「formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a piezoelectric thin film resonator by which manufacturing process regarding formation of a frequency adjustment layer is simplified and oxidation of an upper electrode is prevented.例文帳に追加

周波数調整層の形成に関する製造工程の簡略化を図ると共に、上部電極の酸化を防止することができる圧電薄膜共振器の製造方法を提供する。 - 特許庁

First, in a diffusion prevention film formation process, a diffusion prevention film 7 for preventing diffusion of semiconductor impurities is formed only on the side face of a semiconductor wafer 2 in its entirety.例文帳に追加

まず、拡散防止膜形成工程で、半導体不純物の拡散を防止する拡散防止膜７を、半導体ウエハ２の側面にのみ、その側面の全周にわたって形成する。 - 特許庁

To provide an image formation apparatus capable of suppressing an increase in the number of components, and positioning both a main reference part and a sub-reference part of a process cartridge on the apparatus body without a backlash.例文帳に追加

部品点数の増加を抑えて、プロセスカートリッジの主基準部および従基準部ともに、ガタ無く装置本体に位置決めすることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In a wafer-temperature raising process until film formation, the temperature of a wafer is raised in a non-oxidative atmosphere 4, and gas containing oxidative gas and raw material gas 5 are consecutively made to flow, to form a desired film 6.例文帳に追加

成膜までのウェハ昇温工程において、非酸化性雰囲気４中でウェハを昇温し、引き続き酸化性ガスを含むガスと原料ガス５を流し、所望の膜６を成膜する。 - 特許庁

A BCA manufacturing process can be reduced by using a pit formation method which is similar to a user data area.例文帳に追加

しかし、このような方法では、ディスク製造工程にＢＣＡ形成用に個別の工程を設けざるを得ず、ディスクの生産工数、更には製造コストの観点で、ディスク生産者の負荷が大きい。 - 特許庁

The phosphor material is suited for an EL element because of less variation of characteristic since there is no defect formation process in which stress is applied externally to form a defect inside of a phosphor material.例文帳に追加

このような蛍光体材料は、外部から応力を付与して内部に欠陥をつくる欠陥生成工程がないため、特性ばらつきが少なく、ＥＬ素子に好適である。 - 特許庁

To provide a laminate structure which can reduce defects while preventing the failure in forming of an insulating film or the formation of a vacancy, a process for manufacturing the laminate structure as well as a display device.例文帳に追加

絶縁膜の成膜不良あるいは空孔などを防止して欠陥を低減することができる積層構造およびその製造方法、ならびに表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a source gas feeder which can correctly control the amount of the source gas to be fed to a vapor deposition chamber upon thin film formation by a chemical vapor deposition process.例文帳に追加

化学気相蒸着法による薄膜形成の際に、蒸着チャンバーへ供給するソースガスの量を正確に制御することができるソースガス供給装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition suitable for the formation of an interlayer insulating film having high heat resistance, high solvent resistance, high transmittance and a low dielectric constant, and having a large development margin that allows formation of a favorable pattern even when a developing time exceeds the optimal developing time in a developing process.例文帳に追加

高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率及び低誘電率の層間絶縁膜の形成に好適であり、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できる大きな現像マージンを有するポジ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

When a core 7 of an optical waveguide W is formed on a surface of an electric circuit board E, the core 7 and optical element positioning alignment marks A are simultaneously formed from a photosensitive resin layer including a core 7 formation region and an alignment mark A formation region by a single photolithography process.例文帳に追加

電気回路基板Ｅの表面に光導波路Ｗのコア７を形成する際に、コア７形成領域とアライメントマークＡ形成領域とをもつ感光性樹脂層から、１回のフォトリソグラフィ法により、コア７と同時に、光学素子位置決め用のアライメントマークＡを形成する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for suppressing vibration and deviation in a position of a process cartridge relative to an apparatus body even when a developer carrier is separated from a photoreceptor, thereby preventing degradation in image formation accuracy and shortening correction time during image formation.例文帳に追加

現像剤担持体を感光体に対して離間させても、プロセスカートリッジの装置本体に対する位置ずれや振動を抑制することができ、画像形成精度の低下を防止し、画像形成時の補正時間の短縮を図ることのできる、画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

Execution of non-contact inspection in place of a conventional continuity test can eliminate contact on the electrode surface of the display portion and shorten inspection process for formation of the electrode, making it possible to inspect faults of the electrode developed in processes after the electrode formation to improve the quality.例文帳に追加

