「exposure concentration」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Therefore, in this project, regarding specific target organ/systemic toxicity (single exposure and repeated exposure), the toxicity manifestation concentration at the time of vapor inhalation is investigated in mg/l, and is evaluated by comparing it with the value shown in the Table. If the original data is given in ppm, the unit is converted into mg/l and a comparison is made.例文帳に追加

原資料の記載が ppm であれば単位を mg/l に変換し比較する。 - 経済産業省

To prevent a gas sensor from being deteriorated by excessive exposure to a high concentration of detected gas.例文帳に追加

過剰に高濃度の被検出ガスに曝されることでガスセンサの劣化が生じることを防止する。 - 特許庁

To determine exposure to a chemical substance such as dioxins at a low cost on the basis of its concentration in blood.例文帳に追加

ダイオキシン類等の化学物質の被ばくの血中濃度に基づく判定を低コストで行う。 - 特許庁

Under exposure of the corrosive gas the concentration of which is unknown, the travel distance where the three stimulus values travel along the calibration curve, and exposure time are observed, and the concentration of a corrosive gas the concentration of which is unknown is calculated, based on the observation result and a plurality of stored travel distance data for each concentration (S8).例文帳に追加

濃度が未知の腐食性ガスの曝露下で、３刺激値が前述の較正曲線に沿って移動する移動距離と曝露時間とを観測し、その観測結果と保管した濃度別の複数の移動距離データとに基づき、濃度が未知の腐食性ガスの濃度を算出する（Ｓ８）。 - 特許庁

As to the conditions of the exposure to ozoniferous gas in particular, anyone among the following means is adopted: exposure to ozone of ≥3 wt.% concentration generated from an ordinary ozonizer at 0.5-2 atm; exposure to ozone of ≥20 wt.% concentration at ≤100 mmHg; and exposure to ozone of ≥80 wt.% concentration at ≤10 mmHg.例文帳に追加

特にオゾン含有気体に曝露する条件として通常のオゾン発生器より発生する３重量％以上の濃度のオゾンへの０．５〜２気圧での曝露、２０重量％以上の濃度のオゾンへの１００ｍｍＨｇ以下での曝露、８０重量％以上のオゾンへの１０ｍｍＨｇ以下での曝露のいづれかの手段を用いる。 - 特許庁

When the concentration of oxygen reaches the specific value or lower, the mask 102 is taken out and placed on the mask stage 9 and exposure starts.例文帳に追加

酸素濃度が所定値以下になった時点でマスクを取り出しマスクステージ９上に載置し露光を開始する。 - 特許庁

USE OF CALCIUM CARBONATE AS DILUENT MEDIUM FOR ADJUSTING EXPOSURE CONCENTRATION OF CHEMICAL SUBSTANCE IN INHALATION TOXICITY TESTING例文帳に追加

吸入毒性試験における化学物質の曝露濃度調整用希釈媒体としての炭酸カルシウムの使用 - 特許庁

The exposure resistance evaluation method of the soybean oil includes: a step of measuring a 2,3-octanedion concentration in the exposed soybean oil; and a step of evaluating the exposure resistance of the soybean oil based on the 2,3-octanedion concentration measured in the process.例文帳に追加

曝光させた大豆油中の２，３−オクタンジオン濃度を測定する工程と、前記工程で測定された２，３−オクタンジオン濃度に基づいて大豆油の曝光耐性を評価する工程とを含むことを特徴とする大豆油の曝光耐性評価方法。 - 特許庁

To prevent an increase in a leakage current and deterioration in a withstand voltage caused by the exposure of a pn junction in a semiconductor device, having a drift layer where adjacent impurities are at low concentration and a high-concentration layer where impurities are at high concentration.例文帳に追加

隣接する不純物が低濃度のドリフト層及び不純物が高濃度の高濃度層を有する半導体装置において、ｐｎ接合の露出によるリーク電流の増大及び耐圧の劣化を防ぐことである。 - 特許庁

To provide a method for estimating the personal PAH exposure quantity, from the concentration in urine of a PAH metabolite (PAH mono-hydroxy compound) excreted in urine as an exposure index (bio-marker) of PAH_S.例文帳に追加

ＰＡＨ_Ｓの曝露指標（バイオマーカー）として、尿中に排泄されるＰＡＨ代謝物（ＰＡＨモノヒドロキシ体）の尿中濃度から個人のＰＡＨ曝露量を推定する。 - 特許庁

Thus a gas-water separation effect not depending on the output of the pump 3 can be ensured, and a radioactive concentration in the air can be ensured, a radioactive concentration in the air can be maintained at low level to prevent exposure of the personnel.例文帳に追加

