「formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a corrosion resistant rare earth based permanent magnet in which the formation of white rust is suppressed while utilizing the sacrificial protection action of potentially base zinc, and to provide its producing process.例文帳に追加

電位的に卑な亜鉛の犠牲防食作用を利用しつつも、白錆発生が抑制された耐食性希土類系永久磁石およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

With the heat at this process, impurities such as oil, carbon, etc., attached to that region 20' of the tube peripheral surface 18a which is planned for formation of shading film will be removed effectively.例文帳に追加

この加熱処理の際の熱により、シュラウドチューブ１８の外周面１８ａの遮光膜形成予定領域２０´ に付着した油分やカーボン等の不純物を効果的に除去する。 - 特許庁

To provide a grinding process for generating a mineral dispersion with a low initial viscosity, a high solid content and minimum viscosity increase with lapse of time (that is, minimum gel formation).例文帳に追加

低い初期粘度、高い固体含有量および時間の経過による最小の粘度増加（すなわち、最小のゲル形成）の鉱物分散物を生じさせる粉砕方法を提供する。 - 特許庁

The anti-diffusion region 22 is provided to have a thickness not smaller than a diffusion distance of the P type impurity from the collector region 11 toward the buffer region 12 in an element formation process.例文帳に追加

拡散防止領域２２は、素子形成プロセスにおいてコレクタ領域１１からバッファ領域１２側へＰ型不純物が拡散する距離以上の厚みで設けられている。 - 特許庁

To provide a production process of a light transmitting electromagnetic wave shielding window material having a mesh metal conductive layer formed by soluble dot formation method, in which an anti-glare layer can be provided on the substrate side of the metal layer.例文帳に追加

可溶性ドット形成法を使用したメッシュ状の金属導電層を有し、該金属層の基板側に防眩層を設けることができる製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve an yield in a bump formation process, definitely array conductive balls by chucking to transfer them to a predetermined position, and form bumps at high productivity.例文帳に追加

バンプ形成工程における歩留を向上させ、導電性ボールを確実に吸着配列して所定の位置に転写し、高い生産性でバンプを形成することができるようにする。 - 特許庁

A movable plate material for forming the movable plate 32 is arranged while being in contact to a portion facing a movable space 34R of a housing member 34, so as to perform a formation process of the movable plate 32.例文帳に追加

収納部材３４の可動空間３４Ｒに面する一部に可動板３２を形成する可動板材料を接触させつつ配置して、可動板３２の形成処理を行う。 - 特許庁

When image formation is carried out for a job in which a stapling process is set, sheet of transfer paper are shifted to the stacking position of a post-processing device from the first page of this job (step S10).例文帳に追加

ステープル処理が設定されたジョブについて画像形成が行われると、このジョブに含まれる最初のページから転写紙を後処理装置のスタック位置にシフトさせる（ステップＳ１０）。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus achieving the energy saving of the light emitting part of a sensor without causing a failure that the sensor misses a mark even if a process speed is changed during image formation.例文帳に追加

本発明は、画像形成中にプロセス速度が切り替わってもセンサがマークを見失うことなく、センサの発光部の省エネを実現することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide the method of manufacturing an electronic component, by which the component is easily handled and a crack and a break in the component, the adhesion of dirt to the component and the like are hardly generated in a continuous manufacturing process extending from a dicing of a substrate to a film formation.例文帳に追加

基板のダイシングから成膜の一連の製造工程において、取り扱いが容易でワレ、カケ、汚れ付着などの生じにくい電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To simplify a manufacturing process of a capacitor, improve reliability, and increase withstand voltage of the capacitor by forming an anode having a coating layer serving as a good dielectric layer, and improving the anode of a solid electrolytic capacitor and its formation method.例文帳に追加

固体電解コンデンサの陽極体、およびその形成方法を改良することで、コンデンサの製造工程の簡略化、信頼性の向上を図り、コンデンサ耐電圧をあげる。 - 特許庁

To provide a method for supporting the formation of a process chart in line with an actual state from a building model formed by associating building attributes with building data composed of three-dimensional CAD data.例文帳に追加

