「etching solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve the smoothness of an etching surface by employing the water solution of KOH as etching solution upon effecting etching treatment, by immersing a semiconductor substrate into the etching solution.例文帳に追加

半導体基板をエッチング液中に浸すことによりエッチング処理を行なうにあたって、エッチング液としてＫＯＨ水溶液を用いてエッチング面の平滑性を向上させる。 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR COMPOUND SEMICONDUCTOR FILM, ETCHING METHOD USING IT, AND METHOD FOR RECOVERING IODINE FROM ITS ETCHING WASTE SOLUTION例文帳に追加

化合物半導体膜のエッチング液とそれを用いたエッチング方法、及びそのエッチング廃液のヨウ素の回収方法 - 特許庁

Moreover, successively to the etching process (1A), an etching solution substituting process (2B) using an etching solution of ferrous chloride is passed.例文帳に追加

また、エッチング工程（１Ａ）に引き続き塩化第一鉄のエッチング液を用いたエッチング液置換工程（２Ｂ）を経ること。 - 特許庁

ETCHING SOLUTION AND METHOD FOR MANUFACTURING BLACK MATRIX例文帳に追加

エッチング液およびブラックマトリックスの製造方法 - 特許庁

ALKALINE ETCHING SOLUTION PROCESSING APPARATUS AND PROCESSING METHOD例文帳に追加

アルカリエッチング液の処理装置及び処理方法 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR THIN FILM OF METALLIC SILVER OR SILVER ALLOY, AND ETCHING METHOD USING THE SOLUTION例文帳に追加

金属銀薄膜または銀合金薄膜用エッチング溶液及び該溶液を用いたエッチング方法 - 特許庁

ETCHING SOLUTION AND METHOD FOR PRODUCING BLACK MATRIX例文帳に追加

エッチング液およびブラックマトリックスの製造方法 - 特許庁

The etching solution reproducing apparatus includes: atomizing means 11 for atomizing taken-out waste etching solution; and separating means 12 for separating silicon compound in the waste etching solution precipitated and/or flocculated by the atomization from the waste etching solution to obtain reproduced etching solution.例文帳に追加

取り出されたエッチング液を霧化する霧化手段１１と、霧化によって析出および／または凝集されるエッチング液中のケイ素化合物を、エッチング液から分離除去して再生エッチング液を得る分離手段１２を備えている。 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING SOLUTION FOR ETCHING OR CLEANING例文帳に追加

エッチング用又は洗浄用の溶液の製造法 - 特許庁

ETCHING SOLUTION AND ROUGHENING TREATMENT OF COPPER SURFACE例文帳に追加

エッチング液および銅表面の粗化処理方法 - 特許庁

COMPOUND FOR PHOTORESIST, PHOTORESIST SOLUTION, AND ETCHING METHOD USING THE PHOTORESIST SOLUTION例文帳に追加

フォトレジスト用化合物、フォトレジスト液、およびこれを用いるエッチング方法 - 特許庁

For etching of the nickel film, acid-based pharmaceutical solution is used.例文帳に追加

ニッケル膜のエッチングには、酸系薬液を用いる。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR RECOVERING ALKALI FROM ALKALI ETCHING SOLUTION例文帳に追加

アルカリエッチング液のアルカリ回収方法及び装置 - 特許庁

ETCHING SOLUTION AND ARRAY SUBSTRATE FOR ELECTRONIC APPARATUS HAVING COPPER WIRING PATTERNED AND FORMED BY ETCHING SOLUTION例文帳に追加

エッチング溶液及びエッチング溶液でパターン形成された銅配線を有する電子機器用アレー基板 - 特許庁

The etching solution for metal contains a base etching solution and a retardant, and is characterized in that the etching rate is independent of or reverse dependent on the stirring rate of the etching solution.例文帳に追加

ベースのエッチング液と抑制剤とを含む金属のエッチング液であり、エッチング速度がエッチング液の攪拌速度に非依存または逆依存することを特徴とした金属のエッチング液である。 - 特許庁

