「formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for producing a gas barrier film includes: a base material preparation step of preparing a base material; and a gas barrier layer formation step of forming a gas barrier layer containing silicon oxynitride formed on the base material, wherein the formation of the gas barrier layer in the gas barrier layer formation step is performed using an ion plating process with a sublimation gas including a xenon gas.例文帳に追加

本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、基材を準備する基材準備工程と、基材の上に酸窒化珪素を含有するガスバリア層を形成するガスバリア層形成工程とを有し、ガスバリア層形成工程におけるガスバリア層の形成を、キセノンガスを含む昇華ガスを用いたイオンプレーティング法を用いて行うようにすることにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a mold releasing film which has no trouble in safety and environment because it can be formed without using a solvent, is improved in efficiency and reduced in formation cost because a formation process can largely be shortened, has no temporal change in exfoliation force because there is no remaining SiH group, and is largely low in material cost because a white gold catalyst is not required in the formation of the film.例文帳に追加

溶剤を使わないで製造できるため安全面および環境面で問題がなく、製造工程が大幅に短縮されるため効率化が図れ製造コストを安くでき、残存するＳｉＨ基が無いため経時で剥離力が変化せず、製造するのに白金触媒を必要としないため原材料費が大幅に安い離型フィルムを提供する。 - 特許庁

In a generating device for pattern formation data, a correction rule adding unit 3332 adds a correction rule required to a pattern formation process as a correction rule part to pattern formation data having a basic pattern part; and a corrected data generating unit 3333 corrects a pattern element represented by the basic pattern part, in accordance with the correction rule of the correction rule part to generate corrected data.例文帳に追加

パターン形成用データ生成装置では、補正ルール付加部３３３２により、基礎パターン部を有するパターン形成用データに、パターンの形成処理において求められる補正ルールが補正ルール部として付加され、補正済データ生成部３３３３により、基礎パターン部が示すパターン要素が補正ルール部の補正ルールに従って補正されて補正済データが生成される。 - 特許庁

The fabrication process includes a color filter formation step of forming the color filters 50R, 50G and 50B of respective colors sequentially, and a step of forming a predetermined layer 50W on the same layer as that of the color filters 50R, 50G and 50B according to the focus detection pixel after the first color filter formation step and before the last color filter formation step.例文帳に追加

この製造方法は、カラーフィルタ５０Ｒ，５０Ｇ，５０Ｂをその色毎に順次形成する各色のカラーフィルタ形成工程と、最初のカラーフィルタ形成工程の後であって最後のカラーフィルタ形成工程の前に、前記焦点検出用画素に対応してカラーフィルタ５０Ｒ，５０Ｇ，５０Ｂと同じレイヤにおいて、所定の層５０Ｗを形成する工程と、を備える。 - 特許庁

In the image forming apparatus using an electrophotographic process, an optical detection means for detecting light radiation to an image formation area and reflected light from it is provided in a position facing the image formation area contributing to image formation on the photoreceptor, and a degradation condition of the photoreceptor is determined on the basis of the quantity of reflected light which is detected by the optical detection means.例文帳に追加

電子写真プロセスを使用した画像形成装置において、感光体の画像形成に寄与する画像形成領域に対向する位置に、画像形成領域への光照射とその反射光を検知する光学検知手段を備え、前記光学検知手段で検知した反射光量に基づき、感光体の劣化状況を判断することを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁

It is formed by a process which includes a process for performing anodic formation with a first current density, a process for performing anodic formation with a second current density different from the first current density and a process for performing anodic formation with a third current density different from the first and second current densities.例文帳に追加

