「deposition layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a high performance and high reliability film deposition layer structure in which air bubbles are not produced even if a discontinuous part of a vacuum film deposition layer exists at a level difference of a protruding part on a board, to provide a method of manufacturing the film deposition layer structure, and to provide a high performance and high reliability thermal head and a method manufacturing the same.例文帳に追加

基体上の凸部の段差に真空成膜層の不連続部があっても気泡の発生がない、高性能で高信頼性の成膜層構造体、及びその製造法、並びに、高性能で高信頼性のサーマルヘッド及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This pretreatment method of the component of the deposition device includes a process of forming a thermal-sprayed metal layer by thermal spraying to the component of the deposition device before the component of the deposition device is used for the deposition device, and a process of vibrating the component of the deposition device having the thermal-sprayed metal layer and then performing air blow.例文帳に追加

本発明の成膜装置用部品の前処理方法は、成膜装置用部品を成膜装置に用いるに先立って、該成膜装置用部品に対して、溶射によって金属溶射層を形成する工程、及び、金属溶射層が形成された成膜装置用部品に対し振動を与えた後、エアブローする工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

The metal vapor deposition heat transfer ribbon is the heat transfer ribbon constituted by making at least a removing layer, a colored ink layer, a metal vapor deposition layer, and an adhering layer in series overlie the support layer and is characterized in that the removing layer contains a certain amount of an acetophenoneketon resin and a derivative of the same having a specified softening point.例文帳に追加

支持体上に少なくとも離型層、着色インク層、金属蒸着層、接着層を順次積層してなる熱転写リボンであって、前記離型層が特定の軟化点を有するアセトフェノンケトン樹脂及びその誘導体を特定量含むことを特徴とする、金属蒸着熱転写リボン。 - 特許庁

This phosphatized galvanized steel sheet has a plated layer structure comprising: a galvanizing layer on the surface of a steel sheet; a phosphatized layer formed on the galvanized layer; and further a Ni-deposition part of 0.1 to 500 mg/m^2 existing in between the phosphatized layer and the galvanized layer.例文帳に追加

鋼板表面に、亜鉛めっき層と、亜鉛めっき層の上層としてりん酸塩処理層とを有し、さらに亜鉛めっき層とりん酸塩処理層との中間に0.1〜500 mg／ｍ^２のNi付着部を介在させためっき層構造とする。 - 特許庁

The on-the-spot deposition at the cap layer or barrier layer prevents a layer comprising impurities from being exposed to an atmosphere, and the cap layer or barrier layer prevents the layer from being contaminated with water content, hydrogen, etc.例文帳に追加

キャップ層あるいはバリヤ層にその場堆積は不純物を含む層を雰囲気にさらすのを防止し、そしてキャップ層あるいはバリヤ層により、水分、水素あるいはそのたのものにより、層が汚染されるのを防止することができる。 - 特許庁

The metallic luster thermal transfer recording medium keeps at least a release layer, an anchor layer, a metal vapor deposition layer, and an adhesion layer laid overlying a base, with a transfer control layer interposed between the base and the release layer.例文帳に追加

基材上に少なくとも離型層、アンカー層、金属蒸着層、接着層を積層した金属光沢熱転写記録媒体において、基材と離型層の間に転写制御層を設ける金属光沢転写記録媒体である。 - 特許庁

FORMATION METHOD OF TERMINAL SECTION OF ANTENNA OF NON-CONTACT COMMUNICATION MEDIUM, HEAT-SENSITIVE PROTECTIVE LAYER SEPARATION SHEET, AND METAL DEPOSITION LAYER TRANSFER SHEET例文帳に追加

非接触通信媒体のアンテナの端子部の形成方法および感熱型保護層剥離シート、金属蒸着層転写シート - 特許庁

The passivity layer is deposited in advance of the polymer layer to protect the surface of the substrate so as not to be damaged during the polymer deposition.例文帳に追加

