「deposition up」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a film deposition method and a film deposition apparatus for allowing film deposition at low temperatures without inflicting charge-up damage to a substrate, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

低温で成膜でき、且つ、基板にチャージアップダメージを与えることの無い成膜方法及び成膜装置、並びに半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a polypropylene film for vapor deposition having excellent wind-up properties and processability.例文帳に追加

巻取り性や加工性に優れた蒸着用ポリプロピレンフィルムを提供する。 - 特許庁

The evaporation source in a vapor deposition apparatus has an actuator for moving a crucible up and down.例文帳に追加

蒸着装置の蒸着源に坩堝を昇降できる駆動部を設ける。 - 特許庁

To provide a method and a system for vacuum deposition by which the deposition rate of a vapor deposition material can be controlled with greater follow-up properties than heretofore.例文帳に追加

従来より蒸着物質の蒸着速度を追従性良く制御することができる真空蒸着方法及び真空蒸着装置を提供することにある。 - 特許庁

In the deposit-up type sputtering vapor deposition, the substrate is not polluted, and the offset film deposition is also performed.例文帳に追加

このため、本願発明のデポアップ型スパッタ蒸着においては、基板を汚染することなく、また、オフセット成膜も可能である。 - 特許庁

To form a capacitor which can be built in a build-up substrate using an aerosol deposition method.例文帳に追加

ビルドアップ基板中に内蔵できるキャパシタを、エアロゾルデポジション法を使って形成する。 - 特許庁

To provide a biaxially stretched polyester film roll for vapor deposition which is excellent in gas barrier property and adhesiveness with a vapor deposition layer up to a winding core part of the film roll before vapor deposition processing in the long-size wound film roll after vapor deposition processing.例文帳に追加

蒸着加工された長尺巻きのフィルムロールにおいて、蒸着加工前のフィルムロールの巻芯部まで、ガスバリアー性及び蒸着層との密着性に優れた蒸着用二軸延伸ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The deposition time is reduced by depositing the deposition material up to a film thickness smaller than the targeted film thickness at a high evaporation rate.例文帳に追加

高蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚以下にまで蒸着することによって、蒸着時間を短縮することができる。 - 特許庁

A winding type film deposition system 1 performs deposition in vacuum on the deposited film 4 sent out from a deposition film roll 40 and winds up the deposited film 4 into a roll.例文帳に追加

本発明は、成膜用フィルムロール４０から繰り出された成膜用フィルム４上に真空中で成膜を行い、かつ、成膜された成膜用フィルム４をロール状に巻き取る巻取式成膜装置１である。 - 特許庁

Then, the deposition material is deposited up to a film thickness smaller than a targeted film thickness at a high evaporation rate, the thickness of the deposition film is measured, and thereafter the deposition material is deposited up to the targeted film thickness at a low evaporation rate based on the film thickness measurement result.例文帳に追加

その際に、高蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚以下にまで蒸着し、この蒸着膜厚を測定した後、膜厚測定結果に基づいて、低蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚まで蒸着する。 - 特許庁

The bottom of the spin valve is deposited up to a pinned layer, a deposition chamber is provided, and the spacer layer is sputtered thereon.例文帳に追加

スピンバルブのボトムをピン層まで蒸着し、蒸着室を用意し、スペーサ層をその上にスパッタリングする。 - 特許庁

As a result, the uneven deposition of the processing liquid on the surface of the planar work after being pulled up are suppressed.例文帳に追加

その結果、引き上げ後の板状ワーク表面上における処理液の付着ムラが抑制される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing glass articles with a high pulling-up speed and improved deposition efficiency.例文帳に追加

高い引上速度と改善された堆積効率でガラス物品を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a rolling up type vacuum deposition method by which the trouble of electrification in a film base material is eliminated on electron beam deposition, and stable film deposition free from damages can be performed.例文帳に追加