導通検査に代えて非接触検査を行うことにより、表示部の電極表面に接触せずに済み、また電極形成時の検査工程を短縮することができ、電極形成以降の工程において発生する電極欠陥の検査が可能となり、品質の向上が図れる。 - 特許庁

A process controller 11 in a film forming apparatus 1 produces a calibration curve of a film formation rate which shows relation between: the difference between (Ii/Ie)_0 when only delivery gas is conducted to an ion gauge 10 and (Ii/Ie) when organic material and delivery gas are conducted to the same; and a film formation rate D/R.例文帳に追加

成膜装置１のプロセスコントローラ１１は、イオンゲージ１０に搬送ガスのみを通流させた場合の（Ｉｉ／Ｉｅ）_0 と、有機材料及び搬送ガスを通流させた場合の（Ｉｉ／Ｉｅ）との差と、成膜速度Ｄ／Ｒとの関係を示す成膜速度検量線を作成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method capable of preventing a semiconductor substrate from being cracked due to press-contact stress for the formation of bumps, improving product yield in a bump formation process, corresponding to fineness, and reducing costs.例文帳に追加

バンプを形成する際の圧着のストレスによる半導体基板の割れを防止することができ、その結果、バンプ形成工程における製品歩留まりを向上させることができ、また、微細化に対応することができ、しかも低コストを可能とする半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises a film formation process for carrying out film formation treatment by exhausting a vacuum tank while supplying reaction gas into the vacuum tank by a turbo-molecular pump and setting a cryocooling panel connected to the turbo-molecular pump at a temperature wherein reaction gas hardly liquifies.例文帳に追加

本発明では、ターボ分子ポンプによって、前記真空槽内に反応ガスを供給しつつ真空槽内を排気し、前記ターボ分子ポンプに接続されるクライオ冷却パネルを反応ガスが液化しにくい温度に設定することで成膜処理を行う成膜工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To enhance uniformity of film thickness of an organic thin film obtained in forming the organic thin film by a process of spraying and applying an application liquid for organic thin film formation in an organic thin film formation region of an application object; and to enhance accuracy of the position and shape of an end of the organic thin film.例文帳に追加

被塗布物の有機薄膜形成領域に有機薄膜形成用塗布液をスプレー塗布する工程により有機薄膜を形成する際に、得られる有機薄膜の膜厚の均一性を高めるとともに、有機薄膜端部の位置・形状の精度を高めることを可能とする。 - 特許庁

A formation such as an organic layer on each glass substrate is disposed on its inside surface; two of the glass substrates are stuck to each other while sealing the circumference of the formation; thereafter the glass substrates are polished by the etching solution; and then the glass substrates are thinned by a process for opening the circumference sealing.例文帳に追加

ガラス基板上の有機層等の形成物が内面に配置されるとともに、この形成物の外周を封止しつつ２枚のガラス基板を貼り合せた後、ガラス基板をエッチング液で研磨し、次いで、外周封止を開封する工程によりガラス基板を薄型化する。 - 特許庁

This image forming apparatus without making a user feel uncomfortable such as unnecessary interruption of the image formation and delay of the start of the next image formation by determining propriety of execution of the discharge process according to the replenished quantity of the toner and the carrier to the developer is provided.例文帳に追加

現像器へのトナー及びキャリアの補給量に応じて排出工程の実行の可否を決定することで、画像形成を不要に中断したり次の画像形成開始が遅れるといったユーザに不快な思いをさせることのない画像形成装置を提供することができる。 - 特許庁

A second frame-like recess 100c for the formation of liquid crystal sealing which surrounds the region where the cylindrical recesses 100b are formed, and a first frame-like recess 100d surrounding the second frame-like recess 100c for the formation of the sealing material between substrates are formed in the same process to obtain a plastic master plate 100 as an intaglio printing plate.例文帳に追加

また、円柱形凹部１００ｂの形成領域を囲む液晶封止材成型用の第２枠状凹部１００ｃと、この第２枠状凹部を囲む基板間シール材成型用の第１枠状凹部１００ｄとを同様に形成して、凹版としてのプラスチック版１００を得る。 - 特許庁