シリコン基板表面を陽極化成し非多孔質シリコン基体１１上に多孔質シリコン層１２を有する第１の基板を用意する工程、第１の基板上に非多孔質薄膜１３を形成する工程、第１の基板と第２の基板とを非多孔質薄膜が内側に位置するように貼り合わせて多層構造体を形成する工程、及び多層構造体を多孔質シリコン層１２において分離する工程、を有し、多孔質シリコン層１２は、第１の電流密度で陽極化成する工程、第１の電流密度とは異なる第２の電流密度で陽極化成する工程、及び第２の電流密度とは異なる第３の電流密度で陽極化成する工程、を含む工程により作製される。 - 特許庁

The manufacturing method of the organic EL device includes: a process of forming a pixel electrode upward an insulating substrate; a process of spraying powder for organic layer formation toward the pixel electrode and making the powder adsorbed on the pixel electrode; a process of forming an organic layer in which the powder is fused, fixed and adhered onto the pixel electrode; and a process of forming the counter electrode on the organic layer.例文帳に追加

絶縁基板の上方に画素電極を形成する工程と、有機層形成用の粉体を前記画素電極に向けて噴射し、前記粉体を前記画素電極の上に吸着させる工程と、前記粉体を溶融し、前記画素電極の上に固着した有機層を形成する工程と、前記有機層の上に対向電極を形成する工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of artificial bones includes: a permanent straining process S01 for permanently straining a cell for producing bone matrix; a process S02 for attaching the permanent cell strain to bone fillers; a formation process S03 for causing osteogenesis action with the bone prosthetic material as a scaffold by propagating cells attaching to biological tissue prosthesis; and a processing process S04 for inactivating the cells.例文帳に追加

骨基質を産生する細胞を永久株化する永久株化工程Ｓ０１と、永久株化された細胞を骨補填材に付着させる付着工程Ｓ０２と、生体組織補填材に付着した細胞を増殖させることにより、前記骨補填材を足場として骨形成作用を生じさせる形成工程Ｓ０３と、細胞を不活化させる処理工程Ｓ０４とを含む人工骨の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this fine pattern formation method, the process of covering the substrate having the photoresist with a cover molding agent, the process of shrinking the cover molding agent in question by heat treatment and narrowing the intervals between the photoresist patterns by its shrinkage action, and the process of removing the cover molding agent are performed several times.例文帳に追加

ホトレジストパターンを有する基板上に、被覆形成剤を被覆する工程、熱処理により該被覆形成剤を収縮させ、その収縮作用によりホトレジストパターン間の間隔を狭小せしめる工程、および上記被覆形成剤を除去する工程を、複数回に亘って行うことを特徴とする微細パターンの形成方法。 - 特許庁

To prevent the formation of solid materials in a vacuum pump or a vacuum line of a purification process or recovery process to perform vacuum distillation in a conventional process to produce aziridines or N-vinyl amides from alkanolamines or alkanol amides and composed of a reaction step, a collection step, a purification step and a recovery step.例文帳に追加

反応工程、捕集工程、精製工程および回収工程からなる一般に知られている方法により、アルカノールアミンまたはアルカノールアミドから、それぞれ、アジリジン類またはＮ−ビニルアミド類を製造するにあたり、減圧蒸留を行う精製工程および回収工程における真空ポンプや真空ラインなどの内部での固形物の生成を防止する。 - 特許庁

Related to a manufacturing process for a semiconductor device of a cobalt silicide process structure on a cobalt film 37 formed over a silicide formation region, an oxidation suppressing film (cobalt nitride film 38) comprising the same component as the cobalt film 37 is laminated, and then via the cobalt nitride film 38, a process is included in which the cobalt film 37 is thermally processed for siliciding.例文帳に追加

コバルトシリサイドプロセス構造の半導体装置の製造方法において、シリサイド形成領域上に形成したコバルト膜３７上にこのコバルト膜３７と同一成分を含む酸化抑止膜（窒化コバルト膜３８）を積層した後に、この窒化コバルト膜３８を介して前記コバルト膜３７を熱処理してシリサイド化する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