これにより、吸引ポンプ３の出力に依らない気水分離効果が確保でき、気中放射能濃度を低レベルに維持して作業員の被ばくを防止できる。 - 特許庁

To provide a hybrid fan blade reformed, by reducing concentration of stress and reducing exposure of a filler metal connection surface.例文帳に追加

応力集中が減少し、また充填材金属接合面の露出が減少した改良されたハイブリッドファンブレードを実現する。 - 特許庁

To enable inert gas which restrains an optical path space from varying in transmittance to be controlled in concentration so as to improve exposure control more in accuracy.例文帳に追加

光路空間透過率の変動を押さえる不活性ガスパージ制御を可能とし、露光量制御精度を更に向上させる。 - 特許庁

These notices specify the radiation exposure doses in the controlled area and the environmental monitoring area, the surface contamination limit, radiation exposure dose limits of radiation workers, radioactivity concentration limits outside of theenvironmental monitoring area, etc.例文帳に追加

これらの告示では、管理区域、周辺監視区域に係る線量、表面密度限度、放射線業務従事者の線量限度、周辺監視区域外の濃度限度などが定められている。 - 経済産業省

A temperature and humidity measuring device 15 measures the temperature and the humidity in an ozone concentration measuring device 10, and an ozone concentration computing device 16 corrects the amount of ozone exposure computed through the temperature and the humidity.例文帳に追加

また、温湿度測定装置１５により、オゾン濃度測定装置１０内の温湿度を計測し、オゾン濃度算出装置１６がその温湿度を用いて計算したオゾン暴露量を補正する。 - 特許庁

The aligner irradiates the certain member with either the exposure light exiting the exit surface and/or the irradiating light in a state that the surface of the certain member comes into contact with the liquid in the liquid immersion space having the concentration of gas which is raised as compared with a concentration when the substrate is irradiated with the exposure light.例文帳に追加

露光装置は、基板に対する露光光の照射時よりも気体濃度が高められた液浸空間の液体と所定部材の表面とが接触された状態で、射出面から射出される露光光及び照射光の少なくとも一方を所定部材に照射する。 - 特許庁

To prevent rise in the concentration of oxygen, due to purge pressure failure and the occurrence of improper substitution, at exposure in the vicinity of the outer periphery of a wafer or a reticle.例文帳に追加

ウエハ又はレチクルの外周近傍部での露光時のパージ圧力低下及び置換不良の発生による酸素濃度の上昇を防ぐ。 - 特許庁

At the same time, the low-k dielectric film maintains a concentration of the porogen material substantially the same before and after exposure to the first ultraviolet radiation pattern.例文帳に追加

このとき同時に、この第一の紫外線照射パターンへの露光の前後で、ポロゲン材料の濃度は、実質的に同一に維持している。 - 特許庁

By this, the exposure rate of the X-ray can be regulated so that the optimum film concentration is respectively obtained in taking photographs at the form positions.例文帳に追加

これにより、上記４箇所の撮影時にそれぞれ最適なフィルム濃度となるようにＸ線の照射量を調節することができる。 - 特許庁

To suppress a decrease in strength of an exposure light between a projection optical system and a photosensitive substrate, and to suppress the nonuniformity of impurity concentration therebetween to the minimum.例文帳に追加

投影光学系と感光性基板間の露光光の強度低下を抑制し、且つ、その濃度分布の不均一性を最低限に抑える。 - 特許庁

A liquid for the immersion exposure process contains a saturated hydrocarbon compound, and has an impurity concentration ≤3.3 mmol/mol in double bond conversion.例文帳に追加

飽和炭化水素化合物を含有し、かつ不純物濃度が二重結合換算で3.3mmol/mol以下である液浸露光プロセス用液体を使用する。 - 特許庁

An adsorption amount in a prescribed concentration in the air and for a prescribed exposure time is actually measured, and an equilibrium adsorption amount is analyzed by molecular simulation.例文帳に追加

所定の気中濃度及び曝露時間における吸着量を実測し、平衡吸着量を分子シミュレーションによって解析する。 - 特許庁

To provide a storage cabinet which stores a reticle or a wafer in an atmosphere in which oxygen concentration is lowered to about 5 ppm in a stage before the reticle or the wafer is transported to an exposure system and delivers the reticle or the wafer to the exposure system without exposing them to the outside air.例文帳に追加

露光装置にレチクルやウエハを搬送する前の段階で、酸素濃度を５ｐｐｍ程度まで低減した雰囲気内でレチクルやウエハを保管し、外気に触れることなく露光装置に受け渡す。 - 特許庁

