「deposition layer」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ATOMIC LAYER FILM DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

原子層成膜装置 - 特許庁

ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

原子層成長装置 - 特許庁

ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

原子層蒸着装置 - 特許庁

ATOMIC LAYER DEPOSITION DEVICE AND ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD例文帳に追加

原子層堆積装置及び原子層堆積方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION TREATMENT DRUM IN FILM DEPOSITION APPARATUS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION例文帳に追加

原子層堆積法成膜装置における成膜処理ドラム - 特許庁

The barrier layer 3 is a silica deposition layer or an alumina deposition layer.例文帳に追加

バリア層３は、シリカ蒸着層又はアルミナ蒸着層である。 - 特許庁

ROTARY DRUM IN FILM DEPOSITION APPARATUS FOR ATOMIC LAYER CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND FILM DEPOSITION APPARATUS FOR ATOMIC LAYER CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

原子層堆積法成膜装置における回転ドラムおよび原子層堆積法成膜装置 - 特許庁

LAYER DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF OPERATING LAYER DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

層析出装置および層析出装置を運転する方法 - 特許庁

CHEMICAL FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD, AND ATOMIC LAYER THIN FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

原子層堆積法用薬剤及び原子層薄膜堆積法 - 特許庁

DEPOSITION METHOD OF PHOTOCATALYST LAYER例文帳に追加

光触媒層の成膜方法 - 特許庁

METAL DEPOSITION LAYER TRANSFER FILM例文帳に追加

金属蒸着層転写フィルム - 特許庁

THIN FILM DEPOSITION METHOD USING ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD例文帳に追加

原子層蒸着法を用いた薄膜製造方法 - 特許庁

The silica deposition layer or the alumina deposition layer may be a binary deposition layer in which silica and alumina are binary vapor-deposited.例文帳に追加

シリカ蒸着層又はアルミナ蒸着層は、シリカとアルミナが二元蒸着されたものでもよい。 - 特許庁

MONOATOMIC LAYER DEPOSITION REACTION APPARATUS例文帳に追加

単原子層蒸着反応装置 - 特許庁

DEPOSITION METHOD OF Ni ELECTRODE LAYER例文帳に追加

Ｎｉ電極層の形成方法 - 特許庁

DEPOSITION THICKNESS MEASUREMENT METHOD, MATERIAL LAYER DEPOSITION METHOD, DEPOSITION THICKNESS MEASUREMENT DEVICE, AND MATERIAL LAYER DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

堆積厚測定方法、材料層の形成方法、堆積厚測定装置および材料層の形成装置 - 特許庁

ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS AND PROCESS例文帳に追加

原子層堆積装置及び方法 - 特許庁

APPARATUS FOR FORMING ATOMIC LAYER DEPOSITION FILM例文帳に追加

原子層堆積膜の形成装置 - 特許庁

LOW TEMPERATURE AEROSOL DEPOSITION OF PLASMA RESISTIVE LAYER例文帳に追加

耐プラズマ層の低温エアロゾル堆積 - 特許庁

ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

原子層成長装置および方法 - 特許庁

METHOD FOR DIRECT DEPOSITION OF GERMANIUM LAYER例文帳に追加

ゲルマニウム層の直接成長方法 - 特許庁

ATOMIC LAYER DEPOSITION DEVICE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

原子層成長装置および方法 - 特許庁

ATOMIC LAYER DEPOSITION CHAMBER AND COMPONENT例文帳に追加

原子層堆積チャンバ及び構成部品 - 特許庁

ATOMIC LAYER DEPOSITION PROCESS FOR TUNGSTEN MATERIAL例文帳に追加

タングステン材料の原子層堆積法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION SOURCE OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT LAYER例文帳に追加

有機電界発光層の蒸着源 - 特許庁

MOLECULAR LAYER DEPOSITION AND APPLICATION TO SOLAR CELL/CANCER PHOTODYNAMIC THERAPY例文帳に追加

ＭｏｌｅｃｕｌａｒＬａｙｅｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎと太陽電池・がんＰｈｏｔｏｄｙｎａｍｉｃＴｈｅｒａｐｙへの応用 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING DEPOSITION PHOSPHOR LAYER例文帳に追加

