「step region」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

A method for embedding an electronic watermark includes a near frame extracting step of extracting a near frame from an image signal, an embedding step of embedding electronic watermark information by changing the pixel value of the corresponding region of the near frame extracted by the near frame extracting step, and an outputting step of outputting an image signal in which the electronic watermark information is embedded the embedding step.例文帳に追加

映像信号から近傍フレームを抽出する近傍フレーム抽出ステップと、この近傍フレーム抽出ステップで抽出された近傍フレームのそれぞれ対応する領域の画素値を変更することにより電子透かし情報を埋め込む埋め込みステップと、この埋め込みステップで上記電子透かし情報が埋め込まれた映像信号を出力する出力ステップとを備えた。 - 特許庁

Further, a step forming layer 13 is formed on the first substrate 10 so as to cover the region which overlaps with the colored layer 12 and the region which does not overlap with the colored layer 12 when viewed from the direction vertical to the plate surface of the first substrate 10 in the reflection region 51.例文帳に追加

一方、段差形成層１３は、反射領域５１のうち第１基板１０の板面に垂直な方向からみて着色層１２に重なる領域と着色層１２に重ならない領域とを覆うように第１基板１０上に設けられる。 - 特許庁

To eliminate a noise step and torque fluctuation in a region switching timing between a pilot region and a non-pilot region in a fuel injector for an internal combustion engine for force-feeding fuel from a distributor type fuel injection pump having an electronic control type timer to a fuel injection nozzle.例文帳に追加

電子制御式タイマーを備えた分配型燃料噴射ポンプから燃料噴射ノズルへ燃料を圧送する内燃機関用燃料噴射装置において、パイロット領域と非パイロット領域との領域切替え時期の騒音段差やトルク変動を解消する。 - 特許庁

In the preparation step (S10), the substrate is prepared which includes foreign matter present in the region to be used, in a size of 1 μm to 10 μm and the area covered by the foreign matter in the region to be used is less than 0.01% of the area of the region to be used.例文帳に追加

準備する工程（Ｓ１０）では、使用される領域に存在する異物の大きさが１μｍ以上１０μｍ以下であり、使用される領域において異物が覆う面積が使用される領域の面積の０．０１％未満である基板を準備する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an SiC semiconductor element, capable of maintaining a high-quality element formation region even if subjected to an SiC element forming step.例文帳に追加

ＳｉＣ素子形成工程を経ても高品質な素子形成領域を維持できるＳｉＣ半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Then, the outer shape of the changed region is enlarged only by predetermined dimensions toward the outside in a step S13 so that an area to be verified can be set.例文帳に追加

次にステップＳ１３で変更領域の外形を外側に向けて所定の寸法分だけ拡大して検証対象領域を設定する。 - 特許庁

When the recording state is confirmed, the image information to be input is recorded in a region for special reproduction of a storage part (step S4).例文帳に追加

そして、記録状態の確認をする場合には、入力される画像情報を記憶部の特殊再生用の領域に記録する（ステップＳ４）。 - 特許庁

In the sixth step, the first substrate is separated from the second functional region by irradiating the release layer with light or changing the temperature of the release layer.例文帳に追加

第６工程では、第１の基板と第２の機能性領域を、分離層への光照射又は分離層の温度変更で分離する。 - 特許庁

A region on the left polysilicon part 5 is subjected to a preferable silicification treatment without introducing an additional masking step.例文帳に追加

残されたポリシリコン部分５の領域において、付加的なマスキングステップを何ら導入することなく、代わりの望ましいシリサイド化処理が行われる。 - 特許庁

The contents distribution provider transmits registration declaration as a contents distribution provider to the network custom house of the first country or region beforehand (step C2).例文帳に追加

コンテンツ配信業者は、事前にコンテンツ配信業者としての登録申告を第一国または地域のネット税関へ送信する（ステップＣ２）。 - 特許庁

Simultaneously as the channel stopper 42, namely, in the same step, a base region 43 for forming a bipolar transistor is formed in a p-type well 32-2.例文帳に追加

チャネルストッパー４２と同時に、すなわち同じ工程で、ｐ型ウェル３２−２にはバイポーラトランジスタを形成するベース領域４３が形成される。 - 特許庁

In the amorphization step, a region including the surface area of the defective semiconductor crystal material is partially or completely amorphized.例文帳に追加

