「defect evaluation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DEFECT EVALUATION OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板の欠陥評価方法 - 特許庁

IMAGE DEFECT EVALUATION DEVICE AND METHOD例文帳に追加

画像欠陥評価装置および方法 - 特許庁

DEFECT EVALUATION METHOD OF LONG MEMBER, AND DEFECT EVALUATION DEVICE OF LONG MEMBER例文帳に追加

長尺部材の欠陥評価方法及び長尺部材の欠陥評価装置 - 特許庁

CRYSTAL DEFECT EVALUATION METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

結晶欠陥評価方法及び装置 - 特許庁

SURFACE DEFECT EVALUATION METHOD OF SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンウェーハの表面欠陥評価方法 - 特許庁

DEFECT EVALUATION METHOD FOR SEMICONDUCTOR CRYSTAL例文帳に追加

半導体結晶の欠陥評価方法 - 特許庁

HF DEFECT EVALUATION METHOD OF SOI SUBSTRATE例文帳に追加

ＳＯＩ基板のＨＦ欠陥評価方法 - 特許庁

EVALUATION METHOD FOR FLAKE DEFECT OF STEEL MATERIAL例文帳に追加

鋼材の白点性欠陥の評価方法 - 特許庁

DEFECT TOLERANCE EVALUATION METHOD FOR STRUCTURE WITHIN REACTOR例文帳に追加

炉内構造物の欠陥裕度評価方法 - 特許庁

ULTRASONIC PROBE AND DEFECT EVALUATION METHOD USING IT例文帳に追加

超音波プローブ及びこれを用いた欠陥評価方法 - 特許庁

CORROSION LIQUID FOR SILICON WAFER D-DEFECT EVALUATION AND EVALUATION METHOD USING THIS LIQUID例文帳に追加

シリコンウェハのＤ−欠陥評価用腐蝕液、及びこれを利用した評価方法 - 特許庁

To provide an ultrasonic probe capable of detecting even an inclined defect and having high evaluation precision of the defect, and a defect evaluation method using the probe.例文帳に追加

傾いた欠陥でも検出することができ、、且つ、欠陥の評価精度が高い超音波プローブ及びこれを用いた欠陥評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect evaluation device of a lens and a defect evaluation method of a lens capable of evaluating objectively and quantitatively a defect of a lens such as a damage degree.例文帳に追加

傷つき具合等のレンズの欠点を客観的かつ定量的に評価することができるレンズの欠点評価装置、および、レンズの欠点評価方法を提供する。 - 特許庁

EVALUATION METHOD AND EVALUATING APPARATUS FOR CRYSTAL DEFECT IN ARTIFICIAL CRYSTAL例文帳に追加

人工水晶の結晶欠陥の評価方法、及び評価装置 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR EVALUATION OF DEFECT IN EDGE REGION OF WAFER例文帳に追加

ウエハの縁部領域の欠陥の評価のための装置及び方法 - 特許庁

Namely, evaluation data affected by the defect have large values.例文帳に追加

ディフェクトの影響を受ける評価データは大きな値となるためである。 - 特許庁

To provide a method of determining a defect size of an evaluation pattern for evaluating defect detection sensitivity capable of accurately determining the defect size of the evaluation pattern formed on an evaluation mask used to evaluate the defect detection sensitivity of mask defect inspection systems, and a method of creating a sensitivity mask.例文帳に追加

マスク欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価するために用いられる評価用マスクに作り込まれた評価用パターンの欠陥サイズを精度良く算出することが可能な欠陥検出感度評価用パターンの欠陥サイズ算出方法及び感度マスクの作成方法を提供する。 - 特許庁

In a first evaluation section 53, a tentative evaluation is made as to whether a defect candidate in the region corresponding to the defect inclusion region in the difference image is true.例文帳に追加

