「formation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

Thus, even if the base part 40 is heated to a high temperature in the formation of the coating layer 50 on the base part 40, the aluminum based metal in the plating layer does not melt, and there occurs no peeling between the base part 40 and the plating layer and between the base part 40 and the coating layer 50.例文帳に追加

そのため、ベース部４０にコーティング層５０を形成する場合にベース部４０を高温に加熱しても、めっき層のアルミニウム系の金属は溶融することがなく、ベース部４０とめっき層およびコーティング層５０との間に剥離が生じることはない。 - 特許庁

An active layer 7 is formed of a multi-quantum well(MQW) that is formed by alternately laminating two kinds of InGaN layers that serve as a barrier layer and a well layer, and a variety of semiconductor layers which contain the active layer 7 are formed on a transparent sapphire substrate 1 for the formation of a semiconductor laser.例文帳に追加

この半導体レーザーは、透明なサファイア基板１上に障壁層および井戸層となる２種のＩｎＧａＮ層を交互に積層した多重量子井戸（ＭＱＷ）から成る活性層７を含む各種の半導体層を形成して成る。 - 特許庁

When an organic EL device 100 is manufactured, a first electrode layer 140 is formed first, and then a moisture eliminating step by vacuum heating drying is carried out before the formation of organic function layers of a hole injection layer 181, hole transport layer 182, a light-emitting layer 183, etc.例文帳に追加

有機ＥＬ装置１００を形成する際、第１電極層１４０を形成した後、正孔注入層１８１、正孔輸送層１８２、発光層１８３などの有機機能層を形成する前に真空加熱乾燥による水分除去工程をおこなう。 - 特許庁

In the formation process of a nitride semiconductor laminate structure made of a group III nitride semiconductor, first an n-type GaN layer (first layer), and a p-type GaN layer (second layer) containing Mg are formed on a wafer by an MOCVD method with H_2 as a carrier gas.例文帳に追加

III族窒化物半導体からなる窒化物半導体積層構造の形成工程において、キャリヤガスをＨ_２とするＭＯＣＶＤ法によって、まず、ウエハの上にｎ型ＧａＮ層（第１層）およびＭｇを含むｐ型ＧａＮ層（第２層）が形成される。 - 特許庁

Moreover, manganese located at the front surface of or within the barrier layer is precipitated, on the front surface of the seed layer after seed layer formation when heat treatment is conducted and is removed by the cleaning process before an upper layer side conductor path is formed within a concave part.例文帳に追加

またバリア層の表面もしくは層中のマンガンはシード層を形成した後、加熱処理を行うことで前記シード層の表面に析出され、そして前記凹部内に上層側導電路を形成する前に洗浄処理を行うことで除去される。 - 特許庁

Further, a high hardness layer 41 covering the protective film 26 is formed, followed by the formation of a low hardness layer, which is lower in hardness than the high hardness layer, in an area including a hollow formed on the gap between the electrodes 25 on the register 24, on the surface of the high hardness layer 41.例文帳に追加

さらに、保護膜２６を覆う高硬度層４１を形成し、その高硬度層４１の表面の抵抗体２４上の電極２５の間隙の上に形成されてしまった窪みを含む領域に高硬度層よりも硬度が低い低硬度層を形成する。 - 特許庁

This forms a charge shield layer 250 which overlies exposed portion of a pattern 230 of the charge capture layer exposed, and after forming a gate layer 500 which fills up a recessed member, a gate layer 500 is treated by spacer etching and processed by patterning with a gate 501 of spacer formation.例文帳に追加

これにより露出した電荷捕獲層のパターン２３０の露出部分上を覆う電荷遮断層２５０を形成し、リセスされた部位を充填するゲート層５００を形成した後、ゲート層５００をスペーサエッチングしてスペーサ形態のゲート５０１でパターニングする。 - 特許庁

Further, the nitride semiconductor layer 20 formed on the n-type GaN substrate 10 has: a layer thickness-inclined region 5 decreasing in layer thickness inclinedly toward the dug region 5; and a light-emitting part formation region 6 having extremely small variation in layer thickness.例文帳に追加

また、ｎ型ＧａＮ基板１０上に形成された窒化物半導体層２０は、掘り込み領域３に近づくにしたがって層厚が傾斜的に減少する層厚傾斜領域５と、層厚変動の非常に小さい発光部形成領域６とを有している。 - 特許庁

To allow thinning stop of a wafer by a thinning stop layer to be accurately performed by reducing the occurrence of a film formation defect of an epitaxial film due to an implantation defect of oxygen ions into a surface layer, and to capture metal impurities of the epitaxial layer and an active layer.例文帳に追加

表層への酸素イオンの注入欠陥に起因するエピタキシャル膜の成膜欠陥の発生を低減し、薄膜化ストップ層によるウェーハの薄膜化ストップを高精度に行え、エピタキシャル膜および活性層の金属不純物を捕獲可能とする。 - 特許庁

