「deposition layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To form a light-emitting layer by a mask vapor deposition method without increasing the number of deposition cycles and lowering the strength of the mask.例文帳に追加

本発明は、蒸着回数を増やすことなく、マスクの強度も低下させずに、マスク蒸着法によって発光層を形成することを目的とする。 - 特許庁

A plating deposition adjustment step of facilitating deposition of plating inside the resin-metal composite layer is carried out between a catalyst adsorption step and a plating step.例文帳に追加

触媒吸着工程とめっき工程との間に、樹脂−金属コンポジット層の内部におけるめっき析出を促すめっき析出調整工程を行う。 - 特許庁

To provide a process of making a germanium-antimony-tellurium alloy film using a process selected from the group consisting of atomic layer deposition and chemical vapor deposition.例文帳に追加

原子層堆積及び化学気相成長からなる群より選択されるプロセスを用いてゲルマニウム−アンチモン−テルル合金膜を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film of such a high quality as is conventionally unable to achieve by successively performing both atomic layer deposition and chemical vapor deposition in a single reactor.例文帳に追加

原子層成長と気相化学成長を連続して同一の反応装置に実行することにより、従来できなかった高品質膜を形成する。 - 特許庁

The copper foil with the carrier foil has the copper foil layer on the surface of the carrier foil through a bonding interface layer and is characterized in that the bonding interface layer is a composite layer composed of an independent carbon layer formed by a physical vapor deposition method or a metal layer and the carbon layer and the copper foil layer is formed by the physical vapor deposition method.例文帳に追加

前記課題を解決するために、キャリア箔の表面に接合界面層を介して銅箔層を有するキャリア箔付銅箔であって、当該接合界面層は物理蒸着法で形成した単独の炭素層又は金属層と炭素層とからなる複合層であり、当該銅箔層は物理蒸着法で形成したことを特徴とするキャリア箔付銅箔を採用する。 - 特許庁

Since the barrier vapor deposition layer and the protective layer both of which have smooth surfaces become low in oxygen or moisture adsorbability, high gas barrier properties are imparted to the whole of the gas barrier film and the protective layer protects the barrier vapor deposition layer from an acidic liquid such as an etching liquid or the like.例文帳に追加

表面が平滑なバリア性蒸着層と保護層での酸素や水分の吸着性が低いものとなり、これにより、ガスバリアフィルム全体に高いガスバリア性が付与され、保護層がエッチング液等の酸性液からバリア性蒸着層を保護する。 - 特許庁

A process from the deposition of a substrate-protecting layer to the deposition of a gate-writing layer is performed in a state of being isolated from an atmosphere outside a device, and thereafter, the patterning of the gate wiring, the crystallization of the semiconductor layer and the patterning of a gate-insulating film and the semiconductor layer are performed.例文帳に追加

下地保護層堆積工程からゲート配線層堆積工程までを装置外の雰囲気から隔離した状態で連続して行い、その後に、ゲート配線のパターニング、半導体層の結晶化、ゲート絶縁膜、半導体層のパターニングを行う。 - 特許庁

The shielding tape 2 is constructed by forming a metal vapor deposition layer 22 on a resin film 21, and an insulating bonding layer 3 is applied thinly on the whole face of this metal deposition layer 22, and further a conductive bonding layer 4 is printed and formed in an island pattern on top of it.例文帳に追加

シールドテープ２は、樹脂フィルム２１上に金属蒸着層２２を形成して構成され、この金属蒸着層２２上全面に薄く絶縁性接着層３を塗布し、更にその上に導電性接着層４を島状パターンをもって印刷形成する。 - 特許庁

The moisture-proof sheet comprises a synthetic resin-made base material layer 10 and a vapor deposition layer 11, a primer layer 15 for adhesion being mounted on the vapor deposition surface, wherein a coupling agent is added to the primer layer for adhesion.例文帳に追加

合成樹脂製基材層１０と蒸着層１１とからなり、前記蒸着層面に接着用プライマー層１５を設けてなる防湿シートであって、前記接着用プライマー層がカップリング剤が添加されてなる層であることを特徴とする防湿シート。 - 特許庁

The superconductive thin film material 1 is provided with a metal-orienting substrate 10 and an oxide superconductive film 30 formed on the metal-orienting substrate 10, in which the oxide superconductive film 30 includes a physical vapor deposition HoBCO layer 31 formed by a physical vapor deposition method and an organic metal deposition HoBCO layer 32 formed on the physical vapor deposition HoBCO layer 31 by an organic metal deposition method.例文帳に追加