A method for manufacturing a light transmissive optical component 12 includes: a first etching process for etching a silicon region 11 of a plate-like member to form a concavity; a thermal oxidation process for thermally oxidizing an inner surface of the concavity to form a silicon oxide film 14; and a nitride film formation process for forming a silicon nitride film 16 for covering the silicon oxide film 14.例文帳に追加

光透過性光学部品１２を製造する方法であって、板状部材のシリコン領域１１をエッチングして凹部を形成する第１のエッチング工程と、凹部の内側面を熱酸化させて酸化シリコン膜１４を形成する熱酸化工程と、酸化シリコン膜１４を覆う窒化シリコン膜１６を形成する窒化膜形成工程とを含む。 - 特許庁

In the composition of the tin oxide particles by using a conventional inorganic salt chemical process, since the carbon particles are mixed prior to heat-treatment such as a drying process 20 and a calcination process 22 or the like, the formation of coarse secondary particles by binding of tin hydroxide particles each other is occurred, but is suitably restricted by the carbon particles.例文帳に追加

そのため、従来の無機塩化学プロセスを用いた酸化錫微粒子の合成において、乾燥工程２０および仮焼工程２２等の加熱処理に先立ってカーボン微粒子が混合されることから、水酸化錫微粒子が相互に結合させられて粗大な二次粒子を構成することがそのカーボン微粒子によって好適に抑制される。 - 特許庁

This pattern formation method is provided with process for forming a super-high resolution film, for narrowing the beam diameter of irradiated light on the resist film formed on a substrate, the process for irradiating the resist film with the light via the super-high resolution film and performing pattern alignment and the process for developing the resist film, to which the pattern alignment is performed.例文帳に追加

基板上に形成されたレジスト膜上に、照射される光のビーム径を絞る超解像膜を形成する工程と、前記超解像膜を介して前記レジスト膜に対して光を照射し、パターン露光を行なう工程と、前記パターン露光が行なわれた前記レジスト膜を現像する工程とを備えるパターン形成方法である。 - 特許庁

To provide a process for producing a cationically polymerizable resin composition, in which the viscosity rise is smaller, the gel formation is smaller, and the temperature control of the contents is easier when compared with a conventional process for producing a cationically polymerizable resin by bulk polymerization and which is advantageous over a conventional solution polymerization process in respect of a reaction time, operability, and energy.例文帳に追加

従来のバルク重合によるカチオン重合性樹脂の製造方法と比べて、粘度上昇やゲル物の発生が少なく、また内容物の温度管理も行い易く、かつ従来の溶液重合と比べて時間面、操作面、エネルギー面の全てにおいて有利な、カチオン重合性樹脂組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing a carbon fiber comprises a pitch formation process for heating a purified wood tar in a reduced-pressure atmosphere to give a wood tar pitch, a fiberization process for melt spinning the obtained pitch to give a pitch fiber and a heat treatment process for heat-treating the obtained pitch fiber into a carbon fiber.例文帳に追加

また、本発明の炭素繊維の製造方法は、上記の炭素繊維の製造方法であって、精製された木タールを減圧雰囲気下で加熱して木タールピッチを得るピッチ化工程と、得られたピッチを溶融紡糸によってピッチ繊維とする繊維化工程と、得られたピッチ繊維を熱処理して炭素繊維に変える熱処理工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

This manufacturing method of an arc tube includes: an arc tube preparation process of preparing an arc tube 20a with a bulb part 30 formed therein; a bulb part surface polishing process of polishing a surface of the bulb part 30; and an optical thin film formation process of forming an antireflection film 70 as an optical thin film on the surface of the tube part 30, in that order.例文帳に追加

管球部３０が形成された発光管２０ａを準備する発光管準備工程と、管球部３０の表面を磨く管球部表面磨き工程と、管球部３０の表面に光学薄膜としての反射防止膜７０を形成する光学薄膜形成工程とをこの順序で含む発光管の製造方法。 - 特許庁

