「deposition layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The surface of the base layer 5 is subjected to oxygen adsorption treatment prior to film-deposition of the magnetic layer 6 to suppress magnetic interaction between the magnetic grains of the magnetic layer 6.例文帳に追加

また、磁性層６の成膜に先立って下地層５の表面に酸素吸着処理を施して、磁性層６の磁性粒間の磁気的相互作用を抑制するようにした。 - 特許庁

To provide a method of forming a phase change layer using a germanium precursor which can be deposited at a low temperature, such that the deposition temperature of a GST layer can be decreased, when forming a GST layer by using CVD method.例文帳に追加

低温蒸着可能なゲルマニウム前駆体を用いた相変化層の形成方法及びその方法を用いた相変化メモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

A PVD(physical vapor deposition) metal-deposited layer, e.g. PVD Al or PVD Cu is deposited on the layer hard to dissolve under the pressure of 1 milli Torr or lower to give a conformal PVD metal-deposited layer.例文帳に追加

ＰＶＤ金属層、例えばＰＶＤＡｌ、またはＰＶＤＣｕが１ミリトル以下の圧力で溶けにくい層に堆積されて、コンフォーマルなＰＶＤ金属層を与える。 - 特許庁

A adhesive metal layer 61, a contact metal layer 62 and a high-melting-point metal layer 63 are laminated in sequence on the upper face of a glass substrate 3 with vapor deposition or spattering.例文帳に追加

蒸着法やスパッタリング法などで、ガラス基板３の上面に密着金属層６１、接点金属層６２、高融点金属層６３を順に積層する。 - 特許庁

In this case, preferably, the covering layer is a TiN layer covered by a physical vapor deposition process (PVD process), or, the thickness of the covering layer is controlled to 2 to 20 μm.例文帳に追加

この場合に、前記被覆層を物理蒸着法（ＰＶＤ法）により被覆されたＴｉＮ層とする、または、被覆層の厚みを２μｍ〜２０μｍとすることが好ましい。 - 特許庁

In the adhesive sheet using the metal vapor deposition film having the metal vapor deposition layer formed on one surface of a transparent film, the adhesive agent layer is formed by the transfer method, after the metal vapor deposited surface of the metal vapor deposition film is subjected to surface treatment.例文帳に追加

透明フィルムの片面に金属蒸着層を形成した金属蒸着フィルムを用いた粘着シートにおいて、金属蒸着フィルムの金属蒸着を施した面に、表面処理を施した後、転写法により粘着剤層を形成した粘着シート。 - 特許庁

In the strong adhesion vapor deposition film obtained by providing at least the vapor deposition membrane layer comprising the inorganic oxide on the base material film, a polyester film is used as the base material film and the crystallizing degree of the surface of the base material film, on which the vapor deposition membrane layer is provided, is set to 30% or below.例文帳に追加

基材フィルム上に無機酸化物からなる蒸着薄膜層を少なくとも設けてなる蒸着フィルムにおいて、基材フィルムはポリエステルフィルムとする共に、蒸着薄膜層を設ける基材フィルムの表面は結晶化度を３０％以下とする。 - 特許庁

In the active matrix substrate, an oblique vapor deposition film composed of a plurality of layers 31, 33 is deposited on a pixel electrode 30, wherein a deposition angle of the layer 31 is closer to vertical than that of the layer 33 and the oblique vapor deposition directions of them are equal to each other.例文帳に追加

アクティブマトリクス基板において、画素電極３０の上には複数層３１、３３からなる斜方蒸着膜を形成し、層３１の蒸着角度は、層３３の蒸着角度よりも垂直に近い角度であり、かつ斜方蒸着の方向は同じである。 - 特許庁

Using the iridium-containing film deposition material as the raw material, an iridium-containing film is produced by a CVD (Chemical Vapor Deposition) process, an ALD (Atomic Layer Deposition) process, a spin coating process or the like.例文帳に追加

このイリジウム含有膜形成材料を原料として、ＣＶＤ法、原子層蒸着法（Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法：ＡＬＤ法）、スピンコート法などによりイリジウム含有膜を製造する。 - 特許庁

