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「concentration process」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索
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concentration processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1222



例文

To provide a manufacturing process of a quartz glass crucible for silicon single crystal pulling, which enables prevention of localized concentration of electrode arc heating of raw material quartz glass in a frame mold, thereby preventing deposition of evaporated matter from the raw material quartz glass on the electrode, etc., and accordingly prevention of falling of the deposited matter afterward, to inhibit reduction in purity of a quartz glass crucible manufactured.例文帳に追加

この発明は、石英ガラスルツボの製造において、電極アークの加熱が型枠内の原料石英ガラスの局所に集中しないようにし、これによって石英ガラスからの蒸発物質が電極などに付着して、その後これらが落下して石英ガラスルツボの純度を低下しないようにしたものである。 - 特許庁

When an n^+-GaN layer 6 is selectively etched with respect to an n^+-AlGaN layer 5 in the manufacturing process of the GaN semiconductor device, dry etching is performed with gas plasma whose concentration of gas including Cl atom is set to be 60 to 90% by using gas including the Cl atom and gas including a F atom.例文帳に追加

GaN系半導体デバイスの製造工程において、n^+ −GaN層6をn^+ −AlGaN層5に対して選択的にエッチングを行う際に、Cl原子を含むガスとF原子を含むガスを用い、そのCl原子を含むガスの濃度を60〜90%としたガスプラズマにてドライエッチングを行う。 - 特許庁

This region is a production area of metal daily necessities such as Western tableware and metal house wares. There is a concentration of polishing businesses that support the local industry. Against a background of the strength of handling the total polishing process, these enterprises are securing orders from outside the community by joint order acceptance and also developing high-value-added production-region brand products.例文帳に追加

洋食器や金属ハウスウェア等の金属製日用品の産地であり、地場産業を支える金属研磨業者が集積し、研磨に関する工程が一通り揃っている強みを背景に、共同受注により地域外からの受注を確保するとともに、高付加価値の産地ブランド商品を開発している。 - 経済産業省

The method of developing the resist film by exposing the resist film formed on a substrate to a predetermined pattern and then performing a development using a developer includes a first development process of contacting a first developer with the resist film, and a second development process of contacting a second developer with the resist film, wherein the second developer has a lower concentration compared with the first developer.例文帳に追加

本発明は、基板上に形成されたレジスト膜を所定パターンに露光した後、現像液を用いて現像を行なうレジスト膜現像方法において、第1の現像液がレジスト膜に接する第1現像工程と、第2の現像液がレジスト膜に接する第2現像工程と、を備え、前記第2の現像液は、前記第1の現像液と比較して低濃度の現像液であることを特徴とするレジスト膜現像方法である。 - 特許庁

例文

This CMOS image sensor is provided with a silicon substrate 21; a silicon germanium epitaxial layer grown on the silicon substrate via an epitaxial process and doped with a predetermined concentration of impurities; an undoped silicon epitaxial layer grown on the silicon germanium epitaxial layer via the epitaxial process; and a photodiode region formed in a predetermined depth from the surface of the undoped silicon epitaxial layer 25 to one part of the silicon germanium epitaxial layer 100.例文帳に追加

本発明のCMOSイメージセンサは、シリコン基板と、該シリコン基板上にエピタキシャル工程を介して成長し、所定濃度の不純物がドーピングされたシリコンゲルマニウムエピタキシャル層と、該シリコンゲルマニウムエピタキシャル層上に、エピタキシャル工程を介して成長させたアンドープのシリコンエピタキシャル層と、該アンドープのシリコンエピタキシャル層の表面から前記シリコンゲルマニウムエピタキシャル層の一部に至るまでの所定の深さに形成されたフォトダイオード領域とを備える。 - 特許庁


例文

A process for quantitatively detecting signals from labels on labelled antibodies in respective separate capture areas formed by a sandwich to obtain the signal patterns unique to the concentration of an object to be analyzed in a fluid test medium and a process for mathematically combining the unique signal patterns to form a monotone dosage response curve to detach the block of the coupling of an immobilized antibody and the first epitope of the object are included.例文帳に追加

