「deposition layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

The card has a single layer card base material or one or more layers of card base materials composed of a core base material and an exterior base material, a metal vapor deposition layer on the card base material, and a protective layer on the metal vapor deposition layer where the metal vapor deposition layer has a flat part and a linear thick or thin film arranged partly in a predetermined direction.例文帳に追加

上記課題を解決するため、本発明では、単層からなるカード基材又は１層以上のコア基材と外装基材からなるカード基材と、カード基材上に金属蒸着層を有し、該金属蒸着上に保護フィルム層を有するカードであって、該金属蒸着層が、平坦部と部分的に一定方向に並んだ線状の厚膜部又は薄膜部とを有することを特徴とするカードとする。 - 特許庁

The oblique vapor deposition film layer consists of a multilayer film formed by alternately depositing a first kind of oblique vapor deposition films 22 having steep inclination (at ≥60° inclination angle) and a second kind of oblique vapor deposition films having gentle inclination (at ≤25° inclination angle).例文帳に追加

前記斜め蒸着膜層は、急傾斜の第１種の斜め蒸着膜２２（傾斜角６０°以上）と緩傾斜の第２種の斜め蒸着膜２３（傾斜角２５°以下）とが交互に形成されてなる多層膜からなる。 - 特許庁

To provide a vapor deposition film excellent in effect for imparting acid resistance to a vapor deposition layer and capable of being also used for packaging acidic food, in particular an acid-resistant vapor deposition film markedly reduced in deterioration after heat sterilization treatment.例文帳に追加

蒸着層への耐酸性付与効果に優れ、酸性食品包装用としても使用できる蒸着フイルムの提供、特に、加熱殺菌処理後の劣化が著しく少ない耐酸性蒸着フイルムの提供を図る。 - 特許庁

A method for preparing such flexible OLED, in which the hole transporting layer, the electron transporting layer and/or the emissive layer, if present, can be produced using vacuum deposition techniques is further disclosed.例文帳に追加

さらに、ホール輸送層、電子輸送層および／または発光層が、存在するならば、真空蒸着技術を用いて製造されうる、可撓性ＯＬＥＤの製造法に関する。 - 特許庁

After the primer layer is formed on the surface of the base material F by the primer layer forming part 2, the film can be film-deposited by the plasma P on the surface of the primer layer by the film deposition part 1.例文帳に追加

プライマー層形成部２で基材Ｆの表面にプライマー層を形成した後、成膜部１でプライマー層の表面に皮膜をプラズマＰにより成膜することができる。 - 特許庁

A stripping layer 20 composed of WO_3 is formed on a glass substrate 10 by a vacuum deposition and an optical filter multiple layer 30 is formed on the stripping layer 20 by sputtering.例文帳に追加

真空蒸着によってガラス基板１０上にＷＯ_3 からなる剥離層２０を形成した後、剥離層２０の上にスパッタリングによって光学フィルタ多層膜３０を形成する。 - 特許庁

The oxide semiconductor layer or the oxide insulating layer in contact with the oxide semiconductor layer may be formed in a deposition chamber which is evacuated using a cryopump to thereby reduce the impurity concentration.例文帳に追加

また、酸化物半導体層、又は酸化物半導体層に接する酸化物絶縁層を、クライオポンプを用いて排気して不純物濃度が低減された成膜室内で成膜すればよい。 - 特許庁

Tensile stress acting on the SE layer 3 can be lessened by controlling temperature change of the positive electrode layer 1 during and after film deposition of the SE layer 3.例文帳に追加

正極層１の温度変化を制御することで、ＳＥ層３の成膜中においても、ＳＥ層３の成膜後においても、ＳＥ層３に作用する引張応力を小さくすることができる。 - 特許庁

A metal bonding layer 5 and wiring conductor 7 area covered with a vacuum deposition layer 9 having higher anticorrosiveness than the metal bonding layer 5 and wiring conductor 7.例文帳に追加