３次元ＣＡＤデータから成る建物データへ建物属性を関連付けて作成した建物モデルから実態に即した工程表の作成を支援する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a both-sided flexible circuit board which can process an insulating base material by a resin etching method and suitably form a hole for conduction needed for via hole formation.例文帳に追加

樹脂エッチング手法で絶縁べ−ス材の加工とビアホ−ル形成のために必要な導通用孔を好適に形成できる両面可撓性回路基板の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of thin film formation substrate by which a substrate having a surface on which a fine pattern is formed with high precision can be obtained, with high degree of freedom in process conditions and material selection.例文帳に追加

表面に高精度で微細パターンが形成された基板を得ることができ、かつプロセス条件や材料選択の自由度の大きな薄膜形成基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation process, a liquid droplet discharge apparatus and a circuit module by which drying efficiency of a liquid droplet is improved and thermal damage of a substrate and a pattern is alleviated.例文帳に追加

液滴の乾燥効率を向上させるとともに、基板やパターンの熱的損傷を軽減させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び回路モジュールを提供する。 - 特許庁

To provide an elastic roller which achieves flexibility and favorably suppresses bleeding, whose temperature dependency of hardness is low, and image formation is excellent, an electrophotographic process cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加

柔軟性を達成し、ブリードの抑制が良好で、硬度の温度依存性が小さく、画像形成に優れた弾性ローラ、電子写真プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To strike a balance between the heavily doped diffusion of an n-type dopant into a photoelectric conversion layer and the formation of a buffer layer with an optimal thickness, and also to simplify the manufacturing process and reduce the equipment cost.例文帳に追加

光電変換層へのｎ型ドーパントの高濃度拡散と最適な膜厚のバッファ層の形成とを両立させ、かつ製造工程および設備コストの簡素化を図る。 - 特許庁

After the lamination of a polycrystalline ITO layer 20a and the formation of a resist mask by a photolithography process, the polycrystalline ITO layer 20a is etched using, for example, a hydrochloric acid-based etchant.例文帳に追加

多結晶ＩＴＯ層２０ａを積層し、フォトリソグラフ工程によりレジストマスクを形成した後、多結晶ＩＴＯ層２０ａを例えば塩酸系のエッチング液を用いてエッチングする。 - 特許庁

In the early stage of the second etching process, the initial groove mask 54 covers a portion of the upper surface of the bottom formation layer 42 in a region where the second portion is scheduled to be formed.例文帳に追加

第２のエッチング工程の当初は、第２の部分が形成される予定の領域における底部形成層４２の上面の一部が初期溝マスク５４によって覆われている。 - 特許庁

To solve the problem of difficulty in control of the thickness reproducibility of a metal oxide film due to the influence by surface conditions of a substrate in the formation of the metal oxide film on the substrate by an open-air CVD process.例文帳に追加

金属酸化物膜を大気開放型CVD法により基材に形成する際に、基材の表面状態の影響を受け、金属酸化膜厚や再現性の制御が困難である。 - 特許庁

Then, the void formation material in the insulating film 3 is decomposed and removed in a thermal process, so that a hole A is formed in the insulating film 3 to provide a porous insulating film 3A.例文帳に追加

その後、熱処理によって絶縁膜３中の空孔形成材料を分解除去することにより、絶縁膜３中に孔Ａを形成して多孔質絶縁膜３Ａとする。 - 特許庁

The method for inhibiting formation of flock in a packaged tea beverage includes addition and dissolution of effective amount of aluminum in an arbitrary stage of the production process.例文帳に追加

本発明は、容器詰め茶飲料のフロック発生抑制方法であり、その特徴は、製造工程のいずれかの段階で有効量のアルミニウムを添加して溶解せしめることである。 - 特許庁

To provide a transistor manufacturing method of a semiconductor memory element which can reduce the difficulty of a manufacturing process by restraining generation of void in formation of a low resistance gate electrode.例文帳に追加