不動態層はポリマー層に先だって蒸着され、基板表面がポリマー層蒸着の間に損傷しないよう保護する。 - 特許庁

The high power heater 6 includes an aluminum vapor deposition heat insulating sheet 10 provided in the lower layer and a planar heater 11 provided in the upper layer.例文帳に追加

前記ハイパワーヒーター６は、下層にアルミ蒸着付断熱シート１０、上層に面状ヒーター１１を設けたものである。 - 特許庁

Then, nanotubes (6) are formed on the degradable material (5) of the target layer (4) before deposition of an insulating layer (7) is performed.例文帳に追加

次に、絶縁層（７）の付着が実行される前に、目標層（４）の分解可能材料（５）の上にナノチューブ（６）が形成される。 - 特許庁

A protective layer is formed on one surface of a diamond film layer for reducing the deformation of the diamond film layer in the process of forming the diamond film layer by a chemical vapor deposition process.例文帳に追加

化学蒸着法によってダイヤモンド・フィルム層を形成する工程で、ダイヤモンド・フィルム層の変形を低減するために、保護層がダイヤモンド・フィルム層の1つの表面上に形成される。 - 特許庁

The thickness of the re-wiring 8 formed by a laminated body of the metal sputter layer or the metal vapor-deposition layer 23, and the thickness of the metal plating layer 29 is determined to be twice as much as that of the outermost layer of the film.例文帳に追加

金属スパッタ層又は金属蒸着層２３と金属めっき層２９との積層体をもって形成される再配線８の厚みを表皮の厚さの２倍以上とする。 - 特許庁

The conductive layer may be a metal foil layer or a metal vapor deposition layer and the conductive adhesive layer may be formed by using an adhesive composition containing a metal filler.例文帳に追加

導電層は金属箔層または金属蒸着層であってもよく、導電性粘着剤層は金属フィラーを含有する粘着剤組成物により形成することができる。 - 特許庁

In this case, the timing for depositing the base layer and the gold layer are adjusted so that the last one of the base layer in an active state is deposited simultaneously with deposition of the gold layer.例文帳に追加

その際には、まだ活性状態にある基層原子の最後のものと同時に金層原子の最初のものが堆積されるように基層及び金層の堆積のタイミングが調整される。 - 特許庁

Hose having a plural layer structure is provided with metal laminated layer containing metal foil and metal vapor deposition layer deposited on resin base film between any layers or the innermost layer.例文帳に追加

複層構造を有するホースのいずれかの層間又は最内層に、金属箔と、樹脂製ベースフィルム上に蒸着された金属蒸着層とを含む金属ラミネート層を設ける。 - 特許庁

To provide a metal oxide thin film deposition method capable of generating various kinds of metal oxide thin films, in particular, compound metal oxide thin films consisting of metals of different kinds by using the ALD (Atomic Layer Deposition)method without affecting the film deposition speed.例文帳に追加

成膜速度に影響を及ぼすことなく、多種の金属酸化物薄膜、特に異なる種類の金属からなる複合金属酸化物薄膜をＡＬＤ法を利用して生成する。 - 特許庁

The raw material for chemical vapor deposition is suitable for a raw material for depositing a silicon-containing thin film, preferably, a silicon oxide- containing thin film by the chemical vapor deposition method, in particular, an ALD (Atomic Layer Deposition) method on a substrate.例文帳に追加

該化学気相成長用原料は、基体上に化学気相成長法、特にＡＬＤ法により、ケイ素含有薄膜、好ましくは酸化ケイ素薄膜を形成する原料として好適である。 - 特許庁

A peeling layer is formed by the sputtering target 5, and by film deposition by an arc evaporation source 4 while introducing reactive gas and film deposition by vapor deposition from the crucible 3, a dielectric stacked film is formed.例文帳に追加

スパッタリングターゲット５によって剥離層を形成し、反応性ガスを導入しながらアーク蒸発源４による成膜とルツボ３からの蒸着成膜によって誘電体積層膜を形成する。 - 特許庁