このアモルファス化ステップでは、欠陥性半導体結晶材料の表面領域を含む領域を部分的にまたは完全にアモルファス化する。 - 特許庁

There is provided a method comprising a step of leading an integration pathway towards homologous recombination (HR) in which the polynucleotide has a region of homology with the pre-determined site.例文帳に追加

ポリヌクレオチドは、所定の部位との相同の領域を有し、取込み経路を相同的組換え（ＨＲ）へ導くステップを含んで成る方法。 - 特許庁

To prevent a fluidic adhesive layer from flowing out from an opening onto a flexible region during a step of forming rigid regions in a multilayer structure.例文帳に追加

リジッド部分の多層化工程時に、流動性をもった接着剤層が開口部からフレキシブル部分上に流出しないようにすること。 - 特許庁

Furthermore, fluid paste 41 for step absorption is applied to a region between the electrode 2 and the flame 3 on the surface of the ceramic green sheet 1.例文帳に追加

更に、セラミックグリーンシート１の面上において電極２と、枠３との間の領域に段差吸収用の流動性ペースト４１を塗布する。 - 特許庁

A part of the interlayer-insulating film 24 over a region on which the plugs 26, 27 are not formed is eliminated, and a step-difference is formed on the interlayer-insulating film 24.例文帳に追加

プラグ２６、２７が形成されていない領域の層間絶縁膜２４の一部を除去し、層間絶縁膜２４に段差を形成する。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device comprises the step of forming a cross-shaped mask 64 for forming a cross-shaped active region on a single crystal silicon layer 16 of an SOI substrate.例文帳に追加

ＳＯＩ基板の単結晶シリコン層１６の上に、十字状アクティブ領域を形成するため十字状マスク６４を形成する。 - 特許庁

In the third step, a first release layer 115a is subjected to a process under a first condition to separate the first substrate from the functional region.例文帳に追加

第３工程では、第１の基板と第１の機能性領域を、第１の分離層１１５ａを第１の条件で処理して分離する。 - 特許庁

A step of removing the thermal oxide film 60 and the amorphous silicon layer 70 in the isolated trench region R2 to form a second trench 82 is included.例文帳に追加

分離トレンチ領域Ｒ２の熱酸化膜６０およびアモルファスシリコン層７０を除去し、第２トレンチ８２を形成する工程を備える。 - 特許庁

Also, the extended direction of the striped step region is turned off from the <0-11> direction to the <011> direction only by 2.5° to 6.5°.例文帳に追加

また、ストライプ状の段差領域の延在方向を＜０−１１＞方向から２．５度〜６．５度だけ＜０１１＞方向にオフして設けることとした。 - 特許庁

Projection of ink is suppressed by a first surface energy region 12b as a liquid-repellent surface and the step, and an edge of a pattern can be accurately formed.例文帳に追加

撥液面である第１の表面エネルギー部１２ｂと、段差によってインクのはみ出しが押さえられ、パターンのエッジを正確に形成出来る。 - 特許庁

A mark forming region on the substrate is made correspond to the ink ejection position of an ink jet head by moving the substrate or the ink jet head (Step S1).例文帳に追加

基板またはインクジェットヘッドを移動させて基板上のマーク形成領域をインクジェットヘッドのインク噴射位置に対応させる（ステップＳ１）。 - 特許庁

The method also includes a step dislodging trace particles from the specimen within the region, collecting the trace particles, and identifying the trace particles.例文帳に追加

本方法はさらに、領域内の被検物から痕跡粒子を除去し、痕跡粒子を収集し、痕跡粒子を特定するステップを含む。 - 特許庁

This manufacturing method for semiconductor element includes a step for scanning a plurality of regions of a semiconductor substrate with ion beams with ion implantation conditions different from one another for each region.例文帳に追加

半導体基板の複数の領域に各領域ごとに相異なるイオン注入条件でイオンビームを走査するステップを有する。 - 特許庁

Next, plasma oxidation is carried out (step S18) and many protrusions of about 5 nm in height are selectively formed only in the substrate region of the air bearing surface.例文帳に追加

