している。 - 特許庁

In this case, a forward bias voltage is impressed upon the p-n junction between the emitter and base and lighthaving a wavelength corresponding to the band gap of the p-n junction is emitted.例文帳に追加

この場合に、エミッタ・ベース間のpn接合に対して順方向のバイアスが印加された状態となり、pn接合部のバンドギャップに応じた波長の光hνを放出する。 - 特許庁

In the outer peripheral part of the base layer 2, a p-type RESURF layer 5 of low concentration is formed and relieves an electric field in a p-n junction part.例文帳に追加

p型ベース層2の外周部には、低濃度のp型リサーフ層5が形成され、pn接合部での電界緩和を行っている。 - 特許庁

The p-n junction diode 20 is constituted of a p-type silicon substrate 21 and a heavily doped region 23, formed by heavily doping n-type impurities on the surface of the p-type silicon substrate 21.例文帳に追加

pn接合ダイオード20は、p型シリコン基板21と、p型シリコン基板21の表面にn型不純物が高濃度にドープされて形成される高濃度不純物領域23とから構成されている。 - 特許庁

The back gate region BG forms p-n junction with the epitaxial layer EP, and is a second conductivity type one.例文帳に追加

バックゲート領域BGはエピタキシャル層EPとpn接合を構成し、第2導電型である。 - 特許庁

When an electric current flows to the P-N junction, infrared rays are emitted by recoupled minority carriers.例文帳に追加

このPN接合部は、電流が流れると、少数キャリアの再結合で赤外線を発光する。 - 特許庁

A PN junction is formed between a P+-InAsP window layer 6 and the N- InAsP window layer 4.例文帳に追加

pn接合は、p^+−InAsP窓層6とn−InAsP窓層4との間に形成される。 - 特許庁

The alternate hetero-junction layer 5 is sandwiched by the p-type layer 1 and the n-type layer 2.例文帳に追加

当該交互ヘテロ接合層5は、p型層1とn型層2とにより挟持されている。 - 特許庁

Each tunnel junction structure includes a p-type lower layer 20 and an n-type upper layer 21.例文帳に追加

各トンネル接合構造は、p型の下部層20とn型の上部層21とを含んでいる。 - 特許庁

Based on the results of analysis, an amount of electron injected to the p-n junction 13 is specified.例文帳に追加

その解析結果により、pn接合13に入射した中性子量が特定される。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING THIN FILM OF COPPER-ALUMINUM OXIDE SEMICONDUCTOR AND p-n JUNCTION STRUCTURE USING IT例文帳に追加

銅・アルミ酸化物半導体薄膜の製造方法及びこれを用いたpn接合構造 - 特許庁

To provide a back junction type solar cell having fine p-type and n-type regions.例文帳に追加

微細なp型領域とn型領域とを有する裏面接合型の太陽電池を提供する。 - 特許庁

A p-n junction multilayer structure is then formed atop the roughened substrate surface to form the LED.例文帳に追加

そして、pn接合多層構造が基板粗面上に形成されて、LEDが形成される。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING P-N JUNCTION IN SEMICONDUCTOR MODULE, FLAME DETECTOR, MOS TRANSISTOR AND IMAGE SENSOR例文帳に追加

半導体モジュールにおけるpn接合の製造方法、炎検知器、MOSトランジスタおよびイメージセンサ - 特許庁

To provide an optical semiconductor element which reduces inductance and capacitance generated between a terminal resistor and a p-n junction.例文帳に追加

終端抵抗器とpn接合との間に生じるインダクタンスやキャパシタンスを低減する。 - 特許庁

METHOD OF PROCESSING HIGH VOLTAGE p++/n- WELL JUNCTION AND DEVICE OBTAINED THEREOF例文帳に追加

高耐圧p++/n−ウエル接合部を処理形成する方法および該方法によって得られた装置 - 特許庁

A p-type second semiconductor region 13 forming a p-n junction and an n-type first semiconductor region 14 are formed within an n-type silicon substrate 11.例文帳に追加

n型のシリコン基板11の内部にpn接合を構成するp型の第2半導体領域13と、高不純物密度でn型の第1半導体領域14とが形成される。 - 特許庁

In this evaluation method, a p-n junction diode for evaluation has a shape, where long line shaped many p-n junction regions 1 are bound with a contact and its upper wiring 3 and are then guided to an electrode pad 4.例文帳に追加

評価用pn接合ダイオ−ドは細長い線状の多数のpn接合領域1がコンタクト及びその上部配線3によって束ねられて電極パッド4に導かれた形状をしている。 - 特許庁

On the surface 1A, an N-type semiconductor layer 2 and a P-type semiconductor layer 3 are sequentially grown epitaxially to form a P-N junction surface 5 which contributes to light emission.例文帳に追加

