「deposition layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for forming the metallic layer on the substrate is supplied and this method includes the deposition of the seed layer of the entire layer on the substrate, the deposition of the metallic layer electrochemically on the seed layer and the removal of the seed layer exposed from the annular edge of the substrate.例文帳に追加

本発明は、基板に金属層を形成する方法を供給し、その方法は、基板上に全範囲の種層を堆積し、前記種層上に金属層を電気化学的に堆積し、前記基板の環状の縁部から露出した種層を除去することを含んでいる。 - 特許庁

A material layer near the interface of an a-Si layer is deposited at a low deposition rate, so as to be extremely high in quality, and a material layer distant from the interface is deposited at a high deposition rate to be somewhat lower in quality than the former material layer but sufficiently high in quality.例文帳に追加

ａ−Ｓｉの界面近傍の材料層は極高品質の膜を実現する低堆積速度で堆積され、界面から離れた材料層は多少劣るが高品質膜を形成する高堆積速度で堆積される。 - 特許庁

In regard to the melting heat transfer ribbon for the metallic print, a metallic melting heat transfer ribbon is constituted at least of a vapor deposition heat-resistant layer, the metal vapor deposition layer and an adhesion layer in this sequence from a base, and the adhesion layer has a coloring agent.例文帳に追加

メタリック溶融熱転写リボンの構成が、基材から少なくとも蒸着耐熱層、金属蒸着層、接着層の順にあり、その接着層に着色剤を有するメタリック印画用の溶融熱転写リボン。 - 特許庁

The housing for an electronic device comprises: a plastic base substance; a base layer formed on the exterior surface of the base substance; a metallic color vacuum deposition layer formed on the top face of the base layer; and a transparent surface layer coated on the top face of the metallic color vacuum deposition layer and the base layer which is not coated with the metallic color vacuum deposition layer.例文帳に追加

本発明に係る電子装置用ハウジングは、プラスチックからなる基体と、前記基体の外面に形成されるベース層と、前記ベース層の上面に形成される金属色真空蒸着層と、前記金属色真空蒸着層及び前記金属色真空蒸着層に被覆されていない前記ベース層の上面に被覆される透明表面層と、を備える。 - 特許庁

After the metallic layer deposition of the first wafer ends, the first wafer is placed on a wafer stack (base) 360 outside the second IBS deposition chamber 304.例文帳に追加

第１のウェハの金属層堆積が終わった後、第１のウェハは第２のＩＢＳ堆積室の外のウェハ・スタック（台）３６０に置かれる。 - 特許庁

The plurality of layers of the SiC thin films 2 to 5 are formed respectively at different film deposition temperatures, and the film deposition temperature is higher as it goes to the external side layer.例文帳に追加

複数層のＳｉＣ薄膜２〜５は、それぞれ異なる成膜温度で形成され、外側の層ほど高い成膜温度である。 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND VAPOR DEPOSITION METHOD, AND ELECTRONIC ELEMENT AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT HAVING PATTERN-FORMED LAYER USING THE METHOD例文帳に追加

蒸着装置及び蒸着方法並びにその方法を用いてパターン形成した層を有する電子素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子 - 特許庁

In the display label, at least a base material layer pasted to the liquid container, a white PET layer, a print layer, and a vapor deposition PET layer are stacked in this order.例文帳に追加

そして、表示ラベルは、液体収容容器に貼着される基材層と、白ＰＥＴ層と、印刷層と、蒸着ＰＥＴ層とが、少なくともこの順序で積層される。 - 特許庁

In the organic EL display device, a red light emitting layer 16CR and a green light emitting layer 16CG are formed by means of a coating method, and a blue light emitting layer 16CB is formed by means of a vapor deposition method as a common layer.例文帳に追加

赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを塗布法、青色発光層１６ＣＢを蒸着法により共通層として形成する。 - 特許庁

The metal-deposition resin tape 10 is provided with a resin layer (for instance, a PET tape 11) and a metal layer (for instance, a copper layer) 12 deposited on one face of the resin layer.例文帳に追加

金属蒸着樹脂テープ１０は、樹脂層（例えばＰＥＴテープ１１）とその樹脂層の片面に蒸着した一層の金属層（例えば銅層）１２を有する。 - 特許庁

Appropriately, crystal orientation of the lower layer and that of the upper layer are made different by varying an incident angle of metal vapor at the time of deposition depending on the lower layer or the upper layer.例文帳に追加

好適には、蒸着の際の金属蒸気の入射角を下層と上層で変化させることにより、下層と上層の結晶配向が異なるようにする。 - 特許庁

An X ray photoconductive layer 4 is formed by vapor deposition on the crystal growth acceleration layer 31 and the crystal growth suppression layer 32.例文帳に追加

結晶成長促進層31上および結晶成長抑制層32上に、Ｘ線光導電層４を気相成長法にて形成する。 - 特許庁

The substrate includes a layer 23, deposited by the deposition of an atomic layer, comes into contact with the second region 22 in the dielectric layer 1.例文帳に追加

