| 例文 (999件) |
deposition layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2546件
The film laminate includes a polyethylene film layer (layer A), a resin film layer (layer B) having an inorganic compound vapor deposition layer, and a resin film layer (layer C) having a metal vapor deposition layer, wherein the polyethylene film layer (layer A) is set as a surface layer.例文帳に追加
ポリエチレンフィルム層（Ａ層）と、無機化合物蒸着層を有する樹脂フィルム層（Ｂ層）と、金属蒸着層を有する樹脂フィルム層（Ｃ層）とを含み、かつ該ポリエチレンフィルム層（Ａ層）を表層とするフィルム積層体である。 - 特許庁
HEAVY DUTY COATED STEEL HAVING VAPOR DEPOSITION LAYER例文帳に追加
蒸着層を有する重防食被覆鋼材 - 特許庁
METHOD FOR HIGH TEMPERATURE DEPOSITION OF AMORPHOUS CARBON LAYER例文帳に追加
アモルファスカーボン層の高温堆積のための方法 - 特許庁
To provide monoatomic layer deposition reaction apparatus.例文帳に追加
単原子層蒸着反応装置を提供する。 - 特許庁
THICKNESS MEASURING METHOD FOR CYLINDRICAL INNER SURFACE DEPOSITION LAYER例文帳に追加
筒状体内面付着層の厚さ測定方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR HIGH SPEED ATOMIC LAYER DEPOSITION例文帳に追加
高速原子層めっきのための方法及び装置 - 特許庁
ATOMIC LAYER VAPOR DEPOSITION APPARATUS UTILIZING NEUTRAL BEAM AND ATOMIC LAYER VAPOR DEPOSITION METHOD UTILIZING THE APPARATUS例文帳に追加
中性ビームを利用した原子層蒸着装置及びこの装置を利用した原子層蒸着方法 - 特許庁
The bonding coat may be deposited on the insulating layer by a chemical vapor deposition process and an electrophoretic deposition process prior to the deposition of the barrier layer.例文帳に追加
バリヤ層を堆積する前に、化学蒸着法および電気泳動堆積法でボンディングコートを絶縁層に堆積させてもよい。 - 特許庁
The 4-ply film layer 15 comprises an aluminum deposition layer 151 as an infrared ray reflection layer.例文帳に追加
四層フィルム層１５は、赤外線反射層としてのアルミ蒸着層１５１を含む。 - 特許庁
Thereafter, a titanium layer 214 is formed on the layer 204 and the hole 213 by a physical vapor deposition method.例文帳に追加
その後、物理蒸着によりチタン層２１４が蒸着される。 - 特許庁
The metal shield layer and the protective layer are formed by vacuum film deposition.例文帳に追加
金属シールド層および保護層は、真空成膜法により成膜する。 - 特許庁
The silicon nitride layer 39 is formed in an atomic layer deposition method.例文帳に追加
また、窒化シリコン層３９は、原子層堆積法により形成されている。 - 特許庁
GAS BARRIER BASE FILM HAVING INORGANIC OXIDE VAPOR-DEPOSITION LAYER AND PROTECTIVE LAYER例文帳に追加
無機酸化物蒸着層及び保護層を有するガスバリア基材フィルム - 特許庁
The deposition of the copper oxide spacer layer 98 includes the deposition of a primary copper base layer 100, the oxidation of the primary copper base layer, the deposition of a secondary copper base layer 102, and the oxidation of the secondary copper base layer.例文帳に追加
酸化銅スペーサ層９８の堆積は、第１の銅下地層１００の堆積と、第１の銅下地層の酸化と、第２の銅下地層１０２の堆積と、第２の銅下地層の酸化を含んでいる。 - 特許庁
BARRIER LAYER AND FORMATION METHOD THEREOF, AND PLASMA DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
バリヤ層、この形成方法及びプラズマ成膜装置 - 特許庁
VAPOR-DEPOSITION MATERIAL FOR PRODUCTION OF LAYER OF HIGH REFRACTIVE INDEX例文帳に追加
高屈折率層の製造用の蒸着材料 - 特許庁
METHOD FOR FORMING OHMIC LAYER BY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加
プラズマ化学蒸着によるオーミック層形成方法 - 特許庁
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD OF GALLIUM INDIUM NITRIDE CRYSTAL LAYER例文帳に追加
窒化ガリウム・インジウム結晶層の気相成長方法 - 特許庁
The silica deposition layer or the alumina deposition layer is formed by vapor deposition of silica or alumina on a base material that is used for forming the insulator layer.例文帳に追加