サンドイッチが形成した別々の捕捉領域それぞれにおける標識化抗体上の標識からの信号を定量的に検出して、流体試験媒体中の分析対象物の濃度に対しユニークである信号パターンを得る工程と、ユニークな信号パターンを数学的に合わせて単調用量応答曲線を作り出して、固定化抗体と分析対象物の第一のエピトープとの結合のブロックをファクタから外す工程とを含む、サンドイッチ免疫検定法。 - 特許庁

To provide a processing agent for halogenated gases that can decompose compounds containing halogens such as PFCs, HFCs, HCFCs and CFCs efficiently at a comparatively low temperature, make harmful substances formed by decomposition harmless and continuously process the halogenated compound regardless of its concentration in a gas for a long time by being combined with an apparatus for harmless disposal.例文帳に追加

PFCs,HFCs,HCFCs及びCFCsなどのハロゲンを含む化合物を効率良くしかも比較的低温で分解でき、且つその分解生成物である有害物質も無害化でき、また除害装置と組み合わせることにより、長期間にわたり運転が可能で、ガス中のハロゲン化合物の濃度に関係無く連続的に処理できるハロゲン化ガス処理剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a treatment method and apparatus for nitrogen containing organic wastewater capable of obtaining excellent treated water by lowering nitrogen concentration in the treated water with a simple constitution and operation without generating bubbles and worsening a dewatering effect in a nitrification tank, in a nitrification/denitrification process wherein membrane separation in an aerated state is applied to separation of sludge from the treated water.例文帳に追加

汚泥と処理水の分離に曝気状態での膜分離を適用する硝化脱窒処理において、硝化槽での発泡や脱水効果の悪化などを招くことなく、簡単な構成と操作で処理水中の窒素濃度を低くして、良好な処理水を得ることができる含窒素有機性排水の処理方法および装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a scouring agent composition that neither separates a scouring agent nor loses scouring performance even under an alkali condition in a scouring process of in a textile product, has not only high scouring detergency but also excellent rewettability after scouring, low foaming properties, excellent biodegradability and low viscosity at a low temperature even in high concentration.例文帳に追加

繊維製品の精練工程において、高アルカリ条件下においても、精練剤が分離したり精練性能を失ったりすることなく、精練洗浄力が高いのみならず、精練後の再湿潤性にも優れ、低起泡性である上に、生分解性も良好で、高濃度でも低温で低粘度な精練剤組成物を提供する。 - 特許庁

例文

To provide the manufacturing method of a semiconductor device suitably controlling the concentration of nitrogen in a gate insulating film according to predetermined characteristics required for each transistor, while suppressing the deterioration of characteristics in the transistors and the complicatedness of a manufacturing process with regard to the manufacturing method of the semiconductor device having a field effect transistor containing nitrogen in the gate insulating film.例文帳に追加

ゲート絶縁膜に窒素を含有する電界効果トランジスタを有する半導体装置の製造方法に関し、トランジスタの特性劣化や製造工程の複雑化を抑制しつつ、各トランジスタに要求される所定の特性に基づいてゲート絶縁膜中の窒素濃度を適宜制御しうる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To improve the problem that the brightness of red light is lowered by quenching of fluorescent light, when the concentration of a fluorescent dopant is high in a red organic EL device, to improve an overall yield in total synthesis of a red dopant, particularly its important intermediate, tetramethyljulolidine and a sublimation purification process for the red dopant.例文帳に追加

赤色有機ELデバイスにおいて、蛍光ドーパントが高濃度の場合に発生する蛍光のクエンチングにより、赤色光の輝度が低下してしまう問題を改善すること、赤色ドーパント材料、特に重要な中間体であるテトラメチルジュロリジン合成の全体的収率を改善すること、昇華による赤色ドーパントの精製過程を改良すること。 - 特許庁

During a cooling process of a press formed glass raw material 4, cooling gas at a temperature of Tg point or lower is sprayed to a part of the glass raw material, which causes non-axial symmetrical temperature distribution in the glass material and increases stress concentration generated between mold members 2, 3 and the glass raw material, and facilitates exfoliation of the mold members and the glass raw material.例文帳に追加

プレス成形後のガラス素材4の冷却工程において、Tg点以下の温度で、ガラス素材の一部分にだけ冷却ガスを噴射することによりガラス成形品内に、非軸対称的な温度分布を生じさせ、型部材2,3とガラス素材間の界面に生じる応力の集中度を高くし、型部材とガラス素材の剥離を容易にする。 - 特許庁