A cleaning solution (first processing solution) in a processing tank 10 is replaced with an etching solution (second processing solution) for etching.例文帳に追加

そして、エッチング処理を実行すべく、処理槽１０内に存在する洗浄用処理液（第１の処理液）をエッチング用処理液（第２の処理液）に置換する。 - 特許庁

To provide an etching solution which is improved in etching performance of a poor liquid contact portion by controlling an etching rate of the etching solution and is reduced in the difference in the etching rate due to a difference in the liquid contact.例文帳に追加

エッチング液のエッチング速度をコントロールし、液あたりの悪い部分のエッチング性を向上させ、液あたりの差によるエッチング速度差の少ないエッチング液を提供する。 - 特許庁

The etching may be direct aqueous solution etching of a silicon carbide substrate.例文帳に追加

このエッチングは、炭化ケイ素基板の直接水溶液エッチングとすることができる。 - 特許庁

METHOD FOR WET-ETCHING PYRAMIDAL STRUCTURE ON SURFACE OF SILICON AND ETCHING SOLUTION例文帳に追加

シリコン表面のピラミッド形組織ウエットエッチングのための方法及びエッチング溶液 - 特許庁

REGENERATION OF ETCHING WASTE SOLUTION AND METAL RECOVERING EQUIPMENT例文帳に追加

エッチング廃液の再生及び金属の回収装置 - 特許庁

METHOD FOR REGENERATING ETCHING SOLUTION FOR COPPER AND COPPER ALLOY例文帳に追加

銅および銅合金用エッチング液の再生方法 - 特許庁

To recover cerium from an etching waste solution at high efficiency.例文帳に追加

エッチング廃液からセリウムを高効率回収する。 - 特許庁

An etching solution is supplied to the groove 34.例文帳に追加

そして、その溝３４にエッチング液が供給される。 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING FERRIC CHLORIDE ETCHING SOLUTION AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

塩化第二鉄エッチング液の管理方法および装置 - 特許庁

SOLUTION AND METHOD FOR ETCHING THIN COPPER FOIL例文帳に追加

薄銅箔用エッチング液および薄銅箔エッチング方法 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR REMOVING MOLYBDENUM RESIDUE FROM COPPER MOLYBDENUM FILM, AND ETCHING METHOD THEREFORE例文帳に追加

銅モリブデン膜で、モリブデンの残渣を除去するエッチング溶液及びそのエッチング方法 - 特許庁

This holder 14 is immersed into an etching solution in a treatment tank, and etching treatment is performed.例文帳に追加

この治具１４を処理槽内のエッチング液に浸漬してエッチング処理を行う。 - 特許庁

ETCHING METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR, AND ETCHING SOLUTION例文帳に追加

エッチング方法、パターン形成方法、薄膜トランジスタの製造方法及びエッチング液 - 特許庁

To provide an anisotropic etching solution having an anisotropic etching selection ratio which is stable for a long period, and an etching method using the same.例文帳に追加

長期に安定な異方性エッチング選択比を有するエッチング液およびエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The etching solution for spray type wet etching contains silica fine particles, and the spray type wet etching method uses the same.例文帳に追加

シリカ微粒子を含有するスプレー式ウェットエッチング用エッチング液およびこれを用いるスプレー式ウェットエッチング法。 - 特許庁

To provide an etching solution which is free from the time change of turbidity, has excellent storage stability, has no etching fatigue in etching, and has excellent etching precision and just etch time properties compared with the conventional chromium etching solution.例文帳に追加

従来のクロムエッチング液よりも、液濁りの経時変化がなく、保存安定性に優れ、かつ、エッチング時に、エッチング疲労がなく、エッチング精度およびジャストエッチタイム性が優れたエッチング液の提供。 - 特許庁

To provide an etching solution for a silver-based thin film which has does not field an etching residue (in particular gold residue), and has an excellent etching precision and an excellent etching rate compared with the conventional etching solution for a silver-based thin film.例文帳に追加