To provide a structure of a metal vapor deposition film having an effect for suppressing the generation of a crack on a metal vapor deposition film layer in a metal vapor deposition film having metal glossiness usable to a film insert method.例文帳に追加

フィルムインサート法に利用される金属光沢を有する金属蒸着フィルムにおいて、金属蒸着層のクラック発生を抑止する効果のある金属蒸着フィルムの構成を提供する。 - 特許庁

An electroluminescence layer is formed by using this apparatus by partially subliming the vapor deposition material by the laser beam, and performing the vapor deposition on the substrate side via a mask with a vapor deposition window arranged in a predetermined pattern.例文帳に追加

この装置を用い、蒸着材料を部分的にレーザで昇華して、所定パターンに蒸着窓を配したマスクを介して基板側に蒸着することにより、発光層を形成する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition mask for laminating a vapor deposition film with high accuracy without any adverse effect on a medium layer on a substrate, and an organic EL display device for depositing the vapor deposition film by using the mask.例文帳に追加

基板上の媒体層に悪影響を与えず、蒸着膜を精度良く積層することができる蒸着用マスク、およびこれを用いて作成する有機ＥＬ表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition device which can deposit a molybdenum layer suitably removable when performing patterning using a LASER scribe method, and a film deposition substrate manufacturing method and a film deposition substrate.例文帳に追加

ＬＡＳＥＲスクライブ法を用いてパターニングする際に、好適に除去できるモリブデン層を成膜可能な成膜装置、成膜基板製造方法、及び成膜基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

A release layer is formed by the sputtering target 5, and, while introducing a reactive gas, a dielectric laminated film is formed by film deposition by the arc evaporation source 4 and film deposition by vapor deposition from the crucible 3.例文帳に追加

スパッタリングターゲット５によって剥離層を形成し、反応性ガスを導入しながらアーク蒸発源４による成膜とルツボ３からの蒸着成膜によって誘電体積層膜を形成する。 - 特許庁

The alignment layer is a single layer of an amorphous fluorocarbon film, and formed by using hydrocarbon gas, hydrogen gas, fluorocarbon hydrogen gas, or a mixture of them and performing oblique vapor-deposition on the substrates by a plasma enhanced chemical vapor-deposition or sputtering vapor-deposition.例文帳に追加

配向膜はアモルファスフッ化炭素膜の単一層で、炭化水素ガス、水素ガス、フッ化炭化水素ガス、或いはこれらの混合体を用い、プラズマエンハンスト化学蒸着法又はスパッタ蒸着法により、基板に斜め蒸着することによって作成する。 - 特許庁

Alternatively, the silicon oxide layer 102 can be deposited by a CVD (Chemical Vapor Deposition method).例文帳に追加

また、ＣＶＤ（化学的気相成長法）により、酸化シリコン層１０２のが形成可能である。 - 特許庁

METALLIC LAYER DEPOSITION SYSTEM FOR REDUCING PARTICLE FORMATION AND VAPOR PHASE RAW MATERIAL DISTRIBUTION SYSTEM AND METHOD例文帳に追加

パーティクルの形成を低減する金属層成膜システム、気相原料分配システムおよび方法 - 特許庁

To provide an atomic layer deposition (ALD) system capable of preventing the formation of powder in exhaust routes.例文帳に追加

排気経路におけるパウダ生成を防止できる原子層蒸着装置（ＡＬＤ）を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition apparatus wherein no high melting point metal film layer is formed around a work.例文帳に追加

被処理体の周囲に高融点金属膜層が形成されない成膜装置を提供する。 - 特許庁

The antistatic treatment layer may be formed by metallic foil or a metallic vapor deposition film.例文帳に追加

帯電防止処理層は、金属箔又は金属蒸着膜により形成されていてもよい。 - 特許庁

Thus, the deposition of the plating layer to the upper face of the long-length substrate 303 can be reduced.例文帳に追加