To provide a standing pouch which is manufactured at a low cost without requiring any special member or any complicated process, has self-standing properties and is thereby capable of realizing space-saving during transporting or storing, is excellent in sanitation and ease-to-use when preparing administration to a patient, and is capable of regulating the concentration of a content stored in the pouch.例文帳に追加

特別な部材や複雑な工程を必要とせずに低コストで製造することができ、しかも自立性を有することから輸送時や保管時の省スペース化が可能であり、患者に投与の準備をする際にも衛生性や使い勝手に優れ、パウチ内に収納した内容物の濃度調整が可能なスタンディングパウチを提供する。 - 特許庁

Water is sprinkled on wastes 1 of the covered type final disposal site by using a sprinkler 2, and a Ca component is removed from a leachate 3 containing salt water of high concentration thus produced and then an intermediary treated water after the removal of the Ca component is desalted by a crystallizing process, thereby circulating a part of the desalted water as a sprinkling water for the disposal site.例文帳に追加

被覆型最終処分場の廃棄物1に対して散水装置2により散水し、これによって生じた高濃度の塩を含む浸出水3からCa成分を除去し、Ca成分除去後の中間処理水を晶析方法によって脱塩し、脱塩水の一部を処分場内の散水用水として循再利使用する。 - 特許庁

A gate insulating film 4 is formed so as to extend from the interior of the trench 8 to the surface of the p-base 2 of the semiconductor substrate by a thermal process, and also impurity ions of high concentration implanted to the front layer of the p-base 2 and the bottom part of the trench 8 are activated to form a source region 3 and a well region 10 at the same time.例文帳に追加

そして、熱処理によってトレンチ8内部から半導体基板のpベース2表面にまで延在するようにゲート絶縁膜4を形成するとともに、pベース2の表層およびトレンチ8底部に注入された高濃度の不純物イオンを活性化させてソース領域3およびウェル領域10を同時に形成するものである。 - 特許庁

To provide a moistureproof insulation coating having a solid concentration capable of ensuring a sufficient moistureproof performance after application and drying in a viscosity range to be applied easily with a dispenser with the excellent adhesion to a glass substrate and long term insulation reliability, and an electronic component with an insulation process applied with the moistureproof insulation coating.例文帳に追加

ディスペンサーにより容易に塗布可能である粘度範囲において、塗布・乾燥後に十分な防湿性能を発現する厚みが確保できる固形分濃度であり、かつ、ガラス基材への密着性および長期絶縁信頼性に優れた防湿絶縁塗料、および該防湿絶縁塗料によって絶縁処理された電子部品を提供すること。 - 特許庁

A method for preparing a sample includes the step of treating glass erosion, to contact the solidified glass body obtained by fusion-mixing a high-level radioactive effluent produced in the reprocessing process of a used nuclear fuel with glass to solidify, with a hydrofluoric acid solution, with the solution temperature from a room temperature to 60°C and the hydrofluoric acid concentration from 0.0045 to 4.5 mass%.例文帳に追加

使用済核燃料の再処理過程で発生する高レベル放射性廃液をガラスと溶融混合して固化されたガラス固化体を、溶液温度が室温〜60℃で且つフッ化水素酸濃度が0.0045質量%〜4.5質量%のフッ化水素酸水溶液と接触させるガラス侵食処理工程を含むようにした。 - 特許庁

To provide a method for reforming a tar-containing gas which converts crude gas which is generated during thermally decomposing carbonaceous raw materials such as coal and biomass and contains tar of heavy chain carbon hydride or fused polycyclic aromatic carbon hydride and also, contains a high concentration of hydrogen sulfide, or refined gas, to light carbon hydride under high performance process and stably, in the presence of a catalyst.例文帳に追加

石炭やバイオマス等の炭素質原料を熱分解した時に発生し、重質鎖式炭化水素又は縮合多環芳香族炭化水素等のタールを含むと共に硫化水素を高濃度で含む粗ガス又は精製ガスを、触媒存在下で、高性能且つ安定的に軽質炭化水素に転換するタール含有ガスの改質方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing metal nanoparticles using a metal seed, whereby the metal nanoparticles can be manufactured with excellent dispersion stability at a high concentration in mass production, yield can be improved by preventing precipitation of metals in a reactor by conducting a reduction reaction at a low temperature, and a process can be shortened, and the metal nanoparticles containing the metal seed.例文帳に追加