In a projection exposure of a photo mask pattern of a photo mask on a surface to be exposed by irradiating the photo mask pattern with the light from an exposure light source in a projection optical system, the concentration of an inert purge gas containing a specified quantity of inert gas filled in a space contacting a pellicle film is measured to execute the projection exposure with controlling the concentration of the inert gas.例文帳に追加

露光光源からの光でフォトマスク上のフォトマスクパターンを照射して前記フォトマスクパターンの像を投影光学系により被露光面に投影露光する際、ペリクル膜に接し、所定量の活性ガスを含む不活性ガスからなるパージガスで満たされた空間の前記活性ガスの濃度を測定し、前記活性ガスの濃度を制御しながら投影露光を行う。 - 特許庁

To achieve reduction in operators' exposure in an emergency more than ever through the uptake of much outside air containing a lower concentration of radioactive materials.例文帳に追加

放射性物質の濃度のより小さい外気を多く取り込むことによって、従来以上に非常時の運転員の被曝低減を実現する。 - 特許庁

To provide an electron beam aligner, an exposure method, and a semiconductor device manufacturing method for solving the problem of wring disconnection, and an electric field concentration at a place where the exposed pattern generates misalignment by accurately exposing a pattern to a wafer.例文帳に追加

ウェハにパターンを精度よく露光することができる電子ビーム露光装置、露光方法、及び半導体素子製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device and method capable of reducing the oxygen concentration in the liquid for use in immersion lithography.例文帳に追加

本発明は、液浸露光に用いられる液体の酸素濃度を低減させることができる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To suppress a decrease in strength of an exposure light between a projection optical system and a photosensitive substrate, and to suppress the nonuniformity of impurity concentration therebetween to the minimum.例文帳に追加

投影光学系と感光性基板間の露光光の強度低下を抑制し、且つ、その間の気体の濃度の不均一性を最低限に抑える。 - 特許庁

The exposure of an amphibian to a chemical substance is started when the amphibian has responsiveness to a hormone and the concentration of the hormone which is endogenous is at a low value.例文帳に追加

ホルモンに対する応答性を有し、かつ内因性の前記ホルモン濃度が低値である時期に、両生類への化学物質の暴露を開始する。 - 特許庁

An exposure dose arithmetic part 15 calculates the radioactive nuclide leakage ratio on the basis of the liquid phase nuclide concentration and calculates the exposure dose on the basis of the calculated radioactive nuclide leakage ratio and a radioactive nuclide dose conversion coefficient.例文帳に追加

被ばく線量演算部１５は、液層中各種濃度に基づいて放射性核種漏出率を演算し、演算した放射性核種漏出率と放射性核種線量換算係数とに基づいて、被ばく線量を演算する。 - 特許庁

To provide a concentration distribution mask that performs exposure to correct distortion of an optical imaging pattern due to an optical interference effect when a microlens array having a lens pitch of 1 μm or less is formed on a substrate of an imaging device using the concentration distribution mask.例文帳に追加

撮像デバイスの基板上にレンズのピッチが１μｍ以下のマイクロレンズアレイを、濃度分布マスクを用いて形成する際に、光の干渉効果による光の結像パターンの歪みを補正した露光をする濃度分布マスクを得る。 - 特許庁

To improve the quality of an image by solving the difference in concentration generated in one original in an image read device for reading one original by intermittently operating exposure scanning.例文帳に追加

間欠的に露光走査を行なって１枚の原稿を読み取る画像読取装置において、１枚の原稿内に生じる濃度差を解消し、画質の向上を図ること。 - 特許庁

To reduce an X-ray exposure dose as much as possible in measuring the timing for injecting a contrast medium of a required concentration into a desired region of a subject in the contrast examination.例文帳に追加

造影検査において、被検体の所望の部位に造影剤が所望の濃度注入されるタイミングを計る際に、X線被ばく線量を可能な限り低減させる。 - 特許庁

To provide a laser-type concentration measurement apparatus for released radioactive materials which can simplify a system and a sampling device, and reduce possibility of exposure to radiation by eliminating off-line working.例文帳に追加

システムを簡素化でき、サンプリング装置を簡素化でき、オフライン作業がなくなり被爆の可能性が低いレーザ式放出放射性物質濃度測定装置を得る。 - 特許庁

The invention provides an apparatus to obtain zoned real-time gas concentration and location information from a plurality of gas detectors and provide compliance information along with exposure trends and warning information.例文帳に追加

複数のガス検出器からゾーニングされたリアルタイムのガス濃度及び位置情報を取得し、コンプライアンス情報を暴露傾向及び警告情報とともに提供する装置。 - 特許庁

To prevent fracture of a mask due to local concentration of stress produced in the boundary region between a supporting body and a membrane part when the membrane part of a proximity field exposure photomask bends.例文帳に追加