基板は、さらに、誘電体層１の第２の領域２２に接触している、原子層堆積により堆積された層２３を含んでいる。 - 特許庁

Also a method of forming a barrier layer from purified pentakis(dimethylamido)tantalum, for example, a tantalum nitride barrier layer by atomic layer deposition is claimed.例文帳に追加

また、精製ペンタキス(ジメチルアミド)タンタルから原子層堆積によってバリヤ層、例えば、窒化タンタルバリヤ層を形成する方法も特許請求される。 - 特許庁

Because the bottom face layer is formed at a low pressure, it has a refractive index higher than that of the surface layer, even when the deposition is conducted at a tilt angle identical to that of the surface layer.例文帳に追加

底面層は低圧力で形成されるため、表面層と同じ傾斜角度で成膜した場合であっても屈折率が高い。 - 特許庁

A nickel plating layer containing 6 to 10 mass% phosphor (columnar-deposition-type middle-phosphorus nickel plated layer) is employed, as a nickel plating layer.例文帳に追加

ニッケルめっき層としては、リン含有量が６〜１０質量％のニッケルめっき層（柱状析出タイプの中リンニッケルめっき層）を用いる。 - 特許庁

A lithium ion secondary battery is manufactured by forming a positive electrode layer on a base material with a flat surface by a chemical vapor deposition method, specifically an metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) method, forming an electrolyte layer on the positive electrode layer, and forming a negative electrode layer on the electrolyte layer.例文帳に追加

平面を有する基材上に化学気相成長法、具体的には有機金属気相成長法により正極層を形成し、正極層上に電解質層を形成し、電解質層上に負極層を形成するリチウムイオン二次電池を作製する。 - 特許庁

The resin substrate comprises a polyimide resin layer and a surface layer which has at least one layer of SiN layer primarily comprising silicon nitride deposited at a deposition start temperature of 50°C or more according to a chemical vapor deposition method on the polyimide resin layer.例文帳に追加

ポリイミド樹脂層と、このポリイミド樹脂層の上に化学気相成長法により成膜開始温度が５０℃以上で成膜された窒化ケイ素を主成分とするＳｉＮ層を少なくとも１層有する表面層とを有することを特徴とする樹脂基板。 - 特許庁

A re-peelable adhesive layer of a thickness of 0.05-10 μm is formed on one smooth side of a resin film substrate, a metal deposition layer is formed on the re-peelable adhesive layer, and an rustproof layer is formed on the metal deposition layer to prevent corrosion during handling.例文帳に追加

樹脂フィルム基体の平滑な片面に厚さが０.０５〜１０μｍの再剥離性粘着剤層を設け、該再剥離性粘着剤層上に金属の蒸着層を形成、取り扱い時の腐食防止の為に金属蒸着膜上に防錆層を設ける。 - 特許庁

To provide a film deposition method and an apparatus therefor by which a film deposition can be performed with film deposition patterns different for every film layer when a plurality of vapor-deposited films are formed on the surface of a substrate in a chamber.例文帳に追加

チャンバ内で基板表面に複数の蒸着膜を形成する際に、膜層毎に異なる成膜パターンで膜形成することが可能な成膜方法及び装置を提供する。 - 特許庁

For example, a deposition method is disclosed about a chemical vapor deposition or an atomic layer deposition in a metal-containing film such as a metallic silicide film and a metallic oxynitride silicon film.例文帳に追加

例えば金属ケイ酸塩又は金属酸窒化ケイ素の膜のような金属含有膜の化学気相成長又は原子層成長による堆積法が本書に開示されている。 - 特許庁

A positioning of a mask 14 and a substrate 20 is conducted inside a deposition chamber 1, and the substrate 20 and a vapor deposition source 11 are moved relatively to conduct a deposition of the organic compound layer.例文帳に追加

成膜室１の内部において、マスク１４と基板２０との位置合わせを行い、続いて、基板２０と相対的に蒸着源１１を移動させて有機化合物層の成膜を行う。 - 特許庁

At that time, so that a new vapor-deposition layer will not be formed in a full color display region 110C, a vapor-deposition mask 11a is arranged between a vapor-deposition source 8a and the element substrate 1b.例文帳に追加

この際、蒸着源８ａ及び素子基板１ｂ間には、フルカラー表示領域１１０Ｃに新たな蒸着層が形成されないように蒸着マスク１１ａが配置される。 - 特許庁

Further, tungsten deposition treatment is applied onto it, and a protective layer is formed in whole.例文帳に追加

そして、その上にさらにタングステンデポジション処理を施し、全体に保護層を形成する。 - 特許庁

An evaporation source 8 which becomes a material of the organic EL layer is arranged outside the vapor-deposition chamber.例文帳に追加