金属ナノ粒子の大量生産においても高濃度で、かつ分散安定性に優れ、低温還元反応により金属が反応器内に沈着することを防止して収率が向上され、工程を短縮することができる、金属シードを用いた金属ナノ粒子の製造方法及び金属属シードを含む金属ナノ粒子を提供する。 - 特許庁

Impurity diffusion is computed by adding to an interface a virtual film of the same material as that of a neighboring area which was taken into consideration in original computation, but excluded from a computation area because of area limitation for shortening a computation time, an impurity concentration of an original structure is updated from the computation result, and data of the virtual film is discarded in transition to a following process.例文帳に追加

元々の計算では考慮されていたが、計算時間を削減するための領域限定により計算領域から除外された隣接領域と同一材質の仮想膜を界面に付加して不純物拡散の計算を実行し、計算結果から元の構造の不純物濃度を更新し、後続のプロセスに移る際に仮想膜のデータを破棄する。 - 特許庁

To realize a membrane crystal having the following characteristics: the autonomous formation of a nanocrystal containing a magnetic element in a high concentration is controlled artificially in a semiconductor containing a magnetic element; and even when the average composition of the magnetic element in the crystal is 20% or less, the crystal becomes to be in a ferromagnetic or superparamagnetic status at room temperature or higher, causing hysteresis in a magnetization process.例文帳に追加

磁性元素を含む半導体中で、磁性元素を高濃度に含むナノ結晶の自律的形成を人為的に制御し、結晶中の磁性元素の平均の組成が20%以下の小さい範囲でも、室温以上で強磁性あるいは超常磁性状態となって磁化過程に履歴現象が生じるような薄膜結晶を実現する。 - 特許庁

The source and drain electrode sections are formed by successively etching an insulating film 13, an ohmic-contact source electrode and drain electrode layer 12, and a low- resistance diamond layer 11 which transmits carriers metallically and has a certain degree of doping concentration in one photolithography process after the diamond layer 11, source electrode and drain electrode layer 12, and insulating film 13 are successively formed on the diamond layer 10.例文帳に追加

ソース及びドレイン電極部は、高抵抗ダイヤモンド層10の上にキャリアの伝導が金属的である程度のドーピング濃度を持つ低抵抗のダイヤモンド層11と、オーミック接触性のソース電極及びドレイン電極層12と、絶縁膜13とが順次積層された後、一回のフォトリソグラフィにより順次エッチングされて形成されている。 - 特許庁

To provide a standing pouch which can be manufactured at a low cost without any special member or any complicated process, since it has self-standing properties and capable of attaining space saving during transporting and storing, excellent in sanitation and ease-to-use when preparing administration to a patient, and capable of regulating the concentration of a content stored in the pouch.例文帳に追加

特別な部材や複雑な工程を必要とせずに低コストで製造することができ、しかも自立性を有することから輸送時や保管時の省スペース化が可能であり、患者に投与の準備をする際にも衛生性や使い勝手に優れた、パウチ内に収納した内容物の濃度調整が可能なスタンディングパウチを提供する。 - 特許庁

To provide a method for continuously polymerizing a polyarylene sulfide(PAS), effective for the enhancement of its molecular weight and stabilization by establishing a method capable of discharging a polymer phase and a solvent phase in a constant ratio from a polymerization vessel and consequently always maintaining the PAS composition (concentration) in the polymerization vessel in the continuous polymerization process of the PAS.例文帳に追加

PASの連続重合プロセスにおいて、重合槽からポリマー相と溶媒相とを一定比率で排出することができ、結果的に重合槽内のPAS組成(濃度)を常に一定に保つことのできる方法を確立し、分子量の向上及び安定化に有効なポリアリーレンスルフィドの連続重合方法を提供すること。 - 特許庁

To form an FET having good characteristics by raising the concentration of nitride in the vicinity of the surface of a gate insulating film on the side reverse to the interface of the gate insulating film and a silicon substrate, while suppressing diffusion of nitrogen to the vicinity of the interface, in a process for fabricating a semiconductor device by forming a gate insulating film containing nitrogen on the silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板上に窒素含有ゲート絶縁膜を形成する半導体装置の製造方法であって、ゲート絶縁膜のシリコン基板との界面付近への窒素の拡散を抑制しつつ、界面とは逆側のゲート絶縁膜の表面付近の窒素濃度を高めることにより、良好な特性を有するFETを形成する。 - 特許庁