低抵抗のゲート電極形成時にボイドの発生を抑制し、製造工程の難易度を減少させることができる半導体メモリ素子のトランジスタ製造方法を提供すること。 - 特許庁

Further, after formation of a mat through the use of a 50-50 mixture of PP resin fibers (a) and jute fibers (c), a thermoforming fiber board 100 with a low amount of mass weight is formed through a pressing process.例文帳に追加

また、ＰＰ樹脂繊維ａとジュート繊維ｃとをほぼ同等量混合してマット状に成形した後、プレス工程を経て低目付量の熱成形用繊維板１００を形成する。 - 特許庁

To realize selective film formation of a sealing film cheaply without adding an excessive component and an excessive process in an organic EL device which has a sealing film for protecting a luminescence part.例文帳に追加

発光部を保護するための封止膜を有する有機ＥＬ素子において、封止膜の選択成膜を、余分な部材や工程を追加することなく安価に実現できるようにする。 - 特許庁

The formation process of such conglomerates C involves subjecting thermoplastic organic fiber OF and wood chips FL or wood fiber FL' to rotary agitation/mixing prior to preparation of the raw material mixture.例文帳に追加

このような集合体Ｃは熱可塑性有機繊維ＯＦと木片ＦＬまたは木質繊維ＦＬ’とを原料混合物調製に先立って回転攪拌混合することによって生成される。 - 特許庁

A high resistance coat film is formed in the magnetic-particles surface for the rare earth permanent magnet by using coat film formation process liquid for a high resistance having the film thickness of sub μm-nm.例文帳に追加

上記課題を解決するために、希土類磁石用磁粉表面にサブμｍ〜ｎｍの膜厚を有する高抵抗コート膜形成処理液による高抵抗コート膜を形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing method of enabling rework by causing no damage on the lower layer in the SOD film formation process of a semiconductor manufacturing apparatus, and to provide the semiconductor manufacturing device.例文帳に追加

半導体装置のＳＯＤ膜形成工程において、下層にダメージを生じることなくリワークを可能とする半導体製造方法および半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, there is no risk of nests produced as spots without film formation due to the edge curls 30, and, the film will not be easily peeled off, even if a dielectric layer is formed in a thin-film process.例文帳に追加

そのため、エッジカール３０に起因する成膜されない箇所である巣を生じることもなく、薄膜プロセスで誘電体層を形成しても容易に剥がれることはなくなる。 - 特許庁

To realize formation of a fine pattern or production of a thin plate shaped pattern by a simple process without using a costly photomask, when forming the fine pattern on a substrate or producing the thin plate shaped pattern structure.例文帳に追加

基体上に微細パターン形成し、あるいは薄い板状パターン構造を製作する際に、高価なフォトマスクを使用せずに簡単なプロセスでそれらの製作を実現する。 - 特許庁

To provide a method and device by which a high-quality crystalline tin film containing large-diameter crystal grains and having a large film thickness can be formed by widening the process margin in performing film formation and annealing.例文帳に追加

成膜およびレーザアニール処理時のプロセスマージンを広げて、結晶粒径が大きく高品質で、かつ膜厚が大きい結晶質薄膜を形成する方法、および装置を提供する。 - 特許庁

To reduce time and expenses required for correction for changing the value of resistance in a resistor device formed by a semiconductor formation process.例文帳に追加

半導体形成プロセスによって形成してある抵抗体装置において、抵抗値の変更のための修正にかかる時間と費用の削減を図れるようにすることを目的とする。 - 特許庁

A protective layer 52 such as a silicon nitride layer, a silicon oxynitride layer, or the like is separately formed on an MTJ laminate structure 20 before the formation of a silicon oxide layer 53 prior to a CMP process.例文帳に追加

ＣＭＰプロセスに先立つシリコン酸化物層５３の形成前に、ＭＴＪ積層構造２０の上に、シリコン窒化物層またはシリコン酸化窒化物層等の保護層５２を別途形成する。 - 特許庁

In the stage where the formation of the electric insulating layer 2 and interposed layer 3 against all connecting portions 93, the thermosetting process is performed to the electric insulating layer 2 and intermediating layer 3.例文帳に追加