超電導薄膜材料１は、金属配向基板１０と、金属配向基板１０上に形成された酸化物超電導膜３０とを備え、酸化物超電導膜３０は、物理蒸着法により形成された物理蒸着ＨｏＢＣＯ層３１と、物理蒸着ＨｏＢＣＯ層３１上に有機金属堆積法により形成された有機金属堆積ＨｏＢＣＯ層３２とを含んでいる。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet wherein an adhesion defect between a metal vapor deposition layer and an adhesive agent layer generated when the adhesive agent layer is formed on the metal vapor deposited surface of a metal vapor deposition film by a transfer method is improved.例文帳に追加

金属蒸着フィルムの金属蒸着を施した面に、転写法により粘着剤層を形成する際に生じる金属蒸着層と粘着剤層との密着不良が改善された粘着シートを提供する。 - 特許庁

The release liner is obtained by forming a vapor deposition layer comprising a metal selected from Al, Ag, Au and Ni on at least the single surface of a base material film, and providing the release layer comprising a polyolefin resin on the vapor deposition layer.例文帳に追加

剥離ライナーは、基材フィルムの少なくとも片側にＡｌ、Ａｇ、Ａｕ及びＮｉから選択された金属による蒸着層が形成され、その蒸着層上にポリオレフィン樹脂からなる剥離層が設けられている。 - 特許庁

In this case, sputtering film deposition is performed first under a pressure of 5 to 15 Pa to deposit a first layer, and sputtering film deposition is then performed under a pressure of 0.5 to 5 Pa to deposit a second layer on the first layer.例文帳に追加

この際、まず初めに、５乃至１５Ｐａの圧力下でスパッタ成膜を行うことにより第１の層を形成し、次いで、０．５乃至５Ｐａの圧力下でスパッタ成膜を行うことにより第１の層上に第２の層を形成する。 - 特許庁

That is, the recording layer is deposited by performing the operation at least one time, wherein during deposition of the recording layer, when the thickness of the recording layer reaches a predetermined thickness, the deposition is temporarily interrupted and restarted, after a predetermined time passing.例文帳に追加

すなわち、記録層の成膜中に、記録層の膜厚が所定の膜厚になったときに、成膜を一時的に中断し、所定時間経過後、再び成膜を開始する操作を少なくとも一回実行して記録層を成膜する。 - 特許庁

The liquid crystal display element has at least two layers in between the liquid crystal layer, and an electrode layer arranged by coating or vapor deposition, wherein at least one layer thereof is a flat layer with 1μm or smaller unevenesses on the electrode-layer side surface.例文帳に追加

液晶層と塗布又は蒸着により設けた電極層の間に少なくとも２つの層を有し、その内少なくとも一方の層は電極層側の面の凹凸が、１μｍ以下の平坦層である。 - 特許庁

The mask for vapor deposition comprises the mask layer 1 consisting of a single thin film of silicon, and a mask pattern 2 formed on the mask layer 1, having a mask opening part 3 with the shape that the opening width expands towards a vapor deposition source.例文帳に追加

単一のシリコン薄膜からなるマスク層１と、そのマスク層１に形成され、蒸着源側に向かって開口幅が広がる形状のマスク開口部３を有するマスクパターン２とを備えている。 - 特許庁

To prevent short-circuiting phenomenon of the metal deposition layer of the contact hole of a package wafer in advance by performing formation at a corner part, where the contact hole of the package wafer comes into contact with the surface of a device wafer and continuously forming the metal deposition layer there.例文帳に追加

パッケージウエハのコンタクトホールの金属蒸着面の短絡現象を未然に防止することができると共に、パッケージウエハのコンタクトホールとデバイスウエハの表面電極の接続を確実に行う。 - 特許庁

To provide the deposition method of an Si oxide film, by which a film composed of the Si oxide film having excellent durability can be obtained at high deposition speed, to provide an alignment layer and to provide a liquid crystal optical device using the alignment layer.例文帳に追加

耐久性に優れたＳｉ酸化膜からなる膜を、高い堆積速度でえることができるＳｉ酸化膜の形成方法、配向膜、該配向膜を用いた液晶光学装置を提供する。 - 特許庁

The fluorophor for low-speed electron beams is such that: a deposition layer is formed on the surface of a fluorophor body represented by chemical formula (1); wherein the deposition layer consists of a plurality of oxide layers laminated sequentially on the surface of the fluorophor body.例文帳に追加

化学式（１）で表される蛍光体本体表面に付着層が形成され、その付着層が蛍光体本体の表面に順に積層された複数の酸化物層である。 - 特許庁

By subjecting the composite material for vapor deposition to vacuum deposition, a metal back film having a first vapor deposited layer of pure aluminum and a co-vapor deposited layer of aluminum and carbon formed thereon can be obtained.例文帳に追加