In a method for treating a plastic substrate pattern-formed on a surface by laser in order to form a core pattern suitable for later metallization, after pattern formation by laser, a substrate is made to come into contact with a process liquid suitable for removing undesired deposition that has occurred during the period of pattern formation.例文帳に追加

後続の金属化に適した核パターンを形成するためにレーザで表面にパターン形成されたプラスチック基体を処理する方法において、レーザによるパターン形成後、パターン形成中に発生した所望されない沈殿物を除去するのに適したプロセス溶液に基体を接触させる。 - 特許庁

To provide a machining work method of a cylindrical substrate capable of eliminating generation of chattering vibration and deflection and providing the cylindrical substrate in high precision without using a special device and a special process, a machining work device of the cylindrical substrate, a photosensitive body, an image formation device and an image formation method.例文帳に追加

特別な装置や工程を用いることなく、びびり振動の発生、及び振れを解消でき、高精度な円筒状基体が得られる円筒状基体の旋削加工方法及び円筒状基体の旋削加工装置、並びに感光体、画像形成装置、及び画像形成方法の提供。 - 特許庁

To realize formation of a stable image and white background and reduction in replenishment using a silver halide color photosensitive material, to obtain a stable image in continuous development, and also to provide a direct digital color proof using an FM screen process while achieving formation of an image whose color reproducibility is close to that obtained by printing.例文帳に追加

本発明の目的は、ハロゲン化銀カラー感光材料を用いて安定な画像及び白地、低補充処理、連続現像処理時の安定化、色再現性が印刷に近似した画像の形成を達成したＦＭスクリーン法を用いたダイレクトデジタルカラープルーフを提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for producing the salt of an amino acid ester and an acid without formation of the by-product of N-alkyl-amino acid ester and an acid that cannot avoid the formation of the by-product through the conventional process in which the amino acid, an acid and an alcohol are brought into contact with one another at once.例文帳に追加

アミノ酸、酸、及びアルコールを一度に接触させる従来の製法ではその副生を避けることができず、しかもその除去が困難である「Ｎ−アルキル−アミノ酸エステルと酸との塩」を副生することなく、アミノ酸エステルと酸との塩を製造する方法を提供する。 - 特許庁

A photoresist film formation process is implemented with a formation device 71 that includes a sprayer 73 for spraying a photoresist material by generating an air flow toward a metal film 43 on a wafer S and a plurality of spacers 74 arranged between a work stage 72 and the wafer S.例文帳に追加

フォトレジスト膜形成工程は、ウエハＳ上の金属膜４３に向けて気流を発生させてフォトレジスト材を噴霧する噴霧器７３と、ワークステージ７２及びウエハＳ間に配置された複数のスペーサ７４と、、を有する形成装置７１を用いて行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for polymerizing a liquid crystalline resin, with which a uniform slurry is formed, complex formation and sublimation of hydroquinone caused by abrupt heat generation in a process of polymerization and rising temperature following the complex formation are controlled and a polymerization rate is increased.例文帳に追加

均質なスラリーを形成することができ、コンプレックス生成とそれに伴う重合昇温過程での急激な発熱を伴うヒドロキノンの昇華を抑制し、かつ重合速度を増大することができる液晶性樹脂の重合方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To allow an electrode short circuit to occur by cutting the surface of an HSG silicon layer together with a natural oxidation film and producing HSG grain peeling due to lack of mechanical strength of a lower electrode when a wet etching process is performed before formation of a dielectric film in a manufacturing method of a capacitor utilizing HSG formation.例文帳に追加

ＨＳＧ形成を利用したキャパシタの製造方法で、誘電体薄膜の形成前にウェットエッチング工程を行うと自然酸化膜と一緒にＨＳＧシリコン層の表面も削られて、下部電極の機械的強度不足によりＨＳＧ粒剥がれが発生して電極短絡が起こる。 - 特許庁

The image forming apparatus comprises a developer refreshing process for performing an operation to develop the developer from developer carriers 41b to 44b onto image carriers 11 to 14 at non-image formation, and the image carriers 11 to 14 are made away from the recording material carrier 8 at the refreshing process.例文帳に追加

非画像形成時において、現像剤を現像剤担持体４１ｂ〜４４ｂから像担持体１１〜１４上へと現像する動作を行わせる現像剤リフレッシュ工程を備え、リフレッシュ工程時には、像担持体１１〜１４と記録材担持体８とを離間させる。 - 特許庁