次に、プラズマ酸化を行い（ステップＳ１８）、エアベアリング面の基体領域にのみ、高さが５ｎｍ程度の多数の凸部を選択的に形成する。 - 特許庁

To provide a sound absorbing body which is manufactured in one step at a low cost, while the body efficiently absorbs noise of a low frequency region.例文帳に追加

低周波領域の騒音を効果的に吸収することができ、一工程で安価に製造することができる吸音体を提供する。 - 特許庁

The removal of the electrically conductive layer 2 and the etching of the substrate 1 in the region not convered with the resist are then carried out in a single step.例文帳に追加

次に、前記電導材料層（２）の除去とレジストにより覆われてない領域での基板（１）のエッチングとを単一ステップにて実行する。 - 特許庁

The CPU commands the VDP 2 to plot the segment with the decided region to be deleted and the decided plotting destination as parameters (step S3).例文帳に追加

ＣＰＵは、決定された削除する領域と描画先をパラメータとして、ＶＤＰ２に対してそのセグメントの描画を指令する（ステップＳ３）。 - 特許庁

The method of printing the image forming apparatus includes a step of determining whether there is a region surrounded by the marker pen or the dedicated pen, etc., (S6) on the image data of the read reference image.例文帳に追加

読み取られた上記参考画像の画像データに，マーカーペンや専用のペン等で囲まれた領域があるか否かを判別する（Ｓ６）。 - 特許庁

One field of a body to be observed is divided into prescribed nine regions and an average luminance level for each region is calculated (step S100).例文帳に追加

被観察体の１フィールドを所定の９つの領域に分割し、それぞれの領域毎の平均輝度レベルを取得する（ステップＳ１００）。 - 特許庁

A recess 12A is provided in a second surface 12 of the substrate 10, and a step difference 12B extruded more than the recess 12A is formed in a region of the substrate other than the recess 12A.例文帳に追加

基板１０の第２面１２に凹部１２Ａを設け、凹部１２Ａ以外の領域を凹部１２Ａよりも突出した段差部１２Ｂとする。 - 特許庁

Although the bubbles tend to remain at the communication part 54, the region of the stagnation where a flow of the ink is slow is reduced because a step 54A is provided.例文帳に追加

連通部５４は気泡が残留しやすいが、階段部５４Ａを設けているのでインクの流れの遅い澱みの領域が少なくなる。 - 特許庁

An image input part images three images, while the same region is shifted gradually, and three sets of the input image data are generated (step S3).例文帳に追加

このとき、画像入力部が同一部位を少しずつ位置をずらしながら３回撮像し、３組の入力画像データを生成する（ステップＳ３）。 - 特許庁

The photomask defining a STAR (step asymmetry recess) gate region includes a transparent substrate 101 and a light-shielding pattern 103 defining a zigzag recess W-STAR (waved STAR) gate region, wherein a waved portion of the light-shielding pattern partially overlaps a gate region and a storage electrode contact region of an active region disposed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

ＳＴＡＲゲート領域を定義するフォトマスクにおいて、透明基板１０１とジグザグ形態のリセスＷ−ＳＴＡＲゲート領域を定義する遮光パターン１０３とを含み前記遮光パターンの屈曲部は半導体基板に備えられた活性領域のゲート領域および格納電極コンタクト領域と部分的に重畳されることを特徴とするフォトマスク。 - 特許庁

Then, the peak of the horizontal histogram is detected, and the peak is set as "the position candidate of the eyes" (a step S5), and the face part region is set based on a prestored face part template and the face right and left positions (a step S6).例文帳に追加

そして、横エッジヒストグラムのピークを検出してこのピークを「目の位置候補」と設定し（ステップＳ５）、予め記憶されている顔部品テンプレートと顔左右位置とに基づいて、顔部品領域を設定する（ステップＳ６）。 - 特許庁

Edge extraction processing is applied to a region including any one cell existing in an image specified by a user in a phase difference image of the cell (step S20), and a profile of the cell is obtained (step S30).例文帳に追加

細胞の位相差画像において、使用者によって指定された画像内に存在する任意の１つの細胞を含む領域内に対してエッジ抽出処理し（ステップＳ２０）、細胞の輪郭を得る（ステップＳ３０）。 - 特許庁

