「step region」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To detect an alignment mark in an edge grinding step and in a sticking step of a polarizing plate by removing a black matrix in a non-display region, in a liquid crystal display element in which a driving region is embedded in the non-display region of a substrate and which does not require other driving IC.例文帳に追加

基板の非表示領域にドライブ領域が内蔵されることによってドライブＩＣが別に要求されない液晶表示素子において、非表示領域のブラックマトリクスを除去し、エッジグラインディング工程及び偏光板付着工程においてアラインマークを感知できるようにする。 - 特許庁

In a step of doping the first halo region, oblique ion implantation is carried out, with the use of a gate electrode as a mask, and in a step of doping the second halo region, vertical ion implantation is carried out with use of the gate electrode as the mask and with a dose rate which is larger than the dose rate of the first halo region ion implantation.例文帳に追加

第１ハロー領域のドーピング工程を、ゲート電極をマスクとして、斜めにイオン注入し、さらに、第２ハロー領域は、ゲート電極をマスクとして、垂直に、かつ第１ハロー領域のイオン注入ドーズ量よりも大きなドーズ量でイオン注入することにより形成する。 - 特許庁

To ensure to form a buried layer with superior flatness having sufficient thickness even in a region at more than a given distance away from a step region, while suppressing photographic fog growth in the step region, thereby facilitating subsequent processes and achieving improved yield.例文帳に追加

段差領域における被り成長を抑制しながら、段差領域から一定の距離以上離れた領域でも十分な厚さを有する平坦性の良い埋込層が形成されるようにして、その後のプロセスを容易にし、歩留まりを良くすることができるようにする。 - 特許庁

When a person moves from the first region to the second region and a gate means with electromagnetic shielding feature is closed (step S22), it is determined whether each object is moved into the second region based on whether a signal transmitted from the wireless signal transmitting means is received or not (step S23).例文帳に追加

人が第１の領域から第２の領域まで移動し電磁遮蔽機能を持ったゲート手段が閉じた時点で（ステップＳ２１）、無線信号発信手段が発信している信号の受信の可否により各物体が第２の領域に移動したかを判別する（ステップＳ２３）。 - 特許庁

The method is characterized in that the method has a first step in which the photo-excited grating is formed in a region having a length L1 along an optical path 1 and a second step in which the refractive index of a partial region having a length L2 (L2<L1) which is a part of the region having the length L1 is changed.例文帳に追加

光経路１に沿った長さＬ１の領域に光誘起グレーティングを形成する第一のステップと、前記長さＬ１の領域の一部である長さＬ２（Ｌ２＜Ｌ１）の部分領域の屈折率を変化させる第二のステップとを有することを特徴とする。 - 特許庁

Subsequently, by repeating a step to select a small region out of small regions (c) not selected in the previous step and to conduct the polarization reversal operation by bringing the first electrode into contact with the selected small region for required times, overall scheduled reversal region is subjected to polarization reversal.例文帳に追加

そして、先のステップにおいて選択されなかった小領域ｃのうちから小領域を選択して第一電極を形成し分極反転を行なうステップを、必要回数だけ繰り返すことによって、反転予定領域を全面的に分極反転させる。 - 特許庁

The copier determines the presence or absence of a metallic gloss region, based on the difference between the image data for determination and the image data indicating color information (step S5), and if the metallic gloss region exists (YES in step S5), an image is formed on the metallic gloss region using a toner of a metallic color.例文帳に追加

複写機は判別用画像データと色情報を表す画像データの差違に基づいて金属光沢領域の有無を判別し（ステップＳ５）、金属光沢領域が存在する場合には（ステップＳ５；ＹＥＳ）、金属光沢領域にメタリック色のトナーを用いて画像を形成する。 - 特許庁

Ink under curing by irradiation with ultraviolet ray is exposed in the printing medium 104 moved to the work region, based on any one of an initial printing in a step S110 and a step S200, an intermediate printing in a step S120 and the step S200, and a later stage printing in a step S130 and the step S200.例文帳に追加

ステップＳ１１０及びステップＳ２００での初期印刷処理、ステップＳ１２０及びステップＳ２００での中期印刷処理、並びにステップＳ１３０及びステップＳ２００での後期印刷処理の少なくともいずれかに基づく紫外線の照射により硬化進行中のインクが、作業領域へ移動した被印刷媒体１０４において露出する。 - 特許庁

The method also includes a step of then forming an interlayer insulating film 10 on a substrate, and a step of then forming a contact plug 11 connected to an n-type source/drain region 9 on the interlayer insulating film 10.例文帳に追加