Then the reformation of the naturally oxidized film and the formation of a thin film are performed on the dried substrate in a thin film forming device 2 by projecting ultraviolet rays upon the substrate (process A3), and a gate oxide film is formed by a heat treatment in a manufacturing device 3 (process 4).例文帳に追加

乾燥が終了した半導体基板に対して、薄膜形成装置２内で紫外線を照射して自然酸化膜の改質および薄膜の形成（プロセスＡ３）を行い、製造装置３内で熱処理を施し（プロセスＡ４）、ゲート酸化膜を形成する。 - 特許庁

To provide an abrasive that is used for super-precision polishing in the planarization process of a substrate surface in manufacturing semiconductor devices and the formation process of especially shallow trench separation, increasing the polishing speed ratio of a silicon oxide film to a silicon nitride film, and having little contamination of alkali metal.例文帳に追加

半導体デバイス製造時の基板表面の平坦化工程、特にシャロートレンチ分離の形成工程の超精密研磨で使用し、酸化珪素膜と窒化珪素膜との研磨速度比を大きくし、アルカリ金属の汚染の少ない研磨剤を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming drawing data capable of shortening the time for formation when forming the drawing data constituting the patterns of an exposure mask used in a process for manufacturing semiconductor devices and the patterns for direct exposure in the process for manufacturing the semiconductor devices.例文帳に追加

半導体装置の製造工程において使用する露光マスクのパターンや半導体装置の製造工程における直接露光用のパターンなどとなる描画データを作成するときに、作成時間を短縮できる描画データの作成方法を提供する。 - 特許庁

The etching method includes: a layer formation process for forming an etching gas layer including an etching material activated chemically by irradiation of light on the body to be treated; and a light irradiation process for applying the light to an interface between the body to be treated and the etching gas layer.例文帳に追加

光の照射を受けて化学的に活性化するエッチング材料を含んだエッチングガス層を被処理体上に形成する層形成工程と、前記被処理体と前記エッチングガス層との界面に前記光を照射する光照射工程とを含む。 - 特許庁

The forming method of a nitride semiconductor has a process for performing selective transverse direction growth for a second GaN layer 5 on an upper surface of a first GaN layer 3, and a process for forming a quantum dot 6 on the second GaN layer 5 which is subjected to selective transverse direction formation.例文帳に追加

この窒化物系半導体の形成方法は、第１ＧａＮ層３の上面上に、第２ＧａＮ層５を選択横方向成長させる工程と、選択横方向成長された第２ＧａＮ層５上に、量子ドット６を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a conductive layer-laminated material which abates or eliminates the adverse effects to be caused by the formation of a brittle alloy layer in a joint interface following a high temperature process or a significant residual stress resulting from a high rolling rate joining process and the parts using the conductive layer-laminated material.例文帳に追加

高温プロセスに伴う接合界面での脆弱合金層の形成や、高圧延率接合に伴う大きな残留応力などの悪影響を軽減もしくは排除しうる導電層積層材および導電層積層材を用いた部品の提供。 - 特許庁

To provide a semiconductor device allowing for preventing an unevenness of resist coating and improving a focus margin in a photoengraving process, in a process of manufacturing the semiconductor device having a field plate structure and a RESURF formation structure; and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、フィールドプレート構造とリサーフ形成構造とを有する半導体装置の製造プロセスにおいて、レジスト塗布ムラ発生を防止し、かつ写真製版時のフォーカスマージン向上を図ることができる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which suppresses the warpage of a semiconductor board while preventing damage to the semiconductor element formation surface of the board in a semiconductor element forming process to eliminate troubles in a semiconductor element manufacturing process.例文帳に追加

半導体素子形成工程において、半導体素子の形成される面へのダメージを防止しながら、半導体基板の反りを抑制し、半導体素子の製造工程における不具合を解消することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of semiconductor device for controlling etching of the front surface of an element isolating film in the etching process of a silicon oxide film after element isolating film formation in the case where the element isolating film has a structure embedded within a semiconductor substrate.例文帳に追加

素子分離膜が半導体基板に埋め込まれた構造である場合、素子分離膜を形成した後の酸化シリコン膜のエッチング工程において、素子分離膜の表面がエッチングされることを抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Then the silicon compound is etched at a high speed, under a condition suitable for the formation of sidewalls 7 in a first etching process, and when a etching time measured in advance has elapsed immediately before the silicon surface of the compound is exposed, the etching of the compound 16 is switched to a second etching process.例文帳に追加