これにより、長尺基板３０３の上面への鍍金層の付着を低減することができる。 - 特許庁

An oxide film 13 is formed on the surface of a superconductor 12 using an atomic layer deposition method.例文帳に追加

原子層堆積法を用いて超伝導体１２の表面に酸化膜１３を形成する。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR FORMING BASE COATING AND THIN FILM LAYER BY CONSECUTIVE SPUTTER DEPOSITION例文帳に追加

連続的なスパッタ堆積によってベースコートおよび薄膜層を形成するシステムおよび方法 - 特許庁

A Pt layer is formed on silicon layers 26 (gate) and 29 (source/drain) by a CVD (Chemical Vapor deposition) method.例文帳に追加

ＣＶＤ法を用いて、シリコン層２６（ゲート），２９（ソース・ドレイン）上にＰｔ層を形成する。 - 特許庁

To configure a physical vapor deposition target assembly to isolate a target-bonding layer from a processing region.例文帳に追加

物理蒸着ターゲットアセンブリを、ターゲットボンディング層が処理領域から分離するように構成する。 - 特許庁

The first film thickness measuring mechanism 104 measures the film thickness of a film deposition layer at a plurality of positions.例文帳に追加

第１膜厚測定機構１０４は、複数の位置における成膜層の膜厚を測定する。 - 特許庁

Then, the etch back of a part of deposition insulating layer 23 is carried out, so as to secure the space of a gate electrode 22.例文帳に追加

その後，堆積絶縁層２３の一部をエッチバックし，ゲート電極２２のスペースを確保する。 - 特許庁

Alternatively, the silicon oxide layer 102 can be deposited by CVD (Chemical Vapor Deposition).例文帳に追加

また、ＣＶＤ（科学的気相成長法）により、酸化シリコン層１０２のが形成可能である。 - 特許庁

The first and second vapor deposition metals are solidified on the sacrificial layer 14 so as to form multilayer foil.例文帳に追加

第一及び第二の蒸着金属は、多層箔を形成する様に仮層14上で固化する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SOLID THIN FILM CONTAINING SILICON ACCORDING TO ATOMIC LAYER VAPOR DEPOSITION USING TRIS DIMETHYL AMINOSILANE例文帳に追加

トリスジメチルアミノシランを用いた原子層蒸着によるシリコン含有固体薄膜の製造方法 - 特許庁

Therein, the antireflection layer 12 can be formed according to a CVD method (chemical vapor deposition method).例文帳に追加

なお、反射防止層１２は、ＣＶＤ法（化学気相成長法）により形成することができる。 - 特許庁

The metal layer 2 is formed by vacuum vapor-deposition and comprises a plurality of copper particles.例文帳に追加

金属層２は、真空蒸着によって形成され、複数の銅粒子により構成される。 - 特許庁

An electrode coming into ohmic contact with the second nitride semiconductor layer under deposition state is also provided.例文帳に追加

成膜状態の第２の窒化物半導体層にオーミック接触する電極とを備えている。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING PLANARIZED COPPER INTERCONNECT LAYER USING ELECTROLESS MEMBRANE DEPOSITION例文帳に追加

無電解薄膜析出法により平坦化銅相互接続層を形成する方法および装置 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD OF GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER AND GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

ＩＩＩ族窒化物半導体層の気相成長方法及びＩＩＩ族窒化物半導体素子 - 特許庁

A method includes a step of depositing a layer of a semiconductor material on a substrate 56 by using vapor deposition in a first vapor deposition chamber 24, and a subsequent step of evacuating the first deposition chamber 24 to reduce vapor deposition source gases remaining in the first deposition chamber after the deposition growth and prior to opening the chamber 24.例文帳に追加

第一気相堆積チャンバ２４において気相堆積を用いて基板５６上に半導体材料の層を堆積させる工程、次いで、堆積成長後及び前記チャンバ２４を開ける前に、前記第一堆積チャンバ中に残留している気相堆積原料ガスを減少させるために成長チャンバ２４から排気する工程を含む。 - 特許庁