従来の銀系薄膜用エッチング液よりも、エッチング残渣が発生せず（とくに金残渣が発生しない）、エッチング精度およびエッチング速度が優れた銀系薄膜用エッチング液を提供すること。 - 特許庁

To offer an etching stock solution which can be used in common with a plurality of etching processes.例文帳に追加

複数のエッチング工程において共通に使用できるエッチング原液を提供する。 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR STRUCTURE OBSERVATION OF COPPER OR COPPER ALLOY, ETCHING METHOD AND STRUCTURE OBSERVATION METHOD例文帳に追加

銅または銅合金の組織観察用エッチング液、エッチング方法および組織観察方法 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR DISPLAY MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY MASK例文帳に追加

ディスプレイマスク用エッチング液およびディスプレイマスクの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING CUPRIC OXIDE FROM WASTE COPPER ETCHING SOLUTION例文帳に追加

銅エッチング廃液から酸化第２銅を製造する方法 - 特許庁

CONCENTRATION MEASURING METHOD FOR ACID MIXED AQUEOUS SOLUTION IN ETCHING PROCESS例文帳に追加

エチングプロセスにおける混酸水溶液の濃度測定方法 - 特許庁

WET ETCHING PROCESS OF PEROVSKITE FERRODIELECTRIC MATERIAL AND SOLUTION例文帳に追加

ペロブスカイト強誘電性材料のウェット・エッチング・プロセスと溶液 - 特許庁

SYSTEM FOR CONTROLLING CUPRIC CHLORIDE-SODIUM CHLORATE ETCHING SOLUTION例文帳に追加

塩化第二銅・塩素酸ナトリウム系エッチング液の管理システム - 特許庁

The anisotropic etching is implemented with an etching solution such as potassium hydroxide aqueous solution to form a V-shaped groove.例文帳に追加

この後水酸化カリウム水溶液等のエッチング液により、異方性エッチングを行いＶ型の溝２５，２６を形成する。 - 特許庁

ETCHING SOLUTION TO REMOVE DIELECTRIC FILM WITH LOW PERMITTIVITY, AND ETCHING METHOD OF THE FILM USING THE SOLUTION例文帳に追加

低誘電率の誘電膜を除去するためのエッチング溶液及びこれを利用した低誘電率の誘電膜エッチング方法 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR PATTERNING INDIUM TIN OXIDE, AND MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME ETCHING SOLUTION例文帳に追加

インジウム錫酸化物のパターニングのためのエッチング溶液及び該エッチング溶液を利用した液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

The separated water is used as water for controlling the concentration of the regenerated etching solution, and the etching solution freed of the metal to be etched is recycled to an etching process.例文帳に追加

分離した水は再生されたエッチング液の濃度調整用水として用いられ、被エッチング金属を取り除かれたエッチング液はエッチングプロセスにリサイクルされる。 - 特許庁

To provide a method for extending the life of an etching solution so that the etching solution is not deteriorated and can etch an article in a nearly fresh condition, by incessantly regenerating trivalent cerium contained in the etching solution which continues etching, into tetravalent cerium during etching.例文帳に追加

エッチング中のエッチング液に含まれる３価のセリウムを、エッチング中に絶えず４価のセリウムに再生し、新しいエッチング液に近い状態でエッチングが行われ、液劣化が起きないように上記のエッチング液を長寿命化する方法の提供。 - 特許庁

A semiconductor wafer 18 placed in a treatment tank 1 is subjected to an etching treatment, by repeating a treatment of supplying an etching solution 2 in an etching solution tank 9 to the treatment tank 1, and returning the supplied etching solution 2 into the etching solution tank 9.例文帳に追加

エッチング液タンク９内のエッチング液２を処理槽１内に供給し、この供給されたエッチング液２をエッチング液タンク９内に回収することを複数回繰り返すことにより、処理槽１内に配置された半導体ウエハ１８に対してエッチング処理を行なう。 - 特許庁