蒸着蛍光体層の製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION例文帳に追加

原子層堆積のための方法と装置。 - 特許庁

Thickness of the alumina deposition layer or the silica deposition layer is preferably 0.1 to 1 μm.例文帳に追加

アルミナ蒸着層又はシリカ蒸着層の厚さは、０．１〜１μｍが好ましい。 - 特許庁

The apparatus 200 for forming atomic layer deposition film forms an atomic layer deposition film on a base body according to an atomic layer deposition method.例文帳に追加

原子層堆積法によって基体上に原子層堆積膜を形成する原子層堆積膜の形成装置２００である。 - 特許庁

POLYESTER FILM FOR GAS BARRIER VAPOR DEPOSITION, AND POLYESTER FILM HAVING VAPOR DEPOSITION LAYER例文帳に追加

ガスバリア性蒸着用ポリエステルフィルム及び蒸着ポリエステルフィルム - 特許庁

PROCESSING CHAMBER FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

原子層成長プロセスのための処理チャンバ - 特許庁

Each deposition layer 6a is an SiN layer and its deposition time is 12 sec.例文帳に追加

堆積層６ａはそれぞれ何れもＳｉＮから成る層で、堆積時間は１２秒とした。 - 特許庁

ATOMIC LAYER DEPOSITION USING METAL AMIDINATE例文帳に追加

金属アミジナートを用いる原子層の析出 - 特許庁

The seed layer can be formed by an atomic layer deposition technique.例文帳に追加

シード層は、原子層堆積法によって形成され得る。 - 特許庁

FILM DEPOSITION SYSTEM, FILM DEPOSITION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR MULTI-LAYER REFLECTING MIRROR例文帳に追加

成膜装置、成膜方法及び多層膜反射鏡の製造方法 - 特許庁

VACUUM DEPOSITION DEVICE FOR LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT LAYER AND DEPOSITION METHOD THEREOF例文帳に追加

液晶配向膜用真空蒸着装置およびその成膜方法 - 特許庁

VACUUM DEPOSITION SYSTEM FOR LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT LAYER AND FILM DEPOSITION METHOD THEREOF例文帳に追加

液晶配向膜用真空蒸着装置およびその成膜方法 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION APPARATUS, VAPOR DEPOSITION METHOD AND METHOD OF FORMING INORGANIC ALIGNMENT LAYER例文帳に追加

蒸着装置、蒸着方法および無機配向膜の形成方法 - 特許庁

GAS BARRIER FILM HAVING INORGANIC OXIDE VAPOR DEPOSITION LAYER AND PROTECTIVE LAYER例文帳に追加

無機酸化物蒸着層及び保護層を有するガスバリアフィルム - 特許庁

To manufacture a buffer layer of a uniform composition at a high deposition speed, by suppressing deposition of the buffer layer at a portion where deposition of the buffer layer is unnecessary.例文帳に追加

バッファ層の析出が不要な部分のバッファ層の析出を抑制し、組成の均一なバッファ層を析出速度を速く製造する。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING LAYER DEPOSITION WITH SILICON COMPOUND例文帳に追加

シリコン化合物によるシリコン含有層の堆積 - 特許庁

MEASURING APPARATUS FOR DEPOSITION LAYER THICKNESS IN QUICKSAND SYSTEM例文帳に追加

流砂系における堆積層厚測定装置 - 特許庁

STACK DEPOSITION METHOD FOR LAYER, FORMATION METHOD OF RESONATOR, DEPOSITION METHOD FOR PIEZOELECTRIC LAYER, AND THE RESONATOR例文帳に追加

層のスタック堆積方法、共振器の形成方法、圧電層の堆積方法、および、共振器 - 特許庁

DEPOSITION METHOD, SEMICONDUCTOR LAYER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

成膜方法、半導体層、及び半導体素子 - 特許庁