金属接合層５及び配線導体７よりも耐腐食性の高い真空成膜層である真空成膜層９により、金属接合層５及び配線導体７が被覆されている。 - 特許庁

Furthermore, a method of fabricating a flexible OLED is provided in which the hole transporting layer, the electron transporting layer, and/or the emissive layer, if present, may be prepared using the vacuum deposition technique.例文帳に追加

さらに、ホール輸送層、電子輸送層および／または発光層が、存在するならば、真空蒸着技術を用いて製造されうる、可撓性ＯＬＥＤの製造法に関する。 - 特許庁

A first epitaxial growth step of forming a buffer layer 3 on a base plate and a second epitaxial growth step of forming a compound semiconductor layer 4 on the buffer layer 3 are carried out at a growth temperature of ≤600°C by an MOCVD (metal organic chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

基体上にバッファ層３を形成する第１のエピタキシャル成長工程と、このバッファ層３上に化合物半導体層４を形成する第２のエピタキシャル成長工程とを、６００℃以下の成長温度におけるＭＯＣＶＤ（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）法によって行う。 - 特許庁

A reflection layer 20 made of an aluminum or silver deposition membrane, a coloring layer 21 made of a coloring pigment deposition membrane, and a transparent top coat layer (protective membrane) 22 are sequentially laminated on surfaces of base materials (18, 23), so as to form colored mirrors (16, 17).例文帳に追加

基材（１８，２３）の表面上に、アルミ又は銀の蒸着膜からなる反射層２０、カラー顔料の蒸着膜からなる着色層２１、透明なトップコート層（保護膜）２２をそれぞれ順番に積層して構成された着色反射鏡（１６，１７）とする。 - 特許庁

A cathode is formed first, and a luminous layer is formed by deposition, followed by forming by sputtering of an anode, forming by deposition of multi-layer interference layers, and coating of a protective layer, and finally, a package is completed as well as a device test is carried out to complete the organic EL full color panel.例文帳に追加

先にカソードを形成し、更に発光層を蒸着形成し、さらにアノードをスパッタ形成し、さらに複数層の干渉層を蒸着形成し、さらに保護層を塗布し、最後にパッケージ完成し並びにデバイス試験を行い有機ＥＬフルカラーパネルを完成する。 - 特許庁

To provide a gas barrier film having an excellent gas barrier property since though a gas barrier layer in a laminate is formed by a vacuum deposition method, a layer just under the gas barrier layer is neither deformed and nor deteriorated by heat in vapor deposition.例文帳に追加

真空蒸着法により積層体中のガスバリア層を形成した場合であっても、当該ガスバリア層の直下の層が蒸着時の熱により変形したり、劣化することがなく、その結果優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁

The pressure sensitive adhesive sheet has such a structure that a separator, adhesive layer and base sheet having at least two metal vapor deposition layers are laminated in this order and that the metal vapor deposition layer is not exposed on the face in the side opposite to the adhesive layer after the separator is removed.例文帳に追加

この粘着シートは、セパレータ、粘着剤層、少なくとも２層の金属蒸着層を有する基材シートの順に積層されており、且つ、セパレータを除いた該粘着剤層と反対側の面において金属蒸着層が露出していない構造を有する。 - 特許庁

The inorganic vapor deposition film is constituted by providing an inorganic oxide vapor deposition layer (12) at least on one side of a plastic film (11) and providing a protective layer (13) as a film composed of a mixture of melamine and an aromatic carboxylic compound or an aromatic carboxylic compound derivative on the layer (12).例文帳に追加

プラスティックフィルム（１１）の少なくとも片面に無機酸化物蒸着層（１２）を設け、さらにその上にメラミン及び芳香族カルボン酸化合物または該芳香族カルボン酸化合物誘導体の混合物を成分に持つ被膜である保護層（１３）を設けた。 - 特許庁

A phosphor layer 1 constructed of phosphor accumulated by an air phase deposition method is arranged on a support 3, and a protective layer is arranged on the phosphor layer 1 by vapor deposition of an inorganic material having a gas barrier ability without any light absorption in a wavelength ranging from 300 nm to 1000 nm.例文帳に追加