To provide a transfer method of a catalyst layer for a solid polymer fuel cell in which formation of a thick catalyst layer of a desired shape by an electrolyte membrane-catalyst layer assembly is possible, damage is not given to the electrolyte membrane, and the catalyst layer is not excessively densified.例文帳に追加

電解質膜−触媒層接合体で所望の形状の厚膜触媒層の形成が可能であり、電解質膜にダメージを与えず、かつ触媒層を過度に緻密化しない固体高分子形燃料電池用触媒層の転写方法を提供する。 - 特許庁

The screen printing is performed by using a screen board 25, of which, the pitch of a mesh part of a sealing layer aggregated part corresponding to a sealing layer 24 aggregated part out of the sealing layer formation hole 26 is made larger than the pitch of the mesh part of a sealing layer sparse part as the other part.例文帳に追加

そして、このシール層形成孔２６のうち、該シール層２４が密集する部分と対応するシール層密集部のメッシュ部のピッチを、他の部分であるシール層過疎部のメッシュ部のピッチよも大きくしたスクリーン版２５を使用してスクリーン印刷する。 - 特許庁

Next, this method of manufacturing the wiring substrate further includes a projecting part formation process of removing the support and the first metal layer, and forming projecting parts 11 composed by including the second metal layer and the third layer, and projecting from the other surface of the insulation layer.例文帳に追加

次に、前記支持体及び前記第１金属層を除去し、前記第２金属層及び前記第３金属層を含んで構成され前記絶縁層の他方の面から突出する突出部１１を形成する突出部形成工程と、を有する。 - 特許庁

The paper has the defirability because the barrier layer is formed out of the water-based emulsion, and the formation of the dinginess is prevented when absorbing the water and the oil because the whitenesses of the outer printed layer 3 and the paper layer 1 sandwiching the barrier layer 2 are regulated so as to have a high value.例文帳に追加

バリア層２を水性エマルジョンから形成したので離解性を有し、バリア層２を挟む外面印刷層３と紙層１との白色度をそれぞれ高い値に規定したので、水や油を吸収させた際に、黒ずみの発生を阻止できる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electric connector capable of sharpening a boundary between a conductive plating layer and a nonconductive plating layer, capable of facilitating the formation of the conductive plating layer with pitches on a curved surface, and capable of shortening the time per pitch required for forming the conductive plating layer.例文帳に追加

導電めっき層と非導電めっき層との境界をシャープにし、曲面に対する導電めっき層のピッチ形成を容易化し、導電めっき層を一ピッチ形成するのに要する時間を短縮等できる電気コネクタの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the TFT LCD pixel unit, in addition to formation of a first insulating layer (gate insulating layer) and a passivation layer, a second insulating layer is adopted to cover a gate island and an opening part is formed such that a channel region, a source region and a drain region of the TFT are exposed on the gate island.例文帳に追加

第一の絶縁層（ゲート絶縁層）及びパッシベーション層を形成する事に加えて、第二の絶縁層でゲート・アイランドが覆われ、ゲート・アイランド上にＴＦＴのチャネル領域、ソース領域、ドレイン領域が露出されるように開口部を形成する。 - 特許庁

A silicide layer-forming material film is formed at least on the surface of the diffused layer and on the surface of the gate electrode, and they are heated for the formation of a silicide layer through reaction between the surface of the diffused layer, Si in the surface of the gate electrode, and the material film.例文帳に追加

その後、少なくとも、拡散層表面と、ゲート電極表面とに、シリサイド層を形成するための材料膜を形成し、熱処理を加えて、拡散層表面及びゲート電極表面のＳｉと、前記材料膜とを反応させてシリサイド層を形成する。 - 特許庁

The developing method (substrate processing method) for developing a resist layer 101 disposed on a substrate 100 includes a solution layer formation step of supplying a developer onto the resist layer 101 and forming a solution layer 102 on the resist layer 101 using a surface tension of the developer, and a processing step of advancing development of the resist layer 101 by the solution layer 102.例文帳に追加

この現像方法（基板処理方法）は、基板１００上に配置されたレジスト層１０１を現像する現像方法であって、レジスト層１０１上に現像液を供給し、現像液の表面張力を利用してレジスト層１０１上に液層１０２を形成する液層形成工程と、液層１０２によるレジスト層１０１の現像を進行させる処理工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflective mask for EUV lithography (EUVL) using a reflective mask blank for EUVL configured by forming a reflective layer which reflects EUV light, an absorber layer which absorbs the EUV light at least in this order on a substrate, and which prevents formation of a diffusion layer on a reflective layer interface and decline of EUV light reflectivity by the formation of the diffusion layer.例文帳に追加

基板上に、ＥＵＶ光を反射する反射層、および、ＥＵＶ光を吸収する吸収体層