次に、基板上に層間絶縁膜１０を形成した後、層間絶縁膜１０にｎ型ソース・ドレイン領域９と接続されるコンタクトプラグ１１を形成する。 - 特許庁

The process for forming a thin film pattern comprises a step for forming a liquid repellent film F on a substrate P, and a step for placing a functional liquid L in a region A sectioned by the liquid repellent film F.例文帳に追加

基板Ｐ上に撥液性膜Ｆを形成する工程と、撥液性膜Ｆによって区画された領域Ａに機能液Ｌを配置する工程とを有する。 - 特許庁

The two-step differentiation of an illumination distribution curve over a range wherein a cell is established is calculated and the maximum positive region wherein a boundary is determined by two-step differentiation is discriminated.例文帳に追加

セルの確立された範囲にわたる照射分布曲線の２階微分が算出され、２階微分によって境界を定められた最大の正領域が識別される。 - 特許庁

Thereby, while preventing step-out of the step motor 5, this velocimeter 1 excellent in visibility is realized by restraining unnatural motion of the pointer 6 in an extremely low velocity region.例文帳に追加

これにより、ステップモータ５の脱調を防止しつつ、極低速域における指針６の不自然な動きを抑えて視認性に優れる速度計１を実現することができる。 - 特許庁

Whether the determination of the catalyst deterioration is finished or not is determined (Step 101), and if the determination of the catalyst deterioration is not finished, a stoichiometric operation region is enlarged (Step 102).例文帳に追加

触媒劣化判定が終了したか否かを判定し（ステップ１０１）、触媒劣化判定が終了していなければ、ストイキ運転領域を拡大する（ステップ１０２）。 - 特許庁

If the application has never been started, an application ID is given, and the region of a nonvolatile memory is allocated (step Sa5 and step Sa7).例文帳に追加

過去に起動されたことのないアプリケーションである場合には、アプリＩＤが付与されるとともに不揮発性メモリの領域が割り付けられる（ステップＳａ５、ステップＳａ７）。 - 特許庁

During the terms, a charge transfer step that operates as a barrier region is driven to become one step (portion corresponding to an electrode V4) per photoelectric transducers to be transferred.例文帳に追加

その期間には、バリア領域として動作する電荷転送段が、転送すべき光電変換素子当たり１段（電極Ｖ４に対応する部分）となるように駆動される。 - 特許庁

A step difference 43 is provided to at least part of the circumferential edge of the rigid wiring board 4, and the flexible wiring board 1 is extracted from a region wherein the step difference 43 is formed.例文帳に追加

リジット配線板４の周縁の少なくとも一部分に段差部４３を設け、段差部４３の形成領域からフレキシブル配線板１が引き出される。 - 特許庁

At least two main components are obtained for the normal data by the use of a main component analysis technique (step 12), and a normal region is formed (step 13).例文帳に追加

これら正常データ値に対して主成分分析技術を用いて少なくとも２つの主成分を求める（ステップ１２）ことにより正常領域を作成する（ステップ１３）。 - 特許庁

In a step 703, a frequency region to remove the artifact is determined from a length and a width predetermined by an experiment or the like for a frequency position of the step 702.例文帳に追加

ステップ７０３では、ステップ７０２の周波数位置に対して、予め実験等で決めておいた縦横の幅からアーチファクト除去のための周波数領域を決定する。 - 特許庁

The print data extracted in step S7 are inserted into the print data whose blank data region has been detected in step S2 so that composite print data can be created (S8).例文帳に追加

次に、上述したＳ７にて抽出された印刷データを、Ｓ２にて白紙データ領域が検出された印刷データに挿入し、複合印刷データを作成する（Ｓ８）。 - 特許庁

The two-dimensional shape of the brain neuron is specified (step 103), and the presence region of the spine of the neuron in the two-dimensional plan is extracted (step 104).例文帳に追加

脳神経細胞の二次元的な形状を特定し（ステップ１０３）、脳神経細胞のスパインの二次元平面内での存在領域を抽出する（ステップ１０４）。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a step of forming a photodiode region on a semiconductor substrate, a step of implanting ions into a photodiode region in order to change a lattice structure, and a step of forming an oxide film in the photodiode region under sufficient conditions for restoring the change of the lattice structure caused by the ion implantation.例文帳に追加