本発明は、電子ビーム蒸着を行うときにフィルム基材の帯電障害をなくし、損傷のない安定な成膜を可能とする巻取式真空蒸着方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

A protective film of a protective-film-forming vapor deposition material 15 is formed on the surface of the substrate by means of an evaporation build-up means that evaporates vapor deposition material particles from the protective-film-forming vapor deposition materials 15 placed in the hearths.例文帳に追加

ハースに入れられた保護膜用蒸着材１５から蒸着材粒子を蒸発させて基板表面に堆積させる蒸発堆積手段により基板表面に保護膜用蒸着材１７が形成される。 - 特許庁

To provide a technology for delivering and winding up a deposition film, without damaging a thin film formed on the deposition film in vacuum.例文帳に追加

真空中で成膜用フィルム上に形成された薄膜に対してダメージを与えることなく、成膜用フィルムを搬送して巻き取ることができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a simple substrate fixing tool capable of performing offset film deposition without polluting a substrate in the deposit-up type sputtering vapor deposition.例文帳に追加

本願発明は、デポアップ型スパッタ蒸着において、基板を汚染することなく、また、オフセット成膜も可能である簡便な基板の固定器具を提供するものである。 - 特許庁

In addition, this thin build-up welding with the high deposition rate is submerged arc welding using conductive flux.例文帳に追加

さらに、前記溶着速度の速い薄盛溶接は、通電性を有するフラックスを用いたサブマージアーク溶接である。 - 特許庁

And in response to the detection, an initialization operation (step S6) is performed so as to quickly make up for the shortage of the deposition toner.例文帳に追加

そして、この検出を受けて初期化動作（ステップＳ６）を実行して堆積トナーの不足を迅速に解消している。 - 特許庁

The transparent substrate 2 is set up in a solution spouting device 50, and deposition of organic EL layers 4 is carried out in the solution spouting device 50.例文帳に追加

この透明基板２を溶液噴出装置５０にセットし、溶液噴出装置５０で有機ＥＬ層４を成膜する。 - 特許庁

In the oxygen deposition nucleus formation process, heat treatment with rapid heating up and down is conducted on the wafer material (silicon wafer) 33 after IG.例文帳に追加

酸素析出核形成工程ではＩＧ後のウェーハ素材（シリコンウェーハ）３３に対して、急速昇降温熱処理を行う。 - 特許庁

Since deposition-up type ion plating devices 3, 4 to implement the same film forming are provided, the throughput in film forming can be increased.例文帳に追加

同一の成膜を行うデポアップ型のイオンプレーティング装置３、４を備えるので、成膜のスループットを高めることができる。 - 特許庁

To provide a roll-up type electron beam vapor deposition apparatus having an improved yield and productivity of a vapor deposition film by avoiding a problem of uneven heating due to geometric limitation of an electron beam and by stabilizing vaporization and forming a uniform vapor deposition film.例文帳に追加

電子ビームの幾何学的制約によって加熱が不均一になる問題を回避し、蒸発安定化及び蒸着膜の均一化を図ることで、蒸着フィルムの収率及び生産性が向上する巻取式電子ビーム蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plating film deposition apparatus which can maintain the bottom-up amount in wiring or the amount of impurities contained in a plating film at a constant value when groove wiring or the like is deposited by plating; and to provide a method for controlling film deposition.例文帳に追加

溝配線等をめっき成膜する際の配線内のボトムアップ量やめっき膜に含まれる不純物量を一定に保持するめっき成膜装置、成膜制御方法を提供する - 特許庁

The wire rod 40 is fed from a supply spool 121a, travels several times between the pulley parts 20a and 20b, is subjected to vapor-deposition while travelling, and wound up by a take-up spool 121b.例文帳に追加

線材４０は、供給スプール１２１ａから供給され、プーリ部２０ａ，２０ｂの間を複数回往復し、その往復の間に蒸着されて巻取りスプール１２１ｂに巻き取られる。 - 特許庁