この表面1A上に、N型半導体層2およびP型半導体層3を順にエピタキシャル成長させて、発光に寄与するPN接合面5が形成されている。 - 特許庁

The junction of the P-type drain 7a to the adjacent N-type source 5b thereto is kept reverse biased at all times, to separate the P-type drain 7a and the N-type source 5b from each other.例文帳に追加

隣り合うP型ドレイン7a及びN型ソース5bの接合を常に逆バイアスを保つことにより、P型ドレイン7a及びN型ソース5bを分離する。 - 特許庁

Since a gate electrode is composed of a P-type semiconductor layer and an N-type semiconductor layer, a depletion layer 13 occurs at the junction surface between the P-type semiconductor layer and the N-type semiconductor layer.例文帳に追加

ゲート電極はP型半導体層及びN型半導体層からなるので、P型半導体層とN型半導体層との接合面に、空乏層13が生じる。 - 特許庁

The n^+ diffusion layer 8b forms a p-n junction with a Zener breakdown, which is apart from the field oxide film 7, to a p diffusion layer 6b.例文帳に追加

n^+拡散層8bは、p拡散層6bとツェナー降伏が生じるpn接合を構成し、ツェナー降伏が生じるpn接合は、フィールド酸化膜7から離れている。 - 特許庁

The embedding layer 20 includes a low carrier concentration p type InP layer 26 (p type semiconductor layer) and an n type InP layer 24 (n type semiconductor layer) constituting pn junction 30.例文帳に追加

埋込層20は、pn接合30を構成する低キャリア濃度p型InP層26(p型半導体層)とn型InP層24(n型半導体層)を有する。 - 特許庁

An edge input photodiode 10 is provided with a laminate in which an intrinsic semiconductor 16 is formed between p-n junction layers 14, 15 comprising n-type and p-type semiconductors containing InGaAsP.例文帳に追加

n型およびp型のInGaAsPから成る半導体pn接合層14、15間に真性半導体層16を有する積層体を備える端面受光型フォトダイオード10。 - 特許庁

In a first region 10A, a pn junction section 14 is composed of an n-type layer 12 and a p-type layer 13, and a p-side electrode 21 is formed on the p-type layer 13.例文帳に追加

第1領域10Aは、n型層12およびp型層13によりpn接合部14が構成され、p型層13の上にp側電極21が形成されている。 - 特許庁

Since the rising voltage of p-n heterojunction comprising a p-type II-VI clad layer and current block layer is significantly higher than that of the p-n junction via the active layer 13, the leakage current at laser oscillation is less.例文帳に追加

p型II-VIクラッド層と電流阻止層とから構成されるpnヘテロ接合の立ち上がり電圧が活性層13を介したpn接合に比べ非常に大きいため、レーザ発振時の漏れ電流が少ない。 - 特許庁

The p-type diffusion layer forms n-type diffusion layers 19, 40, and the pn junction region.例文帳に追加

一方、P型の拡散層は、N型の拡散層19、40とPN接合領域を形成している。 - 特許庁

The pin junction 100 is obtained by stacking an n-layer 13, an i-layer 14 and a p-layer 15 in this order.例文帳に追加

pin接合100は、n層13、i層14、及びp層15をこの順に積層して得る。 - 特許庁

Then, impurity diffusion is conducted on the polycrystalline silicon substrate 1, and p-n junction part is formed after etching.例文帳に追加

エッチング後、多結晶シリコン基板1に対して不純物拡散を行ってpn接合部を形成する。 - 特許庁

A P-N junction is formed between the first semiconductor region 12 and the second semiconductor region 13A.例文帳に追加

第1半導体領域12と第2半導体領域13Aとの間にPNジャンクションが形成される。 - 特許庁

P-N JUNCTION BORON PHOSPHIDE SEMICONDUCTOR LIGHT- EMITTING ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD AND LIGHT SOURCE FOR DISPLAY DEVICE例文帳に追加

pn接合型リン化硼素系半導体発光素子、その製造方法および表示装置用光源 - 特許庁

By this oxidation, the depth of pn junction made between the P well 6 and the N-type region 6 becomes shallow.例文帳に追加

この酸化により、Pウェル5とN型領域6で形成されるpn接合深さが浅くなる。 - 特許庁

NONVOLATILE MEMORY CELL WITH P-N JUNCTION FORMED IN POLYSILICON FLOATING GATE, AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加

ポリシリコン浮遊ゲートにPN接合を形成した不揮発性メモリ・セル及びそのメモリ・セルを製造する方法 - 特許庁

Thus, the P-N junction surface 5 is tilted against the bottom surface 1B of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

したがって、このPN接合面5は、半導体基板1の底面1Bに対して傾斜している。 - 特許庁

例文

The diode (50) is formed by pn-junction of the p^+-diffusion layer and the n-type high concentration layer.例文帳に追加

p^+拡散層とN型高濃度層との間のpn接合によってダイオード(50)を構成する。 - 特許庁




  
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