有機ＥＬ層の材料となる蒸発源８が蒸着室外に配置されている。 - 特許庁

To improve reliability of a liquid crystal display having an inorganic vapor deposition film used for an alignment layer.例文帳に追加

無機蒸着膜を配向層に用いた液晶表示装置の信頼性を改善する。 - 特許庁

DEVICE FOR ORGANIC LAYER DEPOSITION AND METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

有機層蒸着装置及びこれを用いた有機発光ディスプレイ装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF DEPOSITING HIGH DIELECTRIC CONSTANT MATERIAL ON SUBSTRATE BY USING ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD例文帳に追加

原子層堆積法を用いて基板上に高誘電率材料を堆積する方法 - 特許庁

Thereafter, a termination structure oxide layer 150 is formed through vapor deposition, lithographic process and etching.例文帳に追加

蒸着、リソグラフィック及びエッチングプロセスにより、終端構造酸化層１５０を形成する。 - 特許庁

SINGLE ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS IN WHICH STRUCTURE OF REACTION VESSEL AND SPECIMEN CHIP HOLDER HAS BEEN IMPROVED例文帳に追加

反応容器及び試片ホルダーの構造が改善された単原子層蒸着装置 - 特許庁

An organic layer 16 of an organic EL display device 1 is formed by a vacuum vapor deposition method.例文帳に追加

有機ＥＬ表示装置１の有機層１６を真空蒸着法によって形成する。 - 特許庁

To improve the etching resistance of a silicon nitride film formed by low-temperature atomic layer deposition.例文帳に追加

低温ＡＬＤ法で形成された窒化珪素膜のエッチング耐性を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for correctly controlling film formation conditions of ALD (atomic layer deposition).例文帳に追加

ＡＬＤ（原子層堆積）の成膜条件を適正に制御する方法を提供する。 - 特許庁

The reflection substance layer 5 is formed of a metal thin film by using a vapor deposition method or a plating method.例文帳に追加

反射物質層５は金属薄膜よりなり、蒸着またはメッキ法で形成する。 - 特許庁

To form a thin film having uniform film quality with a simple configuration by an atomic layer deposition method.例文帳に追加

原子層堆積法により、簡易な構成で均一な膜質の薄膜を形成する。 - 特許庁

After an amorphous layer is formed by low temperature deposition, an opening is formed by etching.例文帳に追加

低温堆積により非結晶層を形成した後、エッチングにより開口部を設ける。 - 特許庁

FILM DEPOSITION LAYER STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND THERMAL HEAD AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

成膜層構造体及びその製造方法並びにサーマルヘッド及びその製造方法 - 特許庁

A plating resist film 11 with a wiring circuit pattern is formed on the vacuum deposition copper layer 10.例文帳に追加

この真空蒸着層１０上にメッキレジスト膜１１の配線回路パターンを設ける。 - 特許庁

BIODEGRADABLE FILM LAMINATE HAVING TRANSPARENT INORGANIC VAPOR DEPOSITION FILM LAYER, AND BAG-LIKE ARTICLE例文帳に追加

透明無機蒸着膜層を有する生分解性フィルム積層体および袋状物 - 特許庁

METHOD FOR FORMING ATOMIC LAYER WITH VAPOR DEPOSITION UTILIZING ORGANOMETALLIC COMPLEX HAVING LIGAND OF β- DIKETONE例文帳に追加

β−ジケトンの配位子を有する有機金属錯体を利用した原子層蒸着方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND ADSORPTION SITE BLOCKING ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD例文帳に追加

半導体装置及びその製造方法、並びに吸着サイト・ブロッキング原子層堆積法 - 特許庁

The gas barrier layer is preferably formed from a vapor deposition film comprising an inorganic oxide or nitride.例文帳に追加

ガスバリア層は、無機酸化物又は無機窒化物の蒸着膜から形成するとよい。 - 特許庁

A strong adhesion gas barrier transparent laminate is obtained by laminating a metal vapor deposition thin film layer with a thickness of 10 nm or less on at least one surface of a base material comprising a transparent plastic material and further laminating an inorganic oxide vapor deposition thin film layer with a thickness of 5-300 nm on the metal vapor deposition layer.例文帳に追加

透明プラスチック材料からなる基材の少なくとも片面に、厚さが１０ｎｍ以下の金属蒸着薄膜層と、該金属蒸着薄膜層上に厚さが５〜３００ｎｍの無機酸化物蒸着薄膜層を順次積層する。 - 特許庁

The fine grain layer 1p is disposed on the surface side of the base material, and the coated film 2 is formed on this layer 1p by means of physical vapor deposition.例文帳に追加

微粒層1pが基材表面側に配され、この上に被覆膜2が物理蒸着法により形成される。 - 特許庁

The plating layer is formed by using Ni plating with high deposition properties, and a part of it diffuses in the metallizing layer.例文帳に追加

めっき層は析出性の高いＮｉめっきを用いて形成され、かつその一部がメタライズ層中に拡散している。 - 特許庁