To achieve flat characteristics, in which the inclination rising toward the right in a limiting current region is very small in measurement at low oxygen concentration, to dispense with the need for an expensive, complicated correction circuit having power consumption is large, to achieve correspondence by only changing one portion of the manufacturing process, and to achieve stable, accurate, low-cost measurement.例文帳に追加

低酸素濃度での測定において、限界電流領域の右上がりの傾斜が極めて少なくフラットな特性を有し、高価で消費電力の大きい複雑な補正回路を必ずしも必要とせず、製造工程の一部変更だけで対応ができ、安定して正確に測定することができる安価な限界電流式酸素センサを提供する。 - 特許庁

Further, this concentration method is characterized in that a feed gas permeable membrane 7 having a pore size not permitting the target substance contained in the mist to pass but permitting the feed gas containing either one of hydrogen and helium to pass is used in the recovery process, and the feed gas is permeated through the feed gas permeable membrane 7 to be separated from the mixed fluid containing the mist.例文帳に追加

さらに、この濃縮方法は、回収工程において、ミストに含まれる目的物質を通過させないが水素とヘリウムの少なくともいずれかを含む搬送気体を通過させるポアサイズの搬送気体透過膜7を使用し、この搬送気体透過膜7に搬送気体を透過させてミストを含む混合流体から搬送気体を分離する。 - 特許庁

A short channel effect can be effectively restrained by the use of the impurity concentration of a steep gradient which can be accurately improved in shape and arranged at a proper position, and on the other hand, impurities are injected into a polysilicon seed adjacent to the conduction channel of a transistor and diffused into the conduction channel from the polysilicon seed to relax the allowance of a process.例文帳に追加

短チャネル効果を、場所および形状の精度を改善して配置できる急峻な勾配の不純物濃度を用いて効果的に抑制でき、一方で、トランジスタの導通チャネルに隣接したポリシリコン・シードに不純物を注入し、ポリシリコン・シードから導通チャネルへ不純物を拡散することによりプロセスの許容度を緩和する。 - 特許庁

In the process for producing a semiconductor substrate by epitaxially growing an SiGe epitaxial layer containing Ge at a set concentration and a silicon thin film sequentially on an SOI substrate and then performing heat treatment a plurality of times at a specified temperature in an oxidizing atmosphere, a silicon thin film is formed after the oxide film is removed.例文帳に追加

SOI基板上に設定した濃度のGeを含むSiGeエピタキシャル層とシリコン薄膜とを順次エピタキシャル成長を形成し、次に酸化雰囲気下で所定の温度と時間で熱処理を複数回行なった基板において、酸化膜を除去した後にシリコン薄膜を形成したことを特徴とする半導体基板の製造方法である。 - 特許庁

To provide a peroxidase having high reactivity and stability at a wide hydrogen peroxide concentration, to provide a method for carrying out wastewater treatment in the textile industry, etc., accompanied with dye migration inhibition in a washing or a rinsing process and bleaching of a fiber dye in a solution or a dispersion and to provide a composition used for the method.例文帳に追加

幅広い過酸化水素濃度において、高い反応性、および安定性を有するペルオキシダーゼを提供し、よって洗濯またはすすぎ過程における染料移動阻止、並びに、溶液または分散液中の繊維染料の漂白を伴う繊維工業等での廃水処理を行う方法、およびその方法に用いる組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for removing organic impurities, without requiring the expense fop a medium, an inlet-outlet treatment apparatus or the like, capable of stably producing highly pure CO gas without reducing the concentration of the CO as in a purified gas by using a methanol-decomposed gas in the system without using the gas introduced from the outside of the system of a TSA process apparatus.例文帳に追加

TSAプロセス装置系外から導入するガスを用いずに系内のメタノール分解ガスを用いることにより、媒体及び導入・排出処理設備等の費用が不要で、且つ、精製ガス中のCOガス濃度を低下させずに高純度COガスの製造を安定して行う有機不純物の除去方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a liquefied starchy material through a liquefying treatment of a starchy material by an acid addition process, characterized in reducing agitating mechanical power energy in the reaction and raising starchy material concentration in the liquefying step and also enabling energy cut for cooling in the later-step treatment, and to provide a method for producing lactic acid.例文帳に追加