To deposit an EL layer using a substrate for deposition having a structure in which a light is not reflected at an end of a reflection layer and a heat generated in a light absorbing layer is not conducted to the reflection layer.例文帳に追加

反射層の端部で光が反射されず、また光吸収層で発生した熱が反射層に伝わらない構造を有する成膜用基板を用いてＥＬ層を成膜することを課題とする。 - 特許庁

In the method of manufacturing the optical disk by forming the reflection layer 12, the recording layer 14 and the light transmission layer 16 in this order on the substrate, the deposition speed of the recording layer 16 is set at ≥5 nm/sec.例文帳に追加

基板上に、反射層１２、記録層１４及び光透過層１６をこの順に形成する光ディスクの製造方法であって、記録層１６の成膜速度を５ｎｍ／ｓｅｃ以上に設定する。 - 特許庁

The barrier laminate includes an organic layer and an inorganic layer in the order, wherein the organic layer includes a water-based polymer latex (A), and a water-based oxazoline crosslinking agent (B), and the inorganic layer is made by vapor deposition.例文帳に追加

有機層と、無機層とを該順に有するバリア性積層体において、有機層は水系ポリマーラテックス（Ａ）及び水系オキサゾリン架橋剤（Ｂ）を含み、該無機層は蒸着により作成する。 - 特許庁

A nozzle substrate base material 110 is formed by depositing a sacrificial layer 101 on a deposition substrate 100, successively and alternatively laminating a phosphorus-doped polysilicon layer and a stop layer on the sacrificial layer 101.例文帳に追加

成膜基板１００上に犠牲層１０１を成膜し、犠牲層１０１の上に、リンをドープしたドープドポリシリコン層とストップ層とを順次交互に積層しノズル基板基材１１０を形成する。 - 特許庁

The hard carbon film 3 formed on a base material 1 through an intermediate layer 2 comprises a diamond-like carbon layer 6 and a graphite-particle deposition layer 7 formed on the diamond-like carbon layer 6.例文帳に追加

基材１上に中間層２を介して形成された硬質炭素膜３が、ダイヤモンドライクカーボン層６と、ダイヤモンドライクカーボン層６上に形成されたグラファイト粒子堆積層７とからなる。 - 特許庁

In a laminate wherein the vapor deposition thin film layer 2 comprising an inorganic oxide and the gas barrier film layer 3 are successively laminated on at least the single surface of a base material film 1, the component of the gas barrier film layer 3 is incorporated in the vapor deposition thin film layer 2 to impart flexibility.例文帳に追加

基材フイルム１の少なくとも片面に、無機酸化物からなる蒸着薄膜層２、ガスバリア性被膜層３を順次積層した積層体において、ガスバリア性被膜層３の成分を蒸着薄膜層２中に入り込ませることにより、可撓性を付与する。 - 特許庁

By depositing an EL layer with a deposition substrate tilted from a deposition source, the second insulation layer serves as a barrier, so that a region where the EL layer is not deposited and the conductive layer is exposed is formed in a self-aligning manner in a part of the opening.例文帳に追加

また、被成膜基板を蒸発源に対して傾けた状態でＥＬ層を蒸着することにより、第２の絶縁層が障害物となり、開口部の一部にはＥＬ層が蒸着されずに導電層が剥き出しとなる領域が自己整合的に形成される方法を用いた。 - 特許庁

Thus, only the vacuum deposition layer 9 comes into contact with chemicals such as a plating liquid, so galvanic corrosion of the metal bonding layer 5 and wiring conductor 7 due to potential differences between the vacuum deposition layer 9, and metal bonding layer 5 and wiring conductor 7 is suppressed.例文帳に追加

このように、メッキ液などの薬液に対しては、真空成膜層９のみが触れるため、真空成膜層９と、金属接合層５及び配線導体７との間の電位差に起因する金属接合層５及び配線導体７のガルバニック腐食の発生が抑制される。 - 特許庁