Accordingly, a process of forming the infrared absorbing plate 105 and a process of sticking a first and second birefringent plates 102, 103 to the infrared absorbing plate 105 are united into one process and the manufacture of a large-sized optical low-pass filter 100 of a four-point separation type can be performed conveniently to permit the formation of the infrared absorbing plate 105 having a uniform thickness.例文帳に追加

したがって、赤外線吸収板１０５を形成する工程と、第１および第２複屈折板１０２，１０３と赤外線吸収板１０５とを貼り合わせる工程とが一つの工程にまとめられ、４点分離型の大判の光学ローパスフィルタ１００の製造を簡便にでき、均一な厚みの赤外線吸収板１０５を形成できる。 - 特許庁

The discharge amount of the ink can be fixed by a method including a process of extruding an ink from two or more nozzles of an inkjet head, a process of bringing droplets of the ink extruded into contact with a liquid film forming member for formation of a liquid film to form a liquid film and a process of sucking the ink to form individual ink profiles for the individual nozzles.例文帳に追加

インクジェットヘッドの複数のノズルからインクを押し出す工程と、押し出された該インクから成る液滴に液膜を形成するための液膜形成部材を接して液膜を形成する工程と、該インクを吸引して、該複数のノズルのインク面をそれぞれ個別に形成する工程を組み込んだ方法によりインク吐出量を一定にできる。 - 特許庁

This process (Fig. 7) is a process for further automatically adapting suppression filters (254, 306, 400) for the plurality of data sets (310) in real time, and forming a plurality of filter processed data sets (312), and includes a formation process which is continuous so that at least two of the plurality of filter processed data sets (312) form one data stream.例文帳に追加

本方法（図７）はさらに、前記複数のデータ組（３１０）に対して抑制フィルタ（２５４、３０６、４００）をリアルタイムで自動的に適用し複数のフィルタ処理済みデータ組（３１２）を形成する工程であって、前記複数のフィルタ処理済みデータ組（３１２）のうちの少なくとも２つが１つのデータストリームを形成するように連続性である形成工程を含む。 - 特許庁

To form a construction process table in a land relocation work construction plan formation system, and easily, inexpensively and rapidly provide a drawing for managing specific attribute information such as work types provided by a task or construction year in conformation to the construction process table.例文帳に追加

土地区画整理事業用施工計画作成システムにおいて、施工工程表を作成するとともに、該施工工程表に対応し、タスクの備える工事種別や施工年度等の特定の属性情報を管理するための図面を容易、低コスト且つ迅速に提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for freezing process and a method of forming a resist pattern using the same, meeting the requirement that in a double patterning method, dimensions of a first resist pattern are not varied by a freezing process conducted for the first resist pattern and formation of a second resist pattern.例文帳に追加

ダブルパターニング法において第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの寸法が変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device that can remove a multi-layer structure SiC film equipped with an antirelection function and a hard mask function efficiently and absolutely, simplifies a film removal process in the gate electrode formation process, and minimizes negative influences to the device.例文帳に追加

反射防止機能とハードマスク機能を兼備した多層構造のＳｉＣ系膜を効率良く、確実に除去し、併せてゲート電極形成プロセスにおける膜の除去工程を簡素化し、デバイスへの悪影響を極力低減できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method of the SAW device comprises a pattern formation process for forming a conductor pattern including an interdigital electrode on a piezoelectric wafer in which the SAW device should be formed, and providing the alignment mark on the piezoelectric wafer; and a cutting process for cutting the piezoelectric wafer to divide the piezoelectric wafer.例文帳に追加

ＳＡＷ装置を形成すべき圧電ウェハ上に櫛形電極を含む導体パターンを形成すると共に、圧電ウェハ上にアライメントマークを設けるパターン形成工程と、圧電ウェハを切断して圧電ウェハを分割する切断工程とを含むＳＡＷ装置の製造方法である。 - 特許庁