この蒸着用複合材料を真空蒸着することにより、純アルミニウムの第１の蒸着層とその上に形成されたアルミニウムとカーボンとの共蒸着層とを有するメタルバック膜が得られる。 - 特許庁

The method is carried out by sequentially depositing a layer of dielectric insulating material on the substrate in the same CVD chamber by means of a first deposition operation prior to the deposition of the intrinsic amorphous silicon layer.例文帳に追加

真性アモルファスシリコン層の堆積に先立ち、誘電絶縁材料の層を堆積する第１の堆積操作により、同じＣＶＤチャンバ内で基板上に連続して堆積することにより行われる。 - 特許庁

The pouch for the ostomy equipment is made of a transparent multi-film as a whole, by providing a deposition layer of an inorganic oxide on a surface of a plastic film and further covering the deposition layer with the plastic film.例文帳に追加

このオストミ−装具用のパウチを、プラスチックフイルムの一面に無機酸化物の蒸着層を設け、この蒸着層の上を更にプラスチックフイルムで覆い、全体として透明性の多層フイルムで形成する。 - 特許庁

Based on the rotational angular position data of the substrate 5, film deposition is set to start at a position shifted by 4.5° from the rotational angular position at the time of starting film deposition of an immediately preceding layer and a next layer of film is deposited.例文帳に追加

基板５の回転角度位置データに基づいて、直前に成膜した層の成膜開始時の回転角度位置から４．５°ずれた位置で成膜を開始するように設定し、次の層を成膜する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of an insulated gate type semiconductor device which suppresses degradation of element characteristics caused by the influence of the seam in a deposition insulating layer, or the influence of a void, by membranous improvement in the deposition insulating layer.例文帳に追加

堆積絶縁層内の膜質を改善し，堆積絶縁層内のシームやボイドの影響による素子特性の劣化を抑制した絶縁ゲート型半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To prevent the deterioration of the quality of an AuSn layer due to the bumping of an AuSn alloy vapor deposition source when the AuSn layer is vapor-deposited on the surface of a light-emitting device opposite to the substrate using an AuSn alloy as the vapor deposition source.例文帳に追加

ＡｕＳｎ合金を蒸着源として発光素子の基板対向面へＡｕＳｎ層を蒸着させる際、ＡｕＳｎ合金蒸着源が突沸してＡｕＳｎ層の品質が低下する。 - 特許庁

To provide a device for organic layer deposition, which is suitable for mass production of large substrates and allows highly fine patterning, and a method of manufacturing an organic light emitting display device using the organic layer deposition device.例文帳に追加

大型基板の量産工程にさらに適しており、高精細のパターニングを可能にする有機層蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A concavo-convex shape is formed on the surface of a current collector 1, and a low-deposition speed layer 11 and a high-deposition speed layer 13 are formed on the current collector 1 in this order.例文帳に追加

集電体１の表面には凹凸が形成されると共に、集電体１上に低堆積速度層１１と高堆積速度層１３とが順に設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a wiring layer on an insulating layer in a simple process, using aerosol deposition method.例文帳に追加

エアロゾルデポジション法を用いて簡易な工程により絶縁層上に配線層を形成する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The packaging material characteristically has base material layers placed outside an aluminum deposition film layer, at least one of the base material layers is made a hydrophobic layer.例文帳に追加

アルミ蒸着フィルム層よりも外側にある基材層の少なくとも１層を疎水性の層としたことを特徴とする包装材。 - 特許庁

To provide a deposition apparatus capable of forming a metal layer on the organic layer of a light emitting element so as to improve productivity.例文帳に追加

生産性が良好となるように、発光素子の有機層上に金属層を形成することが可能な成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process for depositing a film on a substrate by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) method in which an organic layer on the substrate is not damaged.例文帳に追加

ＰＥＡＬＤにより基板上に成膜するプロセスにおいて、基板上の有機膜にダメージを与えない方法を提供する。 - 特許庁

The second phase difference compensation layer 14 is constituted with an oblique deposition film of at least two-layer constitution and is turned to a positive O-plate.例文帳に追加

第二位相差補償層１４は少なくとも二層構成の斜方蒸着膜で構成され、正のＯ−ｐｌａｔｅとなる。 - 特許庁

A metallic layer 36 is formed on the surface of the piezoelectric layer 41 by vapor deposition and further a separate electrode 35 is formed by calcination.例文帳に追加

圧電層４１の表面上に蒸着によって金属層３６を形成し、さらに焼成によって個別電極３５を形成する。 - 特許庁

To easily provide a protein layered structure (protein nanotube) with a hollow cylinder structure by using an in-template, alternate layer-by-layer deposition method.例文帳に追加