全ての接続部９３に対する電気絶縁層２，介在層３の形成が完了した段階で、電気絶縁層２，介在層３に対する加熱硬化処理が行われる。 - 特許庁

At this time, boron is injected even into a peripheral edge of the element formation region D2 (second impurity injecting process) simultaneously with the injection for threshold voltage adjustment of the FET 20.例文帳に追加

このとき、ＦＥＴ２０のしきい値電圧調整のための注入と同時に、素子形成領域Ｄ２の周縁部にもボロンを注入する（第２の不純物注入工程）。 - 特許庁

At that time, the ALD method and the MOCVD method are continuously carried out essentially at the same substrate temperature in one and the same film formation apparatus without being exposed to the air in the middle of the process.例文帳に追加

その際、ＡＬＤ法とＭＯＣＶＤ法とを連続して、同一の成膜装置中において、途中で大気に露出することなく、実質的に同一の基板温度で実行する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method which increases process margins of a hole radius R and a shortest distance S between holes in formation of a tabular cavity to achieve high reliability.例文帳に追加

平板状空洞を形成する際におけるホール半径Ｒと、ホールとホールの最短距離Ｓのプロセスマージンを広げ、信頼性の高い半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To remove a substrate defect present in an SiC substrate by removing the SiC substrate by an appropriate thickness portion before a device formation process in manufacturing a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子を製造する際のデバイス作成プロセスに先立ち、ＳｉＣ基板を適切な厚み分だけ除去することで、ＳｉＣ基板に存在する基板欠陥を除去できるようにする。 - 特許庁

The surface process surface 4b is coated with the fluorine resin 4c, while performing the lining formation or heat depositing with the lining material, and the signal electrode 4 is provided in the resin lining 3.例文帳に追加

表面処理面４ｂにフッ素樹脂のコーティング４ｃを施し、ライニング成形を行ったり、ライニング材と熱溶着したりして、樹脂ライニング３中に信号電極４を設ける。 - 特許庁

To provide a pattern formation method that can perform a high throughput of wafer treatment with a process liquid containing potassium hydroxide (KOH) at a low cost by using a proper mask material.例文帳に追加

適切なマスク材料を用いることにより、水酸化カリウム(KOH)を含む処理液によるウエハの処理をスループット高く、低コストで行うことができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The front glass substrate 3 having a silver electrode formed thereon is stored in an atmosphere in which the concentration of sulfur compounds is lower than in the air during the process up to formation of a dielectric layer 9.例文帳に追加

銀電極が形成された前面ガラス基板３を、誘電体層９が形成されるまでの工程の間、大気より硫黄化合物濃度が少ない雰囲気で保管する。 - 特許庁

In a drying process at the time of formation of a PVA film 6 from a film forming raw material 2 containing polyvinyl alcohol using a drum film forming machine, the PVA film 6 peeled from a first drum 3 is floated to be dried.例文帳に追加

ポリビニルアルコールを含有する製膜原料２を用いてドラム製膜する際の乾燥工程において、第１ドラム３から剥離したＰＶＡフィルム６を浮遊させて乾燥する。 - 特許庁

To suppress the deformation and warpage of a quartz glass substrate after a sintering process in the formation of a cladding layer and to reduce propagation loss and loss due to connection with an optical fiber array.例文帳に追加

クラッド層形成時の焼結過程終了後の石英ガラス基板の変形及び反り量を小さくし、且つ伝搬損失及び光ファイバアレイとの接続損失を小さくする。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for inspecting defect of a resist pattern capable of easily detecting a defect caused only by a resist formation process by comparing the surface of a resist pattern efficiently.例文帳に追加

レジストパターン表面を効率よく比較し、レジスト形成工程に起因する欠陥のみを容易に検出するレジストパターンの欠陥検査方法及びその欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which ensures high transfer efficiency, does not cause image defects due to faulty cleaning, and gives high image quality, a toner for image formation used in the image forming apparatus and a process cartridge.例文帳に追加

転写効率が高く、かつクリーニング不良等による画像不良が生じない高画質の画像形成装置、該画像形成装置で使用する画像形成用トナー及びプロセスカートリッジ。 - 特許庁