A metal vapor deposition layer 20 is formed on the surface side 11a of a substrate 11 and a transparent resin surface layer 30 is formed on the surface side of the metal vapor deposition layer 20 while a backing material 15 is integrally laminated on the rear surface side 11b of the substrate 11 through an adhesive layer 14.例文帳に追加

基材１１の表面側１１ａに金属蒸着層２０を形成し、前記金属蒸着層２０の表面側には透明樹脂表面層３０を形成するとともに、前記基材１１の裏面側１１ｂには接着剤層１４を介して裏打ち材１５を一体に積層した。 - 特許庁

Also, by providing a polyacrylic acid based resin layer adjacently to the vapor deposition layer of the outer bag of the vacuum insulation material 1, the temporal degradation of heat conductivity is reduced even when the vapor deposition layer is set as one layer and the heat leakage through the outline of the vacuum insulation material 1 is reduced further.例文帳に追加

また、真空断熱材１の外袋の蒸着層に隣接してポリアクリル酸系樹脂層を設けることにより、蒸着層を一層とした場合にも熱伝導率の経時劣化を低減するとともに、真空断熱材１の外郭を通じた熱漏洩のさらなる低減が可能となる。 - 特許庁

The MOCVD (metal organic chemical vapor deposition) method for growing the nitride semiconductor layer employing ammonium (NH_3) as a V-group material can be utilized.例文帳に追加

V族原料としてアンモニアNH_3を用いて窒化物半導体層を成長させるMOCVD法を利用できる。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of considerably shortening the time required for forming an inter-layer insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜を生成するためにかかる時間を大幅に短縮する成膜装置の提供。 - 特許庁

The phosphor element is structured by forming a phosphor layer 23 on a lens 21 by an aerosol-deposition method.例文帳に追加

蛍光体素子は、エアロゾル・デポジション法により蛍光体層２３をレンズ２１に形成したものである。 - 特許庁

By the redeposition of the glass particles on the core 1 or soot layer 2, deposition speed is increased.例文帳に追加

このガラス微粒子の心材１あるいはスート層２への再付着により、堆積速度が向上する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of depositing an EL layer by using EL material of high purity.例文帳に追加

高純度化したＥＬ材料を用いてＥＬ層を形成することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide an atomic layer deposition device capable of generating plasma with stability.例文帳に追加

安定してプラズマを発生させることができる原子層堆積装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The charge collectors 15, 16 are each composed of an electrically conductive metal member layer formed by vapor deposition or plating.例文帳に追加

集電体１５，１６は蒸着またはメッキにより形成された導電性金属部材層からなる。 - 特許庁

In the laminated tube container of which the body part is formed of the laminated material having the hologram vapor deposition film in its constituent layers, a constitution comprising a biaxially stretched polyethylene terephthalate film layer 104, the hologram vapor deposition film 106 and a biaxially stretched polyethylene terephthalate vapor deposition substrate film layer 107 is provided in the constitution of the laminated material as an intermediate layer.例文帳に追加

構成層中にホログラム蒸着フィルムを有する積層材料で胴部を形成するラミネートチューブ容器において、積層材料の構成中に、中間層として二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム層１０４ ／ホログラム蒸着層１０６ ／二軸延伸ポリエチレンテレフタレート蒸着基材フィルム層１０７ 構成を有する。 - 特許庁

To reduce damage and deposition of a foreign substance to an insulating film having a conductor layer, which are caused by a conveyance roller.例文帳に追加

導体層を有する絶縁フィルムへの、搬送用ローラによる傷及び異物付着を低減する。 - 特許庁

An oxygen deposition layer 12 for suppressing the slippage from a rear face of the substrate is disposed in the substrate 11.例文帳に追加

この基板１１内には基板裏面からのスリップを抑える酸素析出層１２が設けられている。 - 特許庁

In the lustrous laminated film 10, a metal vapor deposition layer 20, wherein a vapor deposition layer 21 of a Hastelloy alloy and a vapor deposition layer 22 of chromium or a chromium alloy are formed succeessively and continuously as films, is formed on the rear surface of the transparent surface substrate 11.例文帳に追加