メンブレン部分が撓む際に支持体とメンブレン部分との境界部分にできる応力が、局所的に集中してマスクが破壊されることを防止する。 - 特許庁

In the image forming device where a toner image is formed by carrying out a repetition of developing by high concentration toner and developing by low concentration toner on a latent image formed on an image carrier by carrying out electrification and image exposure, the image forming device has a relationship between glossiness GH of the toner image by the high concentration toner and glossiness GL of the toner image by the low concentration toner on transfer material is GL>GH.例文帳に追加

像形成体上に帯電、像露光を行って形成した潜像を、濃トナーを用いての現像と淡トナーを用いての現像とを繰り返し、トナー像を形成する画像形成装置において、転写材上の濃トナーによるトナー像の光沢度Ｇ_Hと、淡トナーによるトナー像の光沢度Ｇ_Lとの間では、 Ｇ_L＞Ｇ_H の関係にあることを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁

To provide a colored curable composition for a color filter capable of maintaining line width sensitivity and discrimination (alkali dissolution rate difference) between an exposure part and an un-exposure part and forming a fine pattern having high rectangularity in a pigment concentration heightened composition.例文帳に追加

顔料濃度を高めた組成において、線幅感度と露光部及び未露光部間のディスクリミネーション（アルカリ溶解速度差）を保ち、微細で矩形性の高いパターンを形成することができるカラーフィルタ用着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide powder-scattering exposure, which has a uniform distribution of powder concentration that enables to conduct a powder-scattering exposure test with high reliability in test chambers with various sizes, whereby a subject is not exposed to unnatural wind.例文帳に追加

様々な大きさの試験用チャンバーにおいて、信頼性の高い粉体飛散曝露試験が可能となる程度の一様な粉体の濃度分布を有し、かつ、被験者に不自然な風が当るようなことのない粉体飛散曝露を提供する。 - 特許庁

To provide a flammable gas sensor for measuring the concentration of a flammable gas with high measurement accuracy where the difference in sensor output before and after exposure to rich atmosphere that has a much flammable gas content is small and the decrease in sensor output after the exposure can be inhibited.例文帳に追加

リッチ（可燃ガス含有量の多い）雰囲気への曝露前後におけるセンサ出力の差が小さく、この曝露後におけるセンサ出力の低下が抑制され、高い測定精度で可燃性ガスの濃度測定を行うことができる可燃性ガスセンサを提供する。 - 特許庁

After the immersion exposure process is performed, the concentration of photoacid in the acid compensating layer generated by the photoacid generator included in the acid compensating layer is higher than the concentration of photoacid in the photo resist layer generated by the photoacid generator included in the photo resist layer.例文帳に追加

前記液浸露光工程が行われた後、前記酸補償層に含まれる光酸発生剤により生じた前記酸補償層の光酸濃度は、前記フォトレジスト層に含まれる光酸発生剤により生じた前記フォトレジスト層の光酸濃度より高い。 - 特許庁

Compute the 1st evaluation value by the Assessment Criteria of Working Environment (Ministry of Labor, Notification No.79 in 1988) from the concentration of indium in air measured in accordance with the A-measurement and compare it with target value and acceptable exposure concentration limit.例文帳に追加

(1)のＡ測定に準じた測定による空気中のインジウムの濃度について、作業環境評価基準(昭和63年労働省告示第79号)に準じて、第１評価値を算出し、これにより目標濃度、ばく露が許容される濃度との比較を行うこと。 - 厚生労働省

The colored curable composition has a pigment concentration in a range of 45-60 mass% of a solid content of the composition, and a thermal deformation temperature of the composition after exposure is in a range of 100-200°C.例文帳に追加

固形分に対する顔料濃度が、４５〜６０質量％の範囲で、露光後の熱変形温度が、１００〜２００℃の範囲である着色硬化性組成物によって達成される。 - 特許庁

To provide an analysis method of molecular contaminants, which is capable of deriving a relational expression between an exposure time and an adsorption amount under a condition of a low concentration of molecular contaminants in the air.例文帳に追加

分子状汚染物質の低気中濃度条件下における曝露時間と吸着量との関係式を導き出すことができる、分子状汚染物質の解析方法とする。 - 特許庁

The present invention relates to a method and an apparatus for preparing a relief printing form in an environment, having a controlled oxygen concentration during exposure to chemical rays.例文帳に追加

より詳細には、この発明は、化学線に対する露光の間、調整された酸素濃度を有する環境内において凸版フォームを作製するための方法および装置を説明する。 - 特許庁