支持体３上に気相堆積法により蛍光体を堆積されてなる蛍光体層１を設け、この蛍光体層１上に、波長300nmから1000nm において光吸収がなくかつガスバリア性を有する無機物質を蒸着して保護層を設ける。 - 特許庁

The barrier film is constituted by providing the vapor deposition film of the inorganic oxide on one surface of a base material film and further providing a primer agent layer on the vapor deposition film of the inorganic oxide and further more providing a thermally adhesive resin layer on the primer agent layer.例文帳に追加

基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の上に、プライマ−剤層を設け、更にまた、該プライマ−剤層の上に、熱接着性樹脂層を設けることを特徴とするバリア性フィルムに関するものである。 - 特許庁

For the electroplating deposition of the separate layer, a ceramic carrier 11 sintered with the base layer 13 and the coating layer 15 is immersed in an electroplating bath and is connected to the base layer 13 making it as a cathode.例文帳に追加

別の層（２１）の電気めっき堆積のためには、ベース層（１３）及び被覆層（１５）と一緒に焼結したセラミック支持体（１１）を電気めっき浴（３１）に浸漬しかつベース層（１３）を陰極として接続する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical disk of a type where a reflection layer, recording layer and light transmission layer are formed in this order on a substrate in which the deposition conditions of the recording layer are adequately set.例文帳に追加

基板上に、反射層、記録層及び光透過層をこの順に形成するタイプの光ディスクの製造方法において、記録層の成膜条件が適切に設定された光ディスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device and its manufacturing method to enable strong bonding between a wiring layer and an underlying anti-diffusion layer (barrier layer), even when the wiring layer is formed by chemical vapor deposition(CVD).例文帳に追加

化学気相蒸着（ＣＶＤ）によって配線層を形成する場合においても、該配線層を下地の拡散抑制（バリヤ）層と強固に接合することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The thin silicon layer may be substantially removed from the surface of the insulator during a chemical vapor deposition.例文帳に追加

シリコンの薄い層は、化学気相成長の間に絶縁体の表面から実質的に取り除かれてもよい。 - 特許庁

To perform deposition and formation of a light transmissible layer on a disk-like substrate without forming a central hole.例文帳に追加

中心孔を形成することなく、ディスク状基板材料に成膜、光透過性樹脂層の形成をする。 - 特許庁

The magnetic layer 2 is deposited by a vacuum deposition method to constitute a column in which a plurality of Co particles are continued.例文帳に追加

磁性層２は真空斜法蒸着法により成膜し、Ｃｏ粒子が複数連なったカラムを形成する。 - 特許庁

CONDUCTIVE SINTERED SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING OPTICAL RECORDING MEDIUM DIELECTRIC PROTECTIVE LAYER, CAPABLE OF HIGH SPEED FILM DEPOSITION例文帳に追加

高速成膜が可能な光記録媒体誘電体保護層形成用導電性焼結スパッタリングターゲット材 - 特許庁

VACUUM DEPOSITION METHOD OF MULTI-LAYER THIN FILM FOR PLASTIC OPTICAL COMPONENT AND PHOTOGRAPHING ELEMENT HAVING THE PLASTIC OPTICAL COMPONENT例文帳に追加

樹脂製光学素子用多層薄膜真空蒸着方法とその樹脂製光学素子を持つ撮影素子 - 特許庁

A mark is formed with the metallic color vacuum deposition layer on the exterior surface of the housing for an electronic device.例文帳に追加

前記金属色真空蒸着層によって、前記電子装置用ハウジングの外面にはマークが形成される。 - 特許庁

The light transmissive metal oxide which serves as the charge transport layer 3 is deposited using an aerosol deposition method.例文帳に追加

また、電荷輸送層３となる光透過性を有する金属酸化物はエアロゾルデポジション法を用いて形成する。 - 特許庁

By using a combustion chemical vapor deposition method (CCVD) or the like, a perovskite type dielectric layer is formed on a textured substrate.例文帳に追加

