「deposition layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The packaging laminated material for the chocolate consists of a paper substrate having a printing layer, a reinforcing layer laminated on the above paper substrate, a heat fusion nature resin layer overlying the above reinforcing layer and an aluminum vapor deposition layer overlying the above reinforcing layer and/or the heat fusion nature resin layer.例文帳に追加

印刷層を有する紙基材と、前記紙基材に積層された補強層と、前記補強層に積層された熱融着性樹脂層と、前記補強層および／または熱融着性樹脂層に積層されたアルミ蒸着層とからなることを特徴とする、チョコレート用包装積層材である。 - 特許庁

The vapor deposition source consisting of alloyed AuSn is prepared, an Sn-rich first layer is formed onto the semiconductor light-emitting device by heating the vapor deposition source at a first temperature to selectively evaporate Sn from the AuSn alloy, and an Au-rich second layer is formed onto the first layer by heating the vapor deposition source at a second temperature higher than the first temperature to evaporate all of the vapor deposition source.例文帳に追加

合金化したＡｕＳｎからなる蒸着源を準備し、蒸着源を第１の温度で加熱してＡｕＳｎ合金からＳｎを選択的に蒸発させて半導体発光素子へＳｎリッチな第１の層を形成し、蒸着源を第１の温度より高い第２の温度で加熱して蒸発源を全て蒸発させて第１の層の上へＡｕリッチな第２の層を形成する。 - 特許庁

The method of forming a thin film on the surface of a workpiece W includes: a depositing step for depositing the deposition material on the surface of the workpiece and forming a deposition material layer 70; and an irradiation step of forming the thin film 72A by irradiating the workpiece where the deposition material layer is formed with electromagnetic waves 74 and heating the deposition material layer.例文帳に追加

被処理体Ｗの表面に薄膜を形成する成膜方法において、被処理体の表面に成膜材料を付着させて成膜材料層７０を形成する付着工程と、成膜材料層の形成された被処理体に電磁波７４を照射して成膜材料層を加熱することによって薄膜７２Ａを形成する照射工程とを有する。 - 特許庁

The negative electrode 21 has a diffusion preventing layer 21B formed by a dry or wet deposition method, a negative electrode current collector layer 21C, and a negative electrode activator layer 21D formed on a substrate 21A for deposition made of a plastic or the like.例文帳に追加

負極２１は、プラスチックなどよりなる成膜用基体２１Ａの上に、乾式成膜法または湿式成膜法により形成された拡散防止層２１Ｂ，負極集電体層２１Ｃおよび負極活物質層２１Ｄを有している。 - 特許庁

The electrogalvanized steel sheet has a metal layer having ≥0.02 g/m^2 deposition per one surface and comprising Ti, Zr, Al, Nb or Ta with at least on one surface of steel sheet and the electrogalvanized layer having 0.5-8 g/m^2 deposition per one surface on the metal layer.例文帳に追加

鋼板の少なくとも片面に、片面当たりの付着量が0.02g／m^2以上であるTi、Zr、Al、Nb又はTaからなる金属層を有し、該金属層上に、片面当たりの付着量が0.5〜8g／m^2である亜鉛含有電気めっき層を有することを特徴とする。 - 特許庁

The inorganic compound layer 21E is continuously formed by a dry deposition method after the metallic lithium layer 21D is formed by the dry deposition method in a vacuum chamber of which the pressure after forming the metallic lithium layer 2D is kept in 10 Pa or less.例文帳に追加

無機化合物層２１Ｅは、金属リチウム層２１Ｄを乾式成膜法により形成したのち、金属リチウム層２１Ｄを形成した後の圧力が１０Ｐａ以下に維持された真空槽内において、乾式成膜法により連続形成する。 - 特許庁

The coaxial cable is made by first coating an insulating layer on a center conductor, providing an outer conductor (a shielding layer) on the insulating layer, winding a metal-deposition resin tape 10 on the outer conductor, and further, covering a housing on the metal-deposition resin tape 10.例文帳に追加

同軸ケーブルは、まず中心導体に絶縁層を被覆し、その絶縁層の外に外部導体（シールド層）を設け、その外部導体に金属蒸着樹脂テープ１０を巻き、さらにその金属蒸着樹脂テープ１０の上に外被が設けられてなる。 - 特許庁

The forms that the coloring material is a red pigment, that the filter has a dielectric vapor deposition layer laminated with a plurality of dielectric thin films having different indices of refraction, and that the dielectric vapor deposition layer exists on the coloring material-containing layer are preferable.例文帳に追加

該色材が赤色顔料である態様、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数積層した誘電体蒸着層を有する態様、誘電体蒸着層が前記色材含有層上にある態様、などが好ましい。 - 特許庁