半導体基板にフォトダイオード領域を形成する段階と、格子構造を変化させるためのイオンを前記フォトダイオード領域に注入する段階と、前記イオン注入による格子構造の変化を復旧するのに十分な条件で、前記フォトダイオード領域に酸化膜を形成する段階とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The method of processing the cavity of the core substrate includes: a step of forming a first processing region defined by a circuit pattern on one surface of the core substrate; a step of forming a second processing region defined by a circuit pattern on the other surface of the core substrate; and a step of processing a cavity by removing the first processing region completely from one surface of the core substrate.例文帳に追加

本発明に係るコア基板のキャビティ加工方法は、コア基板の一面に回路パターンにより区画される第１加工領域を形成する工程と、コア基板の他面に回路パターンにより区画される第２加工領域を形成する工程と、コア基板の一面から第１加工領域を全て除去してキャビティを加工する工程と、を含む。 - 特許庁

A cavity processing method of a core substrate comprises: a step of forming a first processing region defined by a circuit pattern on one surface of the core substrate; a step of forming a second processing region defined by the circuit pattern on the other surface of the core substrate; and a step of processing a cavity by removing the first processing region completely from the one surface of the core substrate.例文帳に追加

本発明に係るコア基板のキャビティ加工方法は、コア基板の一面に回路パターンにより区画される第１加工領域を形成する工程と、コア基板の他面に回路パターンにより区画される第２加工領域を形成する工程と、コア基板の一面から第１加工領域を全て除去してキャビティを加工する工程と、を含む。 - 特許庁

In stream-receiving the page description data, if an internal data memory is full (step S605), internal data of an object located on the lower side of a printing region is deleted (step S607) to continue receiving (step S602).例文帳に追加

ページ記述データをストリーム受信する際に、内部データメモリがいっぱいになったら（ステップＳ６０５）、印字領域の下側に位置するオブジェクトの内部データを削除して（ステップＳ６０７）受信を継続する（ステップＳ６０２）。 - 特許庁

If in Step S64, the CPU determines that there is the corresponding positional relation information (YES in Step S64), then it displays the written data in a region corresponding to the positional relation information (Step S66).例文帳に追加

ステップＳ６４において、ＣＰＵは、一致する位置関連情報が有ると判断した場合（ステップＳ６４においてＹＥＳ）には、位置関連情報に対応する領域に書込データを表示する（ステップＳ６６）。 - 特許庁

The method comprises a polymorphism detection step of detecting the presence or absence of D sequences in a C-terminal region of a CagA protein and the number of the D sequences in the C-terminal region.例文帳に追加

ＣａｇＡタンパク質のＣ末端領域中のＤ配列の有無、および前記Ｃ末端領域中のＤ配列の数を検出する多型検出工程を有する。 - 特許庁

In the first step, the pattern is projected onto a first sub-region 12 of the object 2, and a pattern reflected from the first sub-region 12 of the object 2 is photographed.例文帳に追加

第１ステップにおいて、物体２の第１サブ領域１２に対してパターンを投影し、物体２の第１サブ領域１２から反射されたパターンを撮影する。 - 特許庁

The method further comprises the step of forming resistors on not only a field region via the planarized insulating film but also an active region formed with the element.例文帳に追加

そして、その平坦化された絶縁膜を介してフィールド領域上のみならず、前記半導体素子が形成されたアクティブ領域上に抵抗体を形成する。 - 特許庁

Further, a computer 15 for image processing obtains a (reflection) optical step between the p-Si film 23 (crystallization region 51) and a-Si film 230 (non-crystallization region 50).例文帳に追加

また、画像処理用コンピュータ１５において、ｐ−Ｓｉ膜２３（結晶化領域５１）とａ−Ｓｉ膜２３０（未結晶化領域５０）との（反射）光学的段差を求める。 - 特許庁

The skirt is provided in a region E including a line connecting the base end and the extended end and a region positioned at an opposite side with respect to the trailing step for this line.例文帳に追加

スカート部は、基端部と延出端部とを結ぶ線、およびこの線に対してトレーリングステップ部と反対側に位置した領域を含む領域Ｅ内に設けられている。 - 特許庁

In a step S_6, the correction region is moved downward to the left on the mesh table by 1/2 of D and 2nd region densities are calculated by the meshes of the mesh table.例文帳に追加

ステップＳ_６ で、メッシュ・テーブル上で補正領域をＤの１／２だけ下方及び左方に移動させ、メッシュ・テーブルのメッシュ毎に第２の面積密度を算出する。 - 特許庁

When the program data of "partial protection" exist, the already reproduced part is erased and the region is allotted to the recordable region based on information of resume point (step S118).例文帳に追加