配向基板上に、燃焼化学蒸着法（ＣＣＶＤ）などを用いてペロブスカイト系誘電層を形成する。 - 特許庁

The substrate layer 12 is formed on the nonmagnetic substrate 2 by a vapor growth method such as sputtering and vapor deposition.例文帳に追加

この下地層１２は、非磁性基板２上に、スパッタリングや蒸着等の気相成長法により形成する。 - 特許庁

ACTIVE ENERGY RAY-CURABLE RESIN COMPOSITION, COATING AGENT COMPOSITION, COATING AGENT FOR DEPOSITION ANCHOR LAYER AND CURED COATING例文帳に追加

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、コーティング剤組成物、蒸着アンカー層用コーティング剤および硬化被膜 - 特許庁

To realize a metal deposition film having a low contact resistance by inactivating structural defects in a silicon layer.例文帳に追加

シリコン層における構造的な欠陥を不活性化し、低接触抵抗である金属被着膜を実現すること。 - 特許庁

The copper film is formed on a silicon substrate with a barrier layer formed by a plating method or a vapor deposition method.例文帳に追加

バリア層が形成されたシリコン基板上にめっき法あるいは気相堆積法により銅膜を成膜する。 - 特許庁

SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR LAYER DEPOSITION, FIELD EFFECT SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

半導体層堆積用基板、電界効果型半導体装置及び電界効果型半導体装置の製造方法。 - 特許庁

A microcomponent storage device and a thin layer deposition device for the above method are also provided.例文帳に追加

本発明はまた、上記方法を実施するマイクロコンポーネント保管装置および薄層形成装置をも提供する。 - 特許庁

To provide an integrated electroless deposition apparatus that can deposit a uniform layer with minimum defects.例文帳に追加

最小限の欠陥しかない均一な層を堆積することのできる一体型無電界堆積装置を提供する。 - 特許庁

The joining layer with a uniform thickness is formed on the second junction by the vapor deposition method, and airtightness is improved.例文帳に追加

気相成長法により第二接合部上に厚さの均一な接合層を形成し、気密性が向上する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus that reduces the probability of developing a peeling of a metallic layer and has high reliability.例文帳に追加

金属層の剥離が発生する可能性が低く、信頼性の高い真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The light guide part 2a emits light reflected by the reflecting layer 2b from an emission surface facing to the deposition surface.例文帳に追加

導光部２ａは、蒸着面に対向する出射面から、反射層２ｂによる反射光を出射する。 - 特許庁

To provide a polyester resin molding having a vapor deposition layer, which is excellent in heat resistance, gloss, heat seal property and the like.例文帳に追加

耐熱性、光沢性、ヒートシール性などに優れた、蒸着層を有するポリエステル樹脂成形体を提供する。 - 特許庁

A CMP method is preferable for removing the oblique vapor deposition layer precursor 18a' covering the element electrode 122.例文帳に追加

素子電極１２２を覆う斜方蒸着層前駆体１８ａ’の除去にはＣＭＰ法が好適な手段となる。 - 特許庁

In order to improve efficiency in electro-deposition, a coating layer 20 is formed on the surface of the super abrasive grain 16.例文帳に追加

超砥粒１６の表面には、電着時の効率を向上させるため、被覆層２０が形成されている。 - 特許庁

The stabilizing layer may be laminated using either of a sputtering process, a vapor deposition process or a plating process.例文帳に追加

また、上記安定化層は、スパッタリング法、蒸着法またはめっき法のいずれかにより積層することができる。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING INTERMETALLIC DIELECTRIC LAYER USING LOW-BIAS RF POWER IN DEPOSITION OF FSG BY HIGH- DENSITY PLASMA例文帳に追加

高密度プラズマでＦＳＧを堆積させる時に低バイアスＲＦパワーを使用する金属間誘電層製造方法 - 特許庁

The protective film 32 is formed on the upper layer of the underlying electrode film 31 by vacuum film deposition.例文帳に追加

保護膜３２は、真空成膜法による膜であって、下地電極膜３１の上層に形成されている。 - 特許庁