澱粉質の酸添加法による液状化処理において、反応時における撹拌の動力エネルギーを削減し、かつ液状化工程における澱粉質濃度を上げ、さらには後段処理の冷却のためのエネルギーの削減をも可能にする液状化澱粉質の製造方法および乳酸の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing the polyester multifilament high- density woven fabric comprises the following process: the warps for the fabric are made twistless or subjected to low twisting ≤5,000 in twist multiplier, then sized with an acrylic sizing agent 3-18 wt.% in concentration and ≤10 mPas in viscosity, and then drying the sized product at a temperature of as low as70°C.例文帳に追加

織物を構成する経糸には無撚若しくは撚係数5000以下の甘撚を施し、次いで糊剤濃度が3%から18%、糊剤粘度が10mPas以下のアクリル系の糊剤を使用してサイジング或いは糊付けを行い、70℃以下の低温で乾燥させることを特徴とするポリエステルマルチフィラメント高密度織物の製造方法。 - 特許庁

An aqueous calcium chloride solution containing excess calcium hydroxide taken out of an ammonia distillation step in which calcium hydroxide is reacted with ammonium chloride in the production of sodium carbonate by the Solvay process is introduced into a settling tank 1 and brought into contact with atmospheric air in the settling tank to perform concentration of the calcium chloride and neutralization of the excess calcium hydroxide.例文帳に追加

ソルベー法による炭酸ナトリウムの製造において、水酸化カルシウムと塩化アンモニウムとの反応を行うアンモニア蒸留工程より取り出される、過剰分の水酸化カルシウムを含む塩化カルシウム水溶液を沈澱槽1に導き、該沈澱槽にて大気中と接触せしめて、塩化カルシウムの濃縮と過剰分の水酸化カルシウムの中和を行う。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that surely prevents blowing out of toner from a developing means, stabilizing concentration balance of each color, even when controlled range of developing bias is restricted, suppressing change in color in process black and improving the reproducibility of the image.例文帳に追加

現像手段からのトナーの噴き出し等を確実に防止することができるとともに、現像バイアスの制御範囲が制限されている場合であっても、各色の濃度バランスを安定させることができ、プロセスブラックの色味の変化を抑えたり、画像の再現性を向上させることが可能な画像形成装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The technology for the semiconductor element manufacturing method includes a process of forming the epitaxial layer on the upper portion of the element separating structure of the recess gate area, designing the semiconductor element of the SOI tunnel structure, thereby, reducing the ion implantation concentration in the channel area and improving characteristics of refresh of the element, tWR and LTRAS.例文帳に追加

本発明は半導体素子の製造方法に関し、特にリセスゲート領域の素子分離構造上部にエピタキシャル層を形成し、SOIチャンネル構造の半導体素子を設計することによりチャンネル領域にイオン注入濃度を低減させ、素子のリフレッシュ、tWR及びLTRAS特性を改良することができる技術である。 - 特許庁

In order to apply, in particular, the CVD process, the gas is divided into partial flows, and the particle concentration or the retention time of the partial flows on the substrate surface or immediately in the vicinity of the substrate surface is regulated so that the particles of the equal quantity are deposited or reacted for each unit area or each unit time.例文帳に追加

基板の面を所望の範囲で被覆し、又はガスと反応させて処理し、その際特にCVD法を適用するために、ガスを部分流に分割し、単位面積及び単位時間につき等量の粒子が析出ないしは反応するように、基板の面上又は面の直近の、部分流の粒子濃度ないしは滞留時間を調整する。 - 特許庁

In the cleaning method for the resistance change type sensor used in an atmosphere low in the concentration of oxygen and containing reductive gas or in the exhaust gas atmosphere of an internal combustion engine and having an element part mainly formed from an oxide ceramic material, a process for heating and cleaning the element part at 900-1,200°C is included.例文帳に追加