第１評価部５３では、差分画像の欠陥包含領域に対応する領域中の欠陥候補の真虚が仮評価される。 - 特許庁

METHOD FOR MAKING CRYSTAL DEFECT OBVIOUS, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE FOR EVALUATION, METHOD FOR EVALUATING CRYSTAL DEFECT, AND SEMICONDUCTOR DEVICE FOR EVALUATION例文帳に追加

結晶欠陥の顕在化方法、評価用半導体装置の製造方法、結晶欠陥の評価方法及び、評価用半導体装置 - 特許庁

JUDGING METHOD OF SURFACE DEFECT EVALUATION ON CAST SLAB IN CONTINUOUS CASTING PROCESS例文帳に追加

連続鋳造プロセスにおける鋳片の表面欠陥評点判定方法 - 特許庁

TEST PATTERN WAFER FOR DEFECT INSPECTING DEVICE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND EVALUATION METHOD OF DEFECT INSPECTION APPARATUS USING IT例文帳に追加

欠陥検査装置用テストパターンウエハ、その製造方法及びそれを用いた欠陥検査装置の評価方法 - 特許庁

To provide a crystal defect analyzer providing only information related to a defect calculating accurate defect size and depth and facilitating the crystal evaluation.例文帳に追加

正確な欠陥サイズと深さが算出された欠陥に対する情報のみを得て、結晶評価が容易な結晶欠陥解析装置を得る。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its evaluation method for defect evaluation capable of easily determining the address of a cell and easily reaching / specifying a defective cell in a short time.例文帳に追加

セルのアドレスが容易に判断でき、短時間に容易に不良セルに到達・特定することができる。 - 特許庁

EVALUATION METHOD FOR RESIDUAL STRENGTH OF CIRCULAR STEEL PIPE MEMBER WITH GENERATED DEFECT ON CROSS SECTION例文帳に追加

断面に欠損を生じた円形鋼管部材の残存強度の評価法。 - 特許庁

The evaluation image 52 is binarized to a defect region 52a and a normal region 52b, and the maximum intensity information of the defect region 52a of the evaluation image 52 is outputted to a defect determination circuit 55.例文帳に追加

評価画像５２は、欠陥領域５２ａと正常領域５２ｂとに二値化され、評価画像５２の欠陥領域５２ａの最大強度情報は、欠陥判定回路５５に出力される。 - 特許庁

To provide a defect tolerance evaluation method for a structure within a reactor accurately carrying out defect tolerance evaluation by using material testing data obtained from a sample taken from an evaluation object portion itself.例文帳に追加

評価対象部位そのものから採取したサンプルから得られた材料試験データを用いて精度よく欠陥裕度評価を行う炉内構造物の欠陥裕度評価方法を提供する。 - 特許庁

To execute an accurate defect fatalness evaluation, a yield prediction and a fault position specification in an in-line defect checking step.例文帳に追加

インラインの欠陥検査工程において、高精度な欠陥致命性評価、歩留まり予測、故障個所特定を行うこと。 - 特許庁

To provide a display defect evaluation method capable of accurately evaluating a linear defect of a display device.例文帳に追加

表示デバイスの線状欠陥評価を精度良く行うことができる表示欠陥評価方法を提供すること。 - 特許庁

Evaluation points (elements) are created with respect to a set measurement region 342, and defect degree for each defect point is calculated.例文帳に追加

設定された計測領域３４２に対して、評価点（エレメント）が生成され、その各々についての欠陥度が算出される。 - 特許庁

To provide an underground structure defect evaluation apparatus capable of accurately evaluating the degree of a defect caused by corrosion.例文帳に追加

腐食による欠陥の程度をより精度よく評価することができる土中構造物の欠陥評価装置を提供する。 - 特許庁

DEFECT EVALUATION METHOD FOR LAMINATED CERAMIC ELEMENT, AND PRODUCTION METHOD FOR LAMINATED CERAMIC ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