The surface of an organic film pattern 4 formed on a substrate 1 includes an inhibition layer comprising a modified layer by modification of the surface portion of the organic film pattern 4 and a deposition layer by deposition of a substance on the surface of the organic film pattern 4.例文帳に追加

基板１上に形成された有機膜パターン４の表面には、有機膜パターン４の表層部が変質してなる変質層と、有機膜パターン４の表面上に堆積物が堆積してなる堆積層と、からなる阻害層が形成されている。 - 特許庁

The gas barrier packaging material with masked information is characterized in that at least an inorganic deposition layer, a pattern printed layer, a masking layer, an information indication layer and a heat seal layer are laminated on the surface of a transparent base film in this order.例文帳に追加

透明基材フィルムの表面に、少なくとも無機蒸着層、絵柄印刷層、遮蔽層、情報表示層、ヒートシール層が、この順序に積層されたことを特徴とする隠蔽情報を有するガスバリア性包装材料である。 - 特許庁

The laminated material for camouflage including the cloth substrate having infrared absorption and reflection capacities is obtained by laminating a cloth substrate layer, a metal foil layer or a metal vapor deposition layer, an ink pattern layer, and a resin layer in turn.例文帳に追加

この積層材料を衣料として偽装用の戦闘服などの衣類や、個人装具、さらには艦船用、航空機用、戦車用等のカバー等にも利用される布基材を含む積層材料を提供するものである。 - 特許庁

In a co-extrusion laminated film consisting of an antistatic agent-containing layer (A) and an antistatic agent-free layer (B), an anchor coat layer and an inorganic matter vapor deposition layer are successively formed on the surface of the antistatic agent-free layer (B).例文帳に追加

帯電防止剤含有層（Ａ）と帯電防止剤非含有層（Ｂ）とから成る共押出積層フイルムにおいて、帯電防止剤非含有層（Ｂ）の表面にアンカーコート層と無機物蒸着層とを順次に形成して成る。 - 特許庁

The functional transfer sheet is constituted by forming a release layer (2) on one side of a base film (1), forming a functional urethane resin layer (3) on the surface of the release layer (2) and forming a vapor deposition layer (5) on the functional urethane resin layer (3).例文帳に追加

ベースフィルム（１）の片面上にリリース層（２）を形成し、リリース層（２）の面上に機能性ウレタン樹脂層（３）を形成し、さらに機能性ウレタン樹脂層（３）の面上に蒸着層（５）を形成した機能性転写シート。 - 特許庁

In the compression step 140, the surface of the material deposition layer is compressed by a roller, and the carbon layer with smooth surface is formed (condition E).例文帳に追加

圧縮工程１４０において、材料堆積層の表面をローラにより圧縮し、表面の平滑なカーボン層を形成する（状態Ｅ）。 - 特許庁

After the deposition of the plating layer, heat treatment is performed at ≥400°C in an oxidizing atmosphere to form the nitrogen-containing titanium oxide film on the outermost surface layer.例文帳に追加

めっき層形成後に酸化性雰囲気４００℃以上の温度で熱処理し、最表層に窒素含有酸化チタン皮膜を形成した。 - 特許庁

On a diaphragm 2, by an aerosol deposition method, there is formed an adhesion layer 3 composed of the same PZT as a material constituting a piezoelectric layer 5.例文帳に追加

振動板２上に、エアロゾルデポジション法により、圧電層５を構成する材料と同一のＰＺＴからなる密着層３を形成する。 - 特許庁

The second barrier layer 142, which is formed on the second surface 112 by the atomic layer deposition method, is made of an inorganic material having water vapor barrier properties.例文帳に追加

第２のバリア層１４２は、第２の面１１２に原子層堆積法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる。 - 特許庁

In the compound layer 2, a barrier layer is formed by Cu6Sn5 phase deposition on or migration to a surface of the Ni plating, whereby an interface reaction is suppressed.例文帳に追加

化合物層２はＣｕ６Ｓｎ５相がＮｉめっき上に析出あるいは移動してバリア層を形成し、界面反応を抑制する。 - 特許庁

The above organic layer comprises a luminous layer 14 in which the host material and the guest material become a prescribed doping ratio after forming a film by vapor deposition.例文帳に追加

前記有機層は蒸着による成膜後にホスト材料とゲスト材料とが所定のドーピング割合となる発光層１４を有する。 - 特許庁

A heat oxidation film 1 and a deposition film 2 are successively formed in the n-channel type MOS transistor, and their laminated layer is a gate insulating layer 14.例文帳に追加

ｎチャネル型ＭＯＳトランジスタでは、熱酸化膜１と堆積膜２が順に形成され、これらの積層膜がゲート絶縁層１４となる。 - 特許庁

When the film deposition temperature reaches H2, Si_2H_6 gas is re-introduced into the chamber and the Si layer is grown epitaxially on the SiGe layer.例文帳に追加