In the manufacturing method for the coating liquid used in the formation of the ink receiving layer of the inkjet recording medium, the method has a preparation process of preparing a polyvinyl alcohol aqueous solution of pH 5.0 or lower, and an addition process of adding an alumina hydrate as a powdered matter to the polyvinyl alcohol aqueous solution.例文帳に追加

インクジェット用記録媒体のインク受容層の形成に用いる塗工液の製造方法であって、 ｐＨ５．０以下のポリビニルアルコール水溶液を調製する調製工程と、該ポリビニルアルコール水溶液にアルミナ水和物を粉体として添加する添加工程と、を有する塗工液の製造方法。 - 特許庁

The image formation apparatus includes a pressing mechanism 110 serving as pressing means which, when a process cartridge 30 is mounted on the apparatus body, presses the process cartridge 30 in such a direction that a photoreceptor bearing 303 serving as a main reference part is brought into contact with two linear parts 102a serving as main reference reception parts.例文帳に追加

プロセスカートリッジ３０が装置本体に装着されたとき、主基準部としての感光体軸受３０３が、主基準受け部としての２箇所の直線部１０２ａに突き当る方向にプロセスカートリッジ３０を押圧する押圧手段たる押圧機構１１０を有している。 - 特許庁

In the semiconductor manufacturing method to form a high-k film 21 and a gate electrode 24 on a silicon substrate 11; the annealing process 23 is executed in the fluorine atmosphere after formation of the high-k film, and the subsequent process temperature is set to 600°C or lower.例文帳に追加

シリコン基板１１上にｈｉｇｈ−ｋ膜２１とゲート電極２４を形成する半導体装置の製造方法において、ｈｉｇｈ−ｋ膜形成後にフッ素雰囲気でアニール処理２３を施し、その後のプロセス温度を６００℃以下で行う、半導体装置の製造方法。 - 特許庁

Since the TiN film 102 can be readily removed after anisotropic etching, it is possible to eliminate the need for additional process for removal of an etching mask which remains in eaves shape after anisotropic etching, thus realizing micromirror formation of high quality without increasing manufacturing process.例文帳に追加

ＴｉＮ膜１０２は、異方性エッチング後の除去を容易に行うことが可能なため、異方性エッチング後にひさし状に残るエッチングマスク除去のための工程を追加する必要がなく、製造工程の増加を招くことなく高品位のマイクロミラー形成が実現可能となる。 - 特許庁

The method includes a composite formation process A for forming composites 24 and 25 by coating the surface of a hafnium plate material 21 with zircalloys 22 and 23 and a quenching process B for quenching the composites 24 and 25 at a temperature equal to or higher than the α-β transformation temperature of the zircalloys 22 and 23.例文帳に追加

ハフニウム板材２１表面を、ジルコニウム合金２２、２３で被覆し複合材２４、２５を形成する複合材形成工程Ａと、前記複合材に対して前記ジルコニウム合金のα−β変態温度以上の温度での焼入れを行う焼入れ工程Ｂと、から成ることを特徴とする。 - 特許庁

To solve the problems of high cost, the complication and time-lengthening of a manufacturing process, deterioration in the quality of a film or the like in the self-organized nano-thin film formation technique using an etching step or a bottom-up system performed in the existing thin film manufacturing process.例文帳に追加

本発明は、既存の薄膜製造工程で行われている蝕刻工程又はボトム-アップ方式を用いた、自己組織化ナノ薄膜形成技術の問題点である、高コスト、製造工程の複雑化や長時間化、膜の質の低下などを解決することを課題とする。 - 特許庁

To provide a composition for forming a p-type diffusion layer, which allows formation of a p-type diffusion layer without causing internal stress in a silicon substrate and warpage of the substrate during the step of producing a solar battery cell using the silicon substrate, to provide a process for forming a p-type diffusion layer, and to provide a process for producing a solar battery cell.例文帳に追加