このシリコン化合物を、第１のエッチング処理工程で、高速でサイドウォール１７の形成に適した条件でエッチング処理し、シリコン面が露出する直前で、あらかじめ測定したエッチング時間が経過すると第２のエッチング処理工程に切り換える。 - 特許庁

For example, the use of the local environmental cell 10 permits welding and formation of a low oxide bond coat during the welding process, thereby eliminating the need for placing the substrate subsequent to a welding process in a separate spray cell to deposit the bond coating.例文帳に追加

例えば、この局所環境保護セル１０を使用することにより、溶融プロセス中に溶融と低酸化物ボンディングコートの形成とが可能になり、そのため、溶融プロセスの後にボンディングコートを設置するために基材を別個のスプレーセルに配置する必要がなくなる。 - 特許庁

To provide down-sizing of a device and simplification of a manufacturing process by continuously film-forming with an identical mask in formation of total five layers from a lower electrode current collector layer to an upper electrode current collector layer in the manufacturing process of a thin film solid lithium secondary battery.例文帳に追加

薄膜固体リチウム二次電池製造工程中の、下部電極集電体層から上部電極集電体層までの計５層の形成において、同一マスクで連続的に成膜することにより、装置の小型化及び製造工程の簡素化を提供する。 - 特許庁

The plate object for nameplate formation of such configuration can be continuously produced by gluing together the printed metallic gloss film 3 to one surface of the transparent substrate 1 by a pressure roller in a production line for forming the transparent substrate 1 by an extrusion process or continuous casting process.例文帳に追加

かかる構成の銘板形成用板体は、押出し法若しくは連続キャスト法で透明基板１を形成する生産ラインにて、透明基板１の一面に印刷付金属光沢フィルム３を圧着ローラーにて貼り合わせて連続的に製造することができる。 - 特許庁

To provide a technique which can realize reduction of a chip area, prevent contact troubles between a pad and evaluation equipment in an inspection process and readily manufacture a means for electrically connecting a surface side conductor to a rear pad in an integrated circuit formation process.例文帳に追加

チップ面積の縮小を図り、また、検査工程におけるパッドと評価機器との接触不具合を防止し、さらに、集積回路形成過程において表面側導電体を裏面パッドに電気的に接続する手段を容易に作成可能な技術を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor substrate related to a first aspect includes: a chromium layer film formation process for film-forming a chromium layer on a base substrate at not less than 50°C temperature; and a nitriding process for nitriding the chromium layer for forming a chromium nitride film.例文帳に追加

本発明の第１側面に係る半導体基板の製造方法は、下地基板の上にクロム層を５０℃以上の温度で成膜するクロム層成膜工程と、前記クロム層を窒化してクロム窒化物膜にする窒化工程とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an elastomer stamp that is adaptive to a thin film formation process of high productivity and specifications thereof due to diversification of solvents used for ink and addition of a heating mechanism for a printing process using the elastomer stamp such as a μCP method, a contact casting method, etc.例文帳に追加

μCP法やコンタクトキャスト法等のエラストマースタンプを使用した印刷プロセスにおいて、インクに使用される溶剤の多様化と加熱機構を付加することによる生産性の高い薄膜形成プロセス及びその仕様に耐えうるエラストマースタンプを提供する。 - 特許庁

To provide a rubber-reinforcing fiber excellent in adhesion with various rubber compounds and generating less secondary process troubles such as the formation of a treating agent scum in the rubber article-producing process, a method for producing the same and a rubber article obtained by using such fiber.例文帳に追加

種々のゴムコンパウンドとの接着性に優れ、かつゴム物品製造工程での処理剤カスの発生等の副次的な工程トラブルの発生が少ないゴム補強用繊維およびその製造方法、ならびに該繊維を使用したゴム物品を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a transparent conductive carbon film using a crystalline carbon film by a graphene film at a lower temperature in a shorter time, in order to solve the problem of a high-temperature process of graphene film formation by thermal CVD and the problem that a process time is long.例文帳に追加

熱ＣＶＤによるグラフェン膜成膜の高温プロセス、かつプロセス時間が長いという問題を解決すべく、より低温で短時間にグラフェン膜による結晶性炭素膜を用いた透明導電性炭素膜を形成する手法を提供する。 - 特許庁