By this constitution, the deposition layer 14 of the material grains is stirred in accordance with the movement of the stirring rod 15, and the grains are wound up.例文帳に追加

このような構成によれば、攪拌棒１５の動きにつれて材料粒子の堆積層１４が攪拌され、粒子が巻き上げられる。 - 特許庁

Thereby, the deposition layer 36 can be baked up to its inside and it is not necessary to bake it in a furnace, whereby the deposition layer 36 excelling in adhesion to a normal rib 35 can be easily produced on the rib-missing defective part 35a.例文帳に追加

したがって、堆積層３６の内部まで焼成でき、炉で焼成する必要がないので、正常なリブ３５との密着性が良い堆積層３６をリブ欠け欠陥部３５ａに容易に生成することができる。 - 特許庁

The nonmagnetic substrate is once taken out from the film deposition system after the formation up to the soft magnetic backing layer, and the nonmagnetic substrate is washed, and then introduced again into the film deposition system to deposit films from the intermediate layer.例文帳に追加

軟磁性裏打ち層までを成膜後に一旦成膜装置から非磁性基板を取り出し、この非磁性基板の洗浄を行なった後に再び成膜装置内に導入して中間層からの成膜を行なう。 - 特許庁

In a deposition process in which zinc or mixture of zinc and aluminum is vacuum-deposited at least on one side of a film paid off from a raw material roll and taken up into a product roll, the film is taken up into the product roll after the deposition side of the film is exposed to oxygen gas.例文帳に追加

原反ロールから引き出されたフィルムの少なくとも片側の面に亜鉛もしくは亜鉛とアルミニウムの混合物を真空蒸着して製品ロールに巻き取る蒸着工程において、蒸着された面を酸素ガスに暴露した後に前記製品ロールに巻き取ることを特徴としている。 - 特許庁

After a substrate is evenly heated under vacuum with a sheath heater, a vapor-deposition source holder where a vessel 202 in which a vapor deposition material is sealed up is provided is moved relative to a substrate 201 by some pitch within a chamber.例文帳に追加

本発明は、シースヒータで基板を均一に真空加熱した後、チャンバー内において、蒸着材料が封入された容器２０２を設置した蒸着源ホルダを、基板２０１に対してあるピッチで移動することを特徴とする。 - 特許庁

Glass soot formed by burners 21, 22, 23 is deposited on the lower end of a rotating target rod 12 and the rod 12 is pulled up according to the deposition to form a deposition 11 of glass soot having a columnar form.例文帳に追加

バーナ２１、２２、２３で生成されたガラス微粒子を回転するターゲット棒１２の下端に堆積させ、その堆積に応じてターゲット棒１２を引き上げることによりガラス微粒子堆積体１１を円柱状に形成する。 - 特許庁

To provide an electrostatic deposition system which can form a coat with a desired thickness uniformly by piling up powder on the surface of an object.例文帳に追加

対象物の表面上に粉体を堆積させて所望の厚さの膜を均一に形成することができる静電成膜装置を提供する。 - 特許庁

During the material deposition process, deposited material is formed within the trench and the build up of material adjacent to a peripheral edge of the wafer is thereby avoided.例文帳に追加

材料の堆積処理中に、溝の中に堆積材料が形成され、それにより、ウェハの周縁部エッジに隣接した材料の蓄積が回避される。 - 特許庁

To provide a method for operating a hydrogen generator and a fuel cell system that can efficiently prevent deposition of carbon and condensation of water at start-up.例文帳に追加

起動時に炭素の析出や水の凝縮を効率よく防止できる水素生成装置および燃料電池システムの運転方法を提供する。 - 特許庁

A capacitor film 11 is formed by providing both surfaces of an elastic dielectric film 12 with electrode layers 13 and 14 by vapor deposition or printing and folded up into concertinas.例文帳に追加