「部分保護」の番組データがあれば、レジュームポイントの情報に基づいて、再生済の部分を消去してその領域を記録可能領域に割り当てる（ステップＳ１１８）。 - 特許庁

In the heat-treatment step, the p-type impurities are solid-layer diffused into a drift region 2 in the area surrounding the oxide film 12 so as to form a p-type impurity-containing region.例文帳に追加

熱処理工程において、酸化膜１２を囲む範囲のドリフト領域２内にｐ型不純物が固層拡散して、ｐ型の不純物含有領域が形成される。 - 特許庁

A remaining screen region different from the background after the deletion of the incorrectly detected region is determined as a moving body present in front of the self vehicle (step S5).例文帳に追加

そして、誤検出領域を削除した結果残った「背景と異なる画面領域」を、自車両前方に存在する移動物体であると判定する（ステップＳ５）。 - 特許庁

Then, it is judged whether or not a recessed step with respect to a reference plane including the central portion of the floor surface exists within the region on the floor surface corresponding to the grounding region.例文帳に追加

続いて、接地領域に対応する床面上の対応領域中に、対応中心部を含む基準平面に対して凹段差が存在するか否かを判定する。 - 特許庁

A first searching region is set in a lower periphery of a selected bridge of a nose, and a first lateral edge is detected in the first searching region (a step ST106).例文帳に追加

選択された鼻筋の下部近傍において、第１の探索領域を設定し、第１の探索領域内で第１の横方向エッジを検出する（ステップＳＴ１０６）。 - 特許庁

This method provides the conditions with which the first impurity region 104 and the second impurity region 105 can be formed at the same time, in the step of impurity doping.例文帳に追加

不純物添加一工程において、第一の不純物領域１０４および第二の不純物領域１０５を同時に形成できる条件を提供する。 - 特許庁

A high-frequency oscillator 1 gives carriers in a VHF region to a step recovery diode 2, and they are converted into short repetitive pulses which have energy in a millimeter-wave region.例文帳に追加

高周波発振器１はＶＨＦ領域のキャリヤをステップリカバリーダイオード２に与えてこれをミリ波領域にエネルギーを持つ短い繰り返しバルスに変換する。 - 特許庁

Finally, as the third step, the color of the detected red-eye region is corrected, and the red-eye region and its periphery are smoothed, thereby restoring the normal color of the picture after correction.例文帳に追加

最後に、３つ目のステップとして、検出した赤目領域の色彩の修正と周辺との平滑化を行って、修正後の写真を正常な色彩に戻す。 - 特許庁

To provide a wet etching solution capable of removing a silicon oxide film without forming a large step between a metal silicide region and a silicon region.例文帳に追加

金属シリサイド領域とシリコン領域との間に大きな段差を形成することなくシリコン酸化膜を除去することのできる湿式エッチング溶液を提供する。 - 特許庁

To provide a solid state imaging device, along with its method for manufacturing, wherein the dark current in an effective pixel region and an OB (optical black) region is reduced, with OB step reduced, as well.例文帳に追加

有効画素領域およびＯＢ領域の暗電流を低減でき、ＯＢ段差をも低減できる固体撮像装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

As a next step, a resist pattern 42 having an opening 47 is formed in a region corresponding to an electrode forming region 45 in the upper side surface of the amorphous AlN thin film.例文帳に追加

次に、アモルファスＡｌＮ薄膜の上側表面内の、電極形成領域４５に対応する領域に開口部４７を有するレジストパターン４２を形成する。 - 特許庁

To secure stable pixel characteristics and yield by eliminating a step between a region where a pixel array part is formed and a region where a peripheral circuit part is formed.例文帳に追加

画素アレイ部が形成される領域と周辺回路部が形成される領域との間の段差を無くし、安定した画素特性と歩留まりを確保できるようにする。 - 特許庁

The silicon region forming step forms a silicon region comprising a silicon substrate with an impurity included and an epitaxial layer deposited on the surface of the silicon substrate.例文帳に追加

シリコン領域形成工程では、不純物が含有されているシリコン基板と、シリコン基板の表面に堆積されているエピタキシャル層と、からなるシリコン領域を形成する。 - 特許庁

The convenient method for making a hole on a semiconductor substrate comprises a step for generating a crystal defect in a part of region on the semiconductor substrate, and a step for selectively etching the region where a crystal defect is caused.例文帳に追加

半導体基板上の一部の領域に結晶欠陥を発生させる工程と、前記結晶欠陥が発生した領域を選択的にエッチングする工程を用い、半導体基板上に簡便に穴部を形成する構成とした。 - 特許庁