鋳型内交互積層法を用いて、簡便に中空シリンダー構造の蛋白質積層構造体（蛋白質ナノチューブ）を提供する。 - 特許庁

The deposition of the metal layer 7 by the plating method and the removal of the metal layer 7 by the chemical-mechanical polishing method may be alternately repeated.例文帳に追加

めっき法による金属層７の堆積と、化学的機械研磨法による金属層７の除去とを交互に反復してもよい。 - 特許庁

Other alignment layers, a second alignment layer 119 and an alignment layer 116 for a TFT array substrate 101, are formed with the oblique deposition.例文帳に追加

その他の第２の配向膜１１９およびＴＦＴアレイ基板１０１の配向膜１１６は、斜め蒸着により形成する。 - 特許庁

The fitness layer 16 as a deposition layer of DLC according to a DC pulse plasma CVD method is formed on the DLC film 15.例文帳に追加

ＤＬＣ膜１５上には、直流パルスプラズマＣＶＤ法によるＤＬＣの堆積層であるなじみ層１６が形成されている。 - 特許庁

The plurality of substantially flat areas facilitate deposition and growth of a layer of transparent conductive oxide over the light trapping layer.例文帳に追加

複数の実質的に平坦な領域は、前記光トラッピング層上で透明導電酸化物層の堆積及び成長を容易にする。 - 特許庁

The irradiated light is absorbed into the light-absorbing layer at a position overlapped with the opening of the reflecting layer, and heats a deposition material.例文帳に追加

照射された光は、反射層の開口部と重なる位置にある光吸収層に吸収され、蒸着材料を加熱する。 - 特許庁

To provide a film deposition method, in a nanocrystal silicon thin film, which suppresses the formation of an incubation layer at the initial stage of film deposition, and can obtain a film with satisfactory crystallinity from the initial stage of the film deposition, to provide a nanocrystal silicon thin film obtainable by the film deposition method, and to provide a film deposition system which deposits the thin film.例文帳に追加

ナノ結晶シリコン薄膜において、成膜初期におけるインキュベーション層の生成を抑制し、成膜初期から結晶性の良い膜を得ることができる成膜方法と、該成膜方法により得られるナノ結晶シリコン薄膜、並びに該薄膜を成膜する成膜装置を提供すること。 - 特許庁

In the deposition film, on a thin film resin layer, at least two kinds of metal oxide different in deposition film characteristics, preferably alumina indicating deposition film characteristics of high barrier properties and silica indicating deposition film characteristic of so-called barrier properties enduring stretching are deposited multi-dimensionally, and the deposition film characteristics are developed synergistically.例文帳に追加

樹脂薄膜層に、２種以上のそれぞれ蒸着膜特性の異なる金属酸化物、好ましくは高バリア性の蒸着膜特性を示すアルミナと、伸びに耐えるバリア性と言う蒸着膜特性を示すシリカとを多元蒸着し、各金属酸化物の蒸着膜特性を相乗的に発現させた蒸着膜。 - 特許庁

The thin film type inorganic EL element is provided which has a light emitter layer formed by at least two vapor deposition processes of the vapor deposition process in which an inorganic composition is utilized as a vapor deposition source and the vapor deposition process in which a composition containing Ir element is utilized as the vapor deposition source.例文帳に追加

本発明によれば、無機組成物を蒸着源とする蒸着工程と、Ｉｒ元素を含む組成物を蒸着源とする蒸着工程との少なくとも二つの蒸着工程により形成される発光体層を有することを特徴とする薄膜型無機ＥＬ素子が提供される。 - 特許庁

After the substrate W, carrying the SiO2 pattern layer, is set in a first deposition unit 12 via a transporting device 10, a Ti layer is formed on the pattern layer and a contact layer is formed, by silicifying the Ti layer through irradiating of the Ti layer with a laser beam.例文帳に追加

次に、ＳｉＯ_2パターン層を形成した基板Ｗを、搬送装置１０を介して第１成膜ユニット１２中にセットし、基板ＷのＳｉＯ_2パターン層上に、Ｔｉ層を形成し、レーザ照射によってシリサイド化してコンタクト層とする。 - 特許庁

A polymer layer is formed on the cleaned surface of the layer using a plasma-enhanced deposition process to protect the cleaned surface of the layer against exposure to an oxidizing gas.例文帳に追加

プラズマ強化堆積プロセスを用いて層の洗浄された表面上にポリマー層が形成され、酸化ガスへの曝露に対し層の洗浄された表面が保護される。 - 特許庁

Over the vapor deposition layer, a paste whose main component is active carbon and binder is applied to form a polarizable electrode layer, acting as an electrode for an electric double layer capacitor.例文帳に追加

さらに、この蒸着層の上に、活性炭とバインダを主体とするペーストを塗布して分極性電極層を形成し、電気二重層キャパシタ用電極とする。 - 特許庁