シリカ蒸着層又はアルミナ蒸着層は、絶縁体層の形成に用いられる基材上に、シリカもしくはアルミナを蒸着させることにより形成される。 - 特許庁
ATOMIC LAYER DEPOSITION OF Ta2O5 AND HIGH-k DIELECTRIC例文帳に追加
Ｔａ２Ｏ５および高ｋ誘電体の原子層堆積 - 特許庁
The sealing layer 7 is formed by an aerosol deposition method.例文帳に追加
封止層７は、エアロゾルデポジション法で形成されている。 - 特許庁
VARIABLE TEMPERATURE AND DOSE ATOMIC LAYER DEPOSITION例文帳に追加
温度および投与量が調節可能な原子層堆積 - 特許庁
COMPOSITE VAPOR DEPOSITION MATERIAL, METHOD OF PRODUCING TWO-LAYER FILM, AND METHOD OF PRODUCING COMPOSITE VAPOR DEPOSITION MATERIAL例文帳に追加
複合蒸着材および２層膜の製造方法、複合蒸着材の製造方法。 - 特許庁
These compositions are useful in the deposition of thin films, such as by atomic layer deposition.例文帳に追加
これらの組成物は、例えば、原子層堆積による薄膜の堆積において有用である。 - 特許庁
PROPYLENE POLYMER MULTI-LAYER FILM FOR VAPOR DEPOSITION AND MULTI-LAYER VAPOR DEPOSITED FILM例文帳に追加
蒸着用プロピレン系重合体多層フィルム及び多層蒸着フィルム - 特許庁
The seed layer can be formed by an atomic layer deposition (ALD) method (102).例文帳に追加
シード層は原子層堆積法によって形成されることが出来る（１０２）。 - 特許庁
METHOD OF DEPOSITING SILICON DIOXIDE LAYER ON SUBSTRATE BY ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD例文帳に追加
原子層堆積法によって基板に二酸化シリコン層を堆積する方法 - 特許庁
The transfer sheet is formed a transfer layer having at least a front anchor layer, a metal oxide vapor deposition layer and a metallic vapor deposition layer on one side of a base sheet.例文帳に追加
基体シートの片面に、少なくとも、前アンカー層、酸化金属蒸着層及び金属蒸着層を有する転写層が形成されている転写シート。 - 特許庁
BIODEGRADABLE GAS BARRIER FILM HAVING INORGANIC OXIDE VAPOR DEPOSITION LAYER AND PROTECTIVE LAYER例文帳に追加
無機酸化物蒸着層及び保護層を有する生分解性ガスバリアフィルム - 特許庁
The outer layer is selected from among a group consisting of an arc spray layer, a frame spray layer, a plasma spray layer, an ion plating layer, a chemical vapor deposition layer, and an electroplating layer.例文帳に追加
外層はアークスプレー層、フレームスプレー層、プラズマスプレー層、イオンプレーティング層、化学気相堆積層及び電解プレーティング層よりなる群から選ばれる。 - 特許庁
IN-SITU HYBRID DEPOSITION OF HIGH DIELECTRIC CONSTANT FILM USING ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD) AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (CVD)例文帳に追加
原子層堆積（ＡＬＤ）法及び化学気相成長（ＣＶＤ）法を用いた高誘電率膜のその場ハイブリッド堆積 - 特許庁
The vapor deposition film is formed by laminating, for example, an Al_2O_3 layer, a ZrO_2 layer, and an SiO_2 layer.例文帳に追加
蒸着膜は、例えばＡｌ_2Ｏ_3層、ＺｒＯ_2層、ＳｉＯ_2層が積層されたものである。 - 特許庁
Therefore, even when the vapor deposition material of the same volume is deposited, the thickness of a deposition layer 17 of the vapor deposition material on the blocking surface 154 is small, and the deposition layer 17 is hardly separated.例文帳に追加
従って、同一体積の蒸着材料が堆積した場合でも、遮断面１５４への蒸着材料の堆積層１７の厚さが薄く、堆積層１７が剥離しにくい。 - 特許庁
A second aluminum layer 216 is formed on the layer 214 by using a physical vapor deposition method.例文帳に追加
その後、物理蒸着により、第２のアルミニウム層２１６が形成される。 - 特許庁
The films of the piezoelectric layer 22 and the mixed layer 23 are formed using a gas deposition method.例文帳に追加
圧電層２２および混合層２３は、ガスデポジション法を用いて成膜される。 - 特許庁
A second electrode layer 28 is formed on the organic EL vapor deposition layer 25.例文帳に追加
有機ＥＬ蒸着層２５上に第２電極層２８が設けられている。 - 特許庁
METHOD OF PRODUCING OPTICAL MULTILAYER FILM BY ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD例文帳に追加
原子層堆積法による光学多層膜の製造方法 - 特許庁
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