The method also includes making the light beam not irradiate the powder layer formed in the vicinity of a region that is scheduled to be subjected to a predetermined machining step after a three-dimensional structure has been shaped, out of the plate 3 for shaping, in the irradiation step.例文帳に追加

そして、照射工程時に、造形用プレート３のうち三次元形状造形後に所定の機械加工が予定されている領域近傍に形成されている粉末層に対しては光ビームを照射しない。 - 特許庁

For unknown media that are not registered in the optical information recording/reproducing device in advance (N in the step S3), the recording conditions recorded in a Lead-In region of the media by a wobble signal are read (a step S5).例文帳に追加

メディアが光情報記録再生装置にあらかじめ登録されていない未知のメディアであった場合は（ステップＳ３のＮ）、メディアのLead-In領域内にウォブル信号で記録されている記録条件を読み出す（ステップＳ５）。 - 特許庁

When the position at the present time is within the entire edge region (Step S14 is affirmative), the acceleration DVc is calculated based on the present moving speed Vc(m) and the previous target speed Vt(m-1) (Step S22).例文帳に追加

現時点の位置が全エッジ領域内である場合（ステップＳ１４が肯定）、今回の目標速度Ｖｔ（ｍ）及び前回の目標速度Ｖｔ（ｍ−１）に基づき加速度ＤＶｃを算出する（ステップＳ２２）。 - 特許庁

When a position of a carriage at the present time is within a reference edge region (Step S14 is negative), an acceleration DVc is calculated based on a present moving speed Vc(m) and the previous moving speed Vc(m-1) (Step S16).例文帳に追加

キャリッジの現時点の位置が基準エッジ領域内である場合（ステップＳ１４が否定）、今回の移動速度Ｖｃ（ｍ）及び前回の移動速度Ｖｃ（ｍ—１）に基づき加速度ＤＶｃを算出する（ステップＳ１６）。 - 特許庁

The object image is divided into a plurality of grid images (a step S103) and grid images including a region where the eosinophilic crystalloid is detected and adjacent grid images are classified into the sites of the lesion (a step S104).例文帳に追加

対象画像を複数のグリッド画像に分割し（ステップＳ１０３）、好酸性クリスタロイドが検出された領域を含むグリッド画像およびそれに隣接するグリッド画像を病変を含む部位に分類する（ステップＳ１０４）。 - 特許庁

The case a student uses an input device etc., of the personal computer, selects a step S 10 to a step S 13 of a flow chart displayed on a second region 30 of a screen and pushes a start button 32 is explained.例文帳に追加

受講者が、パソコンの入力装置等を使用して、画面の第２の領域３０上に表示されたフローチャートのステップＳ１０からステップＳ１３を選択し、スタートボタン３２を押す場合を説明する。 - 特許庁

The size Δd of a step is smaller than a channel space cs and substantially optimized so that a peak or a trough in a transmission curve in the region of one step overlaps with a steep slope portion of the transmission curve for one or more other steps.例文帳に追加

ステップサイズΔｄは、チャネル間隔ｃｓより小さく、あるステップの領域における透過曲線のピークまたは谷が、他のステップの透過曲線の急勾配部分に重なるようにほぼ最適化される。 - 特許庁

After the electrical characteristic of a semiconductor wafer are evaluated by using a TEG formed in a scribe region of the semiconductor wafer (Step S11), an insulating mask layer which masks the TEG is formed (Step S12).例文帳に追加

半導体ウェハーのスクライブ領域に形成されたＴＥＧを用いて前記半導体ウェハーの電気的特性を評価したのち（ステップＳ１１）、このＴＥＧをマスクする絶縁性のマスク層を形成する（ステップＳ１２）。 - 特許庁

A periphery insulating film 13 is formed with a film thickness through which a P-type impurity ion which is injected into an N-type region 5 in an ion implantation step of a post step on a periphery of a semiconductor wafer 1.例文帳に追加

半導体ウェハ１の周縁部に、後工程のイオン注入工程でＮ型領域５に注入されるＰ型不純物イオンが突き抜けない程度の膜厚で周縁部絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