そして、成膜温度がＨ２に達すると、Ｓｉ_2Ｈ_6ガスをチャンバに再び導入し、Ｓｉ層をＳｉＧｅ層上にエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

Or, it may have a synthetic resin base film on the backmost side and a gas barrier layer between the base film and the metal deposition layer.例文帳に追加

最裏面に合成樹脂製の基材フィルムを備えるとよく、この基材フィルムと金属蒸着層との間にガスバリア層を備えるとよい。 - 特許庁

On top of a semiconductor substrate 102 including an opening which reaches an interconnection in a lower layer, a TiN/Ti adhesion layer 103 is deposited by CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

下層配線に達する開口部を含む半導体基板１０２上へＴｉＮ／Ｔｉ密着層１０３をＣＶＤ法で堆積する。 - 特許庁

The transparent layer 2 formed by the vapor deposition method is a dense layer and blocks the transmission of gas.例文帳に追加

気相蒸着法によって形成される透明層２は、緻密な層として形成されるものであり、ガスが透過することを遮断することができる。 - 特許庁

After the deposition of the silicon metal layer or the layer of silicon metal/silicon carbide composite material, these layers can be modified by means of nitriding treatment, etc.例文帳に追加

珪素金属層あるいは珪素金属−炭化珪素複合材料層を形成した後に、これらを窒化処理等して改質できる。 - 特許庁

An oxygen deposition nucleus formation process is carried out to form oxygen deposition nuclei in high concentration in the BMD layer 34 of a wafer material 33 after going through IG.例文帳に追加

ＩＧを経たウェーハ素材３３のＢＭＤ層３４に酸素析出核を高密度に形成する酸素析出核形成処理（酸素析出核形成工程）を行う。 - 特許庁

The damp-proofing laminate has a vapor deposition film 1 of at least two layers, and at least one moisture absorption layer 2 is held between the layers of the vapor deposition film 1 in the laminate.例文帳に追加

少なくとも２層の蒸着フィルム１を有し、蒸着フィルム１の層間に少なくとも１層の吸湿層２が挟持されてなる防湿性積層体である。 - 特許庁

In succession, the substrate is heated to the temperature higher than the crystallization temperature and the deposition layer is deposited under the crystallization effected in the state of the crystallization rate R higher than the deposition rate S.例文帳に追加

続いて、結晶化温度より高い温度に基板を加熱し、結晶化速度Ｒが堆積速度Ｓより大きい状態で堆積層を折衝貸しながら成膜する。 - 特許庁

The method for forming an integrated circuit configuration on a semiconductor substrate includes deposition of the high-k gate insulating material on the substrate by using an atomic layer deposition process.例文帳に追加

原子層堆積プロセスを用いて基板上に高ｋゲート絶縁材料を堆積することを包含する、半導体基板上に集積回路構造を形成するための方法。 - 特許庁

To provide metal source containing precursor liquid solutions for chemical vapor deposition processes, including atomic layer deposition, for fabricating conformal metal containing films on substrates.例文帳に追加

基材上においてコンフォーマル金属含有皮膜を製作するための、原子層堆積を含む化学蒸着法用の金属源含有前駆体溶液を提供する。 - 特許庁

Additionally, a barrier layer 15, which is composed of at least any one of MX nylon, a vapor deposition film of a metal oxide, a vapor deposition film of a metal, and aluminum foil, is appropriately used.例文帳に追加

また、ＭＸナイロン、金属酸化物の蒸着フィルム、金属の蒸着フィルム又はアルミニウム箔の少なくともいずれか一からなるバリア層１５が好適に用いられる。 - 特許庁

To provide a laminated film for direct deposition of metal capable of forming a metal deposition layer having high adhesiveness by directly depositing the metal onto a surface of the laminated film.例文帳に追加

表面に直接金属を蒸着させて密着性の高い金属蒸着層を形成することができる金属直接蒸着用積層フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a pretreatment method of a component of a deposition device for efficiently forming a pre-coat layer where the particle amount is reduced for the component of the deposition device.例文帳に追加

成膜装置用部品に対してパーティクル量を低減したプレコート層を効率よく形成することができる成膜装置用部品の前処理方法を提供する。 - 特許庁

Deposition is performed by an atomic layer deposition (ALD) process utilizing a first reactant provided during a first pulse period and a second reactant provided during a second pulse period.例文帳に追加

第１パルス期間に供給される第１反応物と、第２パルス期間に供給される第２反応物とを利用する原子層堆積（ＡＬＤ）プロセスにより成膜する。 - 特許庁

In another aspect, a shadow frame that has a path to ground is adapted to contact a deposited layer on the surface of a substrate during deposition to increase the anode area and thus deposition uniformity.例文帳に追加