低酸素濃度ないし還元性ガスが含まれる雰囲気、若しくは、内燃機関の排気ガス雰囲気で使用されるとともに、酸化物セラミックス系材料から主として形成された素子部を有する抵抗変化式センサのクリーニング方法において、前記素子部を900〜1200℃の温度で加熱クリーニングする工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In a gasification process using a coal slurry having a coal concentration of from 50 to 80 wt.%, a coal 1 is mixed with water 2 and methanol 3, a portion or all of water in the coal slurry is substituted by methanol to yield a methanol-mixed coal slurry 5, and the methanol-mixed coal slurry 5 is supplied to a gasification burner in a gasification furnace 8 to carry out gasification.例文帳に追加

石炭濃度が50〜80wt%の石炭スラリを用いたガス化方法において、石炭1、水2、およびメタノール3を混合すると共に、上記石炭スラリ中の水の一部又は全部をメタノールに置き換えたメタノール混合石炭スラリ5とし、そのメタノール混合石炭スラリ5をガス化炉8のガス化バーナに供給してガス化を行うものである。 - 特許庁

A printer control device performs, in image formation process control, processing of detecting a misalignment detection pattern (step S305), and processing of detecting a concentration detection pattern (step S307), and thereafter refers to a first reference signal level and a second reference signal level to determine whether the results of the detection processing are valid or not (step S309).例文帳に追加

プリンタ制御装置は、画像形成プロセス制御において、位置ずれ検出用パターンの検出処理(ステップS305)、及び濃度検出用パターンの検出処理(ステップS307)を行った後、第1参照信号レベル及び第2参照信号レベルを参照し、検出処理の結果が有効であるか否かを判断する(ステップS309)。 - 特許庁

A process tank 10 in which the dampening water divided by the branch pipe 15 is allowed to stand, a concentration tank 11 which receives liquid of an upper layer from the tank 10, separates suspending ink, and returns the residual liquid to the tank 10, and a filter device 7 which filters the liquid in the tank 10 and introduces the liquid into the tank 8 are provided.例文帳に追加

分岐管15で分岐された湿し水を静置するプロセスタンク10と、同プロセスタンク10内から上層の液を受入れて浮遊したインキを分離し残留液を前記プロセスタンク10へ戻す濃縮タンク11と、前記プロセスタンク11の液を濾過して湿し水冷却循環タンク8へ流入させる濾過装置7を有している。 - 特許庁

The method of treating the surfaces of medical instruments which are contaminated with protein associated disease (such as prions) includes a process contacting the surface with a composition containing a source of peroxide ions, such as hydrogen peroxide, at a molar concentration of at least 1.5M peroxide (equivalent to approximately 5% hydrogen peroxide) and preferably, about 2M peroxide (approximately 7% hydrogen peroxide).例文帳に追加

タンパク質関連疾患(プリオンなど)で汚染された医療機器の表面を処理する方法は、この表面と過酸化物イオン源を含む組成物(例えば、少なくとも1.5M過酸化物のモル濃度の過酸化水素(約5%過酸化水素と等価である)および好ましくは、約2M過酸化物(約7%過酸化水素))とを接触する工程を含む。 - 特許庁

The control device 22 forcibly energizes the heater 19a when the concentration learning process is not completed even if the engine temperature is equal to or lower than the predetermined temperature range, and corrects the fuel injection quantity so that a difference between an actual air-fuel ratio detected by the air-fuel ratio sensor 19 activated by the forcible energization and a target air-fuel ratio is settled within a predetermined range.例文帳に追加

制御装置22は、機関温度が所定の温度範囲以下のときでも濃度学習処理が完了していないときにはヒータ19aへの強制通電を行い、その強制通電により活性化された空燃比センサ19で検出される実空燃比と目標空燃比とのずれが所定範囲内に収まるように燃料噴射量を補正する。 - 特許庁

The manufacturing method comprises heating the steel material in a heating furnace having an atmosphere of a low oxygen concentration to form a scale layer formed of only a wustite layer, and to evaporate/dissipate molten Cu existing in the interface between the scale/matrix; or alternatively heating the steel material, extracting it from the heating furnace, and carrying out descaling treatment on it twice or more times during the first hot rolling process.例文帳に追加

また、その製造方法は、加熱炉での加熱を低酸素濃度雰囲気条件で行ってウスタイト層のみからなるスケール層とすることでスケール/地鉄界面の溶融Cuを蒸発・飛散させるか、または、鋼材を加熱し加熱炉から抽出した後、最初の熱間圧延の間に2回以上のスケール除去処理を施すことを特徴とする。 - 特許庁