積層型セラミック素子の欠陥評価法及び積層型セラミック電子部品の製法 - 特許庁

DETECTION OF DEFECT AND CHARACTERISTICS EVALUATION IN MASK BLANK USING ANGLE DISTRIBUTION OF SCATTERED LIGHT例文帳に追加

散乱光の角度分布を使ったマスクブランクの欠陥の検出および特性評価 - 特許庁

To provide a defect detection method of a structure and a defect detection device of the structure capable of quantitative evaluation of existence of a defect more surely by a simple constitution.例文帳に追加

簡易な構成で、かつ、より確実に欠陥の有無の定量評価が可能な、構造物の欠陥検出方法および構造物の欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device having unprecedented high accuracy, in a defect inspection device of a manufacturing process of a semiconductor device; and to provide a defect inspection (or evaluation) method.例文帳に追加

半導体デバイスの製造過程の欠陥検査装置において従来にはない精度の良い欠陥検査装置及び検査（或いは評価）方法を実現する。 - 特許庁

The image processing part 20 extracts a defect (crack, peeling) of the object for evaluation from the image data, and computes the size of each defect.例文帳に追加

画像処理部２０は、その画像データから評価対象物の欠陥（ひび割れ、剥離）を抽出して、各欠陥の大きさを算定する。 - 特許庁

To provide an evaluation index of an internal defect that is not dependent on a gap existing in a route of radiation.例文帳に追加

放射線の経路に存在する隙間に依存しない内部欠陥の評価指標を得る。 - 特許庁

As a result, if there is an overlooked defect or the like (S7 and S8), evaluation values are calculated (S10).例文帳に追加

その結果、見逃し欠陥がある場合などには（Ｓ７、Ｓ８）、評価値を算出する（Ｓ１０）。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a defect in a semiconductor single crystal, which has an enhanced sensitivity in defect evaluation of an inspection object by ultrasonic scattering method.例文帳に追加

超音波散乱法における被検査物の欠陥評価の感度を向上させた半導体単結晶中の欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an HF defect evaluating method for an SOI substrate capable of a short-duration high-precision evaluation, and capable of providing HF defect distribution maps.例文帳に追加

ＨＦ欠陥を短時間で高精度に評価し、ＨＦ欠陥の分布を示すマップも得られるＳＯＩ基板のＨＦ欠陥評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of non-destructively and high-accurately inspecting a defect of a transparent substrate without using an expensive evaluation equipment or a microscope.例文帳に追加

高価な評価機器や顕微鏡を用いることなく、非破壊にて精度高く透明基板の欠陥を検査することができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

A defect found on the mask blank is subjected to characteristics evaluation of importance by using the angle distribution.例文帳に追加

その角度分布を用いてマスクブランク上にみつかった欠陥の重大性の特性評価が行われる。 - 特許庁

VERTICAL SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND CRYSTAL-DEFECT EVALUATION METHOD OF VERTICAL SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

縦型半導体装置とその製造方法、及び縦型半導体装置の結晶欠陥評価方法 - 特許庁

To enable the manufacturing of an evaluation sample easily and in a short time, to enable the execution of reliable evaluation, and to enable the easy identification of a defect.例文帳に追加

評価サンプルを容易に短時間で作成することができ、確実な評価を下すことができ、不良箇所を容易に特定することができる。 - 特許庁

An evaluation processing section 34 evaluates the defect and the characteristics of the magnetic disk 16 by using the result of reading the evaluation pattern written with the excessively large or small current.例文帳に追加

評価処理部３４は過大電流や過小電流で書き込まれた評価パターンの読み出し結果から、磁気ディスク１６の欠陥や特性を評価する。 - 特許庁

To provide an evaluation method for a solid-state image pickup device by which a noise component of a pixel signal causing an image defect separated by cause of generation can be extracted for the evaluation of the solid-state image pickup device.例文帳に追加

固体撮像装置の評価において、画像欠陥を引き起こす画素信号のノイズ成分を、発生原因別に分離して抽出する。 - 特許庁