シリコン基板を用いた太陽電池セルの製造工程において、シリコン基板中の内部応力、基板の反りを発生させることなくｐ型拡散層を形成するｐ型拡散層形成組成物、ｐ型拡散層の製造方法、及び太陽電池セルの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a decorative sheet that can be used in laminate processing on a flat substrate as a matter of course, can resist to three-dimensional formation such as wrapping process or vacuum forming process on a three-dimensional substrate, and that is made of a biomass material excellent in surface physical property such as scratch resistance.例文帳に追加

平面状基材へのラミネート加工は勿論のこと、立体形状の基材へのラッピング加工や真空成形加工等の立体成形にも耐えることができ、しかも耐傷付き性等の表面物性にも優れたバイオマス原料から構成された化粧シートを提供することにある。 - 特許庁

To provide an image formation device capable of continuing a printing process by changing over to another paper feeding part when becoming unable to feed paper during the printing process requiring after-treatment and capable of restraining material cost by eliminating unnecessary paper feeding from the other paper feeding part.例文帳に追加

後処理が必要な印刷処理中に給紙不能となったとき、他の給紙部に切り替えて印刷処理を継続可能な画像形成装置であって、前記他の給紙部からの不要な給紙をなくし、資材コストを抑制することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The method for forming conductive pattern of electronic components comprises a process of creating a resin intaglio plate having irregularities corresponding to a conductive pattern, and a formation process of the conductive pattern 12 that fills conductive paste into the resin intaglio plate and transfers the pattern of conductive paste that is filled in the resin intaglio plate to a ceramic substrate 11.例文帳に追加

導体パターンに対応した凹凸を有する樹脂凹版を作製する工程と、前記樹脂凹版に導電性ペーストを充填し、前記樹脂凹版に充填された導電性ペーストのパターンをセラミック基板１１に転写する導体パターン１２の形成工程とからなる。 - 特許庁

The method for producing the COP structure includes: a solution preparation process of preparing a polymer solution where a COP is dissolved in a mixed solvent of an aromatic hydrocarbon solvent and N, N-dialkylformamide (DMF); and a formation process of forming the COP structure from the polymer solution.例文帳に追加

本発明に係るＣＯＰ構造体製造方法は、芳香族炭化水素溶剤とＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド（ＤＭＦ）との混合溶媒にＣＯＰが溶解したポリマー溶液を用意する溶液調製工程と、該ポリマー溶液からＣＯＰ構造体を形成する成形工程とを含む。 - 特許庁

To provide a photoresist composition for a lift-off process which facilitates resist stripping by ozone water without using an organic solvent and facilitates formation of a wiring pattern with high processability and reliability by a lift-off process, for example, on a semiconductor substrate or a liquid crystal substrate.例文帳に追加

有機溶媒を使用することなくオゾン水によりレジスト剥離を容易に行うことができ、例えば半導体用基板や液晶用基板上に、リフトオフ法により加工性および信頼性の高い配線パターンを形成することを可能とするリフトオフ用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Thus, by microfabricating the TFTs or the like for pixels to be mounted on the substrate on the silicon wafer by the IC process which enables dense formation, a large size device for the film forming process is made unnecessary and the energy relating to the production by the large size device is significantly decreased.例文帳に追加

こうして、上記基板に搭載する画素用ＴＦＴ等を、凝集形成が可能なＩＣプロセスによってシリコンウェハに微小に形成することによって、大型の成膜プロセス装置を不必要にし、上記大型の装置による生産に関わるエネルギーを大幅に削減する。 - 特許庁

In this inspection method of a plasma display panel, a formation state of the photosensitive film is inspected by entering light having a wavelength without being sensed by the photosensitive film into the photosensitive film after an exposure process and before a development process, and imaging reflection of the light.例文帳に追加