他の態様において、接地経路を有する遮蔽フレームは、陽極面積及び堆積均一性を増大するため、基板表面の堆積層と接触する。 - 特許庁

This luminous layer 14 is obtained by vapor deposition of the above host material alone or by joint vapor deposition of a mixture of the host material and the guest material at a prescribed ratio.例文帳に追加

この発光層１４は、前記ホスト材料単独、及び、前記ホスト材料と前記ゲスト材料とを所定の混合比で混合したものを共蒸着して得る。 - 特許庁

To prevent the contamination of a target caused by a gaseous starting material or reaction gas to be introduced at the time of performing an ALD (Atomic Layer Deposition) process in the case a film deposition system is composed so that film deposition by an ALD process and film deposition by a sputtering process can be performed to a treatment substrate on a substrate stage in the same chamber.例文帳に追加

同一チャンバ内で基板ステージ上の処理基板に対し、ＡＬＤ法による成膜とスパッタリング法による成膜とを行い得るように成膜装置を構成する場合に、ターゲットが、ＡＬＤ法を行う際に導入する原料ガスや反応ガスによって汚染されないようにする。 - 特許庁

Consequently, a thermal oxidation film 83 is formed along the surface of the wall of gate trench 21, so that the chemical bonding strength of the surface side of the deposition insulating layer 23 may improve, while the seam in deposition insulating layer 23 disappears.例文帳に追加

これにより，ゲートトレンチ２１の壁面沿いに熱酸化膜８３が形成され，堆積絶縁層２３中のシームが消滅するとともに堆積絶縁層２３の表層面の化学的結合力が向上する。 - 特許庁

Thus, by conducting the oxygen deposition nucleus formation process, such a silicon wafer 38 can be obtained that has the DZ layer 35 covering the surface and contains in an inner part the BMD layer 37 containing the oxygen deposition nuclei in high concentration.例文帳に追加

以上のような酸素析出核形成工程を経て、表面はＤＺ層３５に覆われ、内部に高密度に酸素析出核を含むＢＭＤ層３７を有する本発明のシリコンウェーハ３８を得ることができる。 - 特許庁

Thereby, the deposition layer 36 can be baked up to its inside and it is not necessary to bake it in a furnace, whereby the deposition layer 36 excelling in adhesion to a normal rib 35 can be easily produced on the rib-missing defective part 35a.例文帳に追加

したがって、堆積層３６の内部まで焼成でき、炉で焼成する必要がないので、正常なリブ３５との密着性が良い堆積層３６をリブ欠け欠陥部３５ａに容易に生成することができる。 - 特許庁

The nonmagnetic substrate is once taken out from the film deposition system after the formation up to the soft magnetic backing layer, and the nonmagnetic substrate is washed, and then introduced again into the film deposition system to deposit films from the intermediate layer.例文帳に追加

軟磁性裏打ち層までを成膜後に一旦成膜装置から非磁性基板を取り出し、この非磁性基板の洗浄を行なった後に再び成膜装置内に導入して中間層からの成膜を行なう。 - 特許庁

Thus, the monoatomic layer is deposited uniformly on the sample by maintaining the pressure and flow of the reaction gas at which the monolayer deposition is achieved; and the monoatomic layer deposition and analysis are performed at the same time.例文帳に追加

これにより、単原子層蒸着が可能な圧力及び反応ガスのフローを一定に維持して試片に単原子層を均一に蒸着でき、かつ単原子層蒸着反応と分析とを同時に実施できる。 - 特許庁

By utilizing the neutral-beam-utilizing atomic layer vapor deposition apparatus and the atomic layer vapor deposition method utilizing the apparatus, it is possible to practice the steps without damages due to charging.例文帳に追加

本発明による中性ビームを利用した原子層蒸着装置及びこの装置を利用した原子層蒸着方法を利用することによって、チャージングによる損傷なしに工程を実行することができる。 - 特許庁

By performing film deposition of molybdenum layer in the film deposition chamber 11B having the pressure gradient, the molybdenum layer having metal density gradient along the substrate side to the surface side can be deposited.例文帳に追加

このような圧力勾配が生じた成膜室１１Ｂ内でモリブデン層の成膜を実施することで、基板側から表面側にかけて、金属密度勾配が形成されたモリブデン層を成膜することができる。 - 特許庁

A ceramic thin film layer 110 having either one of silicon oxide, diamond-like carbon, alumina or aluminum as a main ingredient is applied on the inner face of a resin layer 120 of the tubular container by a chemical vapor deposition method or a physical vapor deposition method.例文帳に追加

チューブ状容器の樹脂層１２０内面に、化学蒸着法又は物理蒸着法で、酸化珪素、ダイアモンドライクカーボン、アルミナ又はアルミニウムのいずれかを主成分とするセラミック薄膜層１１０をコーティングする。 - 特許庁