透明表面基材１１の裏面側にハステロイ合金の蒸着層２１及びクロム又はクロム合金の蒸着層２２が順次連続して成膜された金属蒸着層２０が形成されているともに、前記金属蒸着層が接着剤層１４を介してバッキング材１５と一体に積層されている。 - 特許庁

Thereafter, the substrate on which the silicon compound layer is formed is removed from the film deposition chamber and cooled (cooling process).例文帳に追加

ついで、珪素化合物層を形成した基板を成膜室から退避させて冷却する（冷却工程）。 - 特許庁

A silicon oxide capping layer is deposited on the gate insulating material in a fast and thermochemical deposition process.例文帳に追加

シリコンオキサイドキャッピング層は、高速熱化学蒸着プロセスにおいてゲート絶縁材料上に堆積される。 - 特許庁

Then, a second dielectric layer is deposited on the substrate using CVD or PECVD deposition processing.例文帳に追加

次に、第２誘電体層をＣＶＤ又はＰＥＣＶＤ堆積処理を用いて基板上に堆積する。 - 特許庁

To increase a method of depositing high dielectric constant material on a substrate by using an atomic layer deposition method.例文帳に追加

原子層堆積法を用いて基板上に高誘電率材料を堆積する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a device and a method capable of producing a uniform layer in a vapor deposition process of a substrate.例文帳に追加

基板の蒸着処理において均一な層を得ることができる装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a single atomic deposition layer apparatus in which the structure of a reaction vessel and a test piece holder has been improved.例文帳に追加

反応容器及び試片ホルダーの構造が改善された単原子蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide an atomic layer deposition (ALD) process for forming a silicon dioxide thin film at low temperature.例文帳に追加

低温で二酸化ケイ素の薄膜を形成するための原子層堆積（ＡＬＤ）プロセスが提供される。 - 特許庁

A supercritical carbon dioxide deposition forms a copper (Cu) seed layer 3 to the thermal oxide film 2.例文帳に追加

熱酸化膜２に対して、超臨界二酸化炭素成膜により、銅（Ｃｕ）シード層３を形成する。 - 特許庁

SILVER-BASE ALLOY AND ITS USE FOR FORMING REFLECTIVE LAYER, SPUTTERING MATERIAL AND VAPOR DEPOSITION MATERIAL例文帳に追加

銀をベースとする合金、反射層、スパッタ材料および蒸着材料を形成するためのその使用 - 特許庁

Silicon nitride film (ALD-SiN film 3) is formed on the substrate 1 by an atomic layer deposition method.例文帳に追加

基板１上に、原子層蒸着法によって窒化シリコン膜（ＡＬＤ−ＳｉＮ膜３）を成膜する。 - 特許庁

In the method, TaN with various nitrogen content is deposited by a plasma enhanced atomic layer deposition method.例文帳に追加

プラズマ強化原子堆積法によって様々な窒素含有率のＴａＮを堆積する方法である。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETORESISTANCE SENSOR HAVING SPACER LAYER MANUFACTURED BY MULTIPLE DEPOSITION AND OXIDATION STEPS例文帳に追加

堆積と酸化の複数ステップにより製造されるスペーサ層を有する磁気抵抗センサの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SILICON-CONTAINING SOLID THIN FILM BY ATOMIC LAYER DEPOSITION BY USING HEXACHLORODISILANE AND AMMONIA例文帳に追加

ヘキサクロロジシランおよびアンモニアを用いた原子層蒸着によるシリコン含有固体薄膜の製造方法 - 特許庁

The protection layer contains carbon and silicon oxide and therefore, it is harder than a deposition consisting of a carbon-based substance.例文帳に追加

保護層は、カーボンおよびシリコン酸化物を含むので、カーボン系物質からなる堆積物に比べて堅い。 - 特許庁

There are performed in a lump semiconductor layer formation, laser crystallization, oxygen plasma processing, and gate insulating film deposition.例文帳に追加

半導体層形成、レーザー結晶化、酸素プラズマ処理、ゲート絶縁膜堆積を真空一括で行う。 - 特許庁