本発明のプラズマディスプレイパネルの検査方法は、露光処理後であって現像処理前の感光性膜に、前記感光性膜を感光させない波長の光を入射し、前記光の反射を撮像して、前記感光性膜の形成状態を検査することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for semiconductor wiring formation, a method and apparatus for semiconductor device manufacturing, and a wafer which can omit a thermosetting process and a surface smoothing process, reduce the thickness of a barrier layer, and form wires in a groove with a high aspect ratio under optimum conditions.例文帳に追加

熱硬化処理及び表面平滑化処理の省略、バリア層の厚みの低減、並びに最適な条件で高アスペクト比の溝に配線を形成することが可能な半導体配線形成方法及び装置、半導体デバイス製造方法及び装置、並びにウエハを提供する。 - 特許庁

In a resist film formation process, a negative type resist film 26 containing base resin, cross-linkage initiator and an optical absorption agent on the opposite surface of a first substrate 18, and in an exposure process, the film is irradiated with light with wavelength for the cross-linkage initiator to initiate cross-linkage reaction.例文帳に追加

レジスト膜形成工程において、ベース樹脂、架橋開始剤及び、光吸収剤を含むネガ型レジスト膜２６を第一基板１８の対向面に形成し、露光工程において、架橋開始剤が架橋反応を開始させる波長の光を当該膜に照射する。 - 特許庁

The process comprises, as main components, 1) a process for manufacturing a removable side wall for manufacturing the ultra-short channel and the side wall control gate with or without a step structure, and 2) the formation of the control gate, by self-alignment, on a storage nitride film and the impurity film.例文帳に追加

本プロセスで用いられる主要素は、１）ステップ構造を有するか、または無しで、超短チャネルおよびサイドウォール制御ゲートを製造するための、除去可能なサイドウォールの製造プロセス、および２）蓄積窒化膜および不純物膜上の制御ゲートの自己整合による形成である。 - 特許庁

To provide a polyester false-twisted yarn which comprises a polyester composition having a good hue and hood heat resistance and containing a new polymerization catalyst, has excellent gloss, little causes the formation of fuzzes and the occurrence of yarn breakage in a weaving process or in a knitting process, scarcely stops a loom or a knitting machine, and has a stable quality.例文帳に追加

色調や耐熱性が良好な新規のポリエステル重合触媒を含有するポリエステル組成物からなり、光沢感に優れ、織布工程や編成工程などでの毛羽や断糸の発生が少なく、織機や編機の停台が少ない品質の安定した仮撚加工糸を提供する。 - 特許庁

In this method for manufacturing of a semiconductor device including a grinding process of grinding a surface of a wafer on the side opposite to a circuit forming surface thereof, cutout parts of which the depth is smaller than the thickness of the wafer is formed by laser irradiation on the surface of the wafer on the circuit formation side before the grinding process.例文帳に追加

回路形成面とは反対側のウエハ面を研削する研削工程を有する半導体装置の製造方法であって、 前記研削工程の前に、前記回路形成側のウエハ面に、その深さがウエハ厚より浅い寸法の切欠部を、レーザ照射によって形成する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the printing plate, a first process of reforming a printing pattern formation surface of a printing original plate layer by means of the laser engraving (β) of an output less than 100 W and a second process of forming a printing pattern on the printing original plate layer by means of the laser engraving (α) are performed.例文帳に追加

出力が１００Ｗ未満のレーザー彫刻（β）により、印刷原版層の印刷パターン形成面を改質する第１工程と、レーザー彫刻（α）により前記印刷原版層に印刷パターンを形成する第２工程とを行う印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the low reflective glass substrate comprises a process for colliding a grinding stone with the surface of glass substrate to form the compressive stress part and a process of chemical etching for the formation of concave and convex shapes on the surface of the glass substrate, and the low reflective glass substrate obtained by the method is provided.例文帳に追加

ガラス基材表面に砥粒を衝突させて圧縮応力部を形成し、次いで化学的エッチング処理により、前記ガラス基材表面に凹凸形状を形成させる低反射ガラス基材の製造方法、及びこの方法で得られた低反射ガラス基材である。 - 特許庁