The luminescent element has on a substrate a luminescent laminated layer with a transparent electrode, one or more organic compound layers including a luminescent layer and a back electrode laminated, of which, the luminescent layer is an element containing a phosphorescent compound, and at least one of the organic compound layers is one filmed by a wet-process film-forming method under atmosphere with oxygen concentration of 100 ppm or less.例文帳に追加

本発明の発光素子は基材、透明電極、発光層を含む一層以上の有機化合物層及び背面電極を有し、該発光層が燐光発光性化合物を含有する素子であって、有機化合物層の少なくとも一層が、酸素濃度100ppm以下の雰囲気下で湿式製膜法により製膜した層であることを特徴とする。 - 特許庁

The property of10^5 Ωcm specific resistance, initial magnetic permeability of200, ≥170 °C Curie temperature and frequency characteristics which are required as the MnZn ferrite for electronic component are exhibited by adding 0.1-5 wt.% Bi_2O_3 in the main component and controlling the concentration of oxygen at the maximum holding temperature in a sintering process to 1-10%.例文帳に追加

この主成分に、0.1〜5重量%のBi_2O_3を添加し、さらに、焼結工程の最高保持温度における酸素濃度を、1〜10%とすることで、電子部品用のMnZnフェライトとして、必要な、10^5Ω・cm以上の比抵抗、200以上の初透磁率、170℃以上のキュリー温度、周波数特性を発現し得る。 - 特許庁

A diffusion layer 5 and an anode layer 4 are formed in partial regions of the whole surface of a cathode layer 2, and thermal treatment during forming the anode layer 4 is incompletely finished so that defects caused by an ion implantation process during forming the anode layer 4 remain, while the impurity concentration of the diffusion layer 5 is set higher than that of the cathode layer 2.例文帳に追加

カソード層2の全表面部のうちの一部の領域に形成される拡散層5及びアノード層4に、それぞれ、アノード層4形成時のイオン注入処理により発生する欠陥を、アノード層4形成時の熱処理を不完全にして残留させると共に、拡散層2の不純物濃度をカソード層2よりも高くする。 - 特許庁

The cryptoxanthin-containing composition is obtained through the following process: adding alkaline to Citrus unshu pulp extraction liquid obtained by extracting/filtering the Citrus unshu pulp being residues after squeezing the Citrus unshu with hexane and distilling the hexane via vacuum concentration, and dissolving the residues into ethanol; stirring the mixture and regulating the mixture to pH 4; adding an emulsifier to the mixture; and stirring the mixture.例文帳に追加

温州みかんの搾汁後の残渣である温州みかんパルプをヘキサンで抽出・ろ過後、減圧濃縮によりヘキサンを留去し、残渣をエタノールに溶解して得られる温州みかんパルプ抽出液に対して、アルカリを添加、撹拌後、pHを4に調整し、乳化剤を加え攪拌することにより得られるクリプトキサン含有組成物。 - 特許庁

The floatation process is applied when recovering the gold not leached efficiently from the leached residue, the leached residue is subjected to a copper leaching operation, until a copper concentration is brought into 1.0 mass% or less, the leached residue is recovered thereafter by solid-liquid separation, and the obtained leached residue is repulped with water, to recover the gold together with sulfur by floatation.例文帳に追加

浸出残渣から効率的に浸出できない金を回収する際の浮遊選鉱法であって、前記浸出残渣を銅濃度が1.0mass%以下になるまで銅浸出操作を行い、その後、固液分離で浸出残渣を回収し、得た浸出残渣を水でリパルプし、浮遊選鉱にて金をイオウと一緒に回収する。 - 特許庁

例文

To provide a structural member made of a cemented carbide and manufactured by a powder metallurgy process, in which at least one additive for controlling growth of crystals of V, Cr, Ti, Ta and Nb, shows a concentration transition in a step-by-step manner at least partially, and thereby the mechanical characteristics show the gradual change, and to provide a method for manufacturing the structural member.例文帳に追加

V、Cr、Ti、Ta及びNbの結晶の成長を抑制する少なくとも1つの添加物が、少なくとも局部的に段階を辿る濃度推移を示し、それによりその機械的特徴も漸進的な推移を示す、粉末冶金法により製造される超硬合金から成る構造部材とこの構造部材の製造方法を提供する。 - 特許庁




  
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