弾性誘電体フィルム１２の両面に蒸着又は印刷により電極層１３，１４を設けてなるコンデンサフィルム１１を、蛇腹状に折り畳む。 - 特許庁

To solve such a problem that, when performing film deposition in a state of creeping-up of a raw material melt along a side wall of a crucible, uniformity in thickness of a deposited thin film is degraded.例文帳に追加

坩堝の側面に原料融液が這い上がった状態で成膜を行うと、形成された薄膜の厚さの均一性が低下してしまう。 - 特許庁

To achieve both short channel effect suppression and mobility improvement by devising a film deposition method for a silicon-germanium film making up a source/drain.例文帳に追加

ソース・ドレインを構成するシリコンゲルマニウムの成膜方法を工夫することで、短チャネル効果の抑制と移動度の向上を両立させることを可能とする。 - 特許庁

The film deposition control section 22 stores the correlation data between the state parameters of the plating solution and plating film deposition conditions for controlling the bottom-up amount or the like in groove wiring to be constant, and determines film deposition conditions such as a plating current value or the like by comparing the parameters showing the state of a plating solution practically used with the correlation data.例文帳に追加

成膜制御部２２は、溝配線におけるボトムアップ量等を一定にするためのめっき液状態パラメータとめっき成膜条件との相関データを記憶しており、実際に使用されるめっき液の状態を示すパラメータをこの相関データと照合して、めっき電流値等のめっき成膜条件を決定する。 - 特許庁

To obtain a powdery make up composition or a skin care composition capable of applying deposition to the skin, particularly make up finish to the natural skin, relatively free from powdery feeling and capable of seeing through natural texture of the skin.例文帳に追加

比較的粉っぽくなく、皮膚の自然な肌理を透けて見えるようにできる皮膚への堆積物、特に天然の皮膚へのメイクアップを施せる粉末状のメイクアップ組成物またはスキンケア組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a disk transporting device which speeds up the transportation of disks between process chambers, does not release gases during processing, allows perfect deposition on the outer peripheral parts of the disks as well and does not stick film components to the transporting device during the deposition.例文帳に追加

処理室間におけるディスクの搬送を高速化し、また処理時にガス放出がなく、更には成膜処理時には、ディスクの外周部にも完全な成膜が可能で、搬送装置には膜成分が付着しないディスク搬送装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a container capable of reducing creeping-up of a liquid onto an opening part by capillary force and deposition of a bubble onto the inner wall, and to provide an analyzer using the container.例文帳に追加

毛細管力による開口部への液体の這い上がりと内壁への気泡の付着とを低減した容器および当該容器を用いた分析装置を提供すること。 - 特許庁

The organic EL vapor deposition material is heated in an inert gas at atmospheric pressure to a melting point or higher up to a physical property in which the degree of a vacuum is not lowered for double figures or more by a logarithmic expression.例文帳に追加

真空度が対数表示で２桁以上低下しない物性まで大気圧下、不活性ガス中で融点以上に有機ＥＬ蒸着材料の加熱を行う。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus which does not need to move a lower lid up and down and to put a workpiece support means in and out from a vacuum chamber, and is easily maintained.例文帳に追加

下蓋を昇降させることなく、またワーク支持手段を真空チャンバから出し入れすることなく、メンテナンスが容易な真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

A vapor deposition material consisting of silver chloride or essentially consisting of silver chloride is dissolved by heating-up in a plurality of stages at ≥100°C, so as to be vacuum-deposited.例文帳に追加

塩化銀または塩化銀を主成分とする蒸着材料を、１００℃以上の温度での複数段階の昇温加熱で熔解させて真空蒸着する。 - 特許庁

To stabilize the electric signals outputted from an image picking-up means even when the quantity of light becomes insufficient due to the deposition of a scattered material caused by a semiconductor manufacturing process to a lens etc.例文帳に追加

半導体製造処理に起因する飛散物のレンズ等の付着による光量不足が生じても、撮像手段から出力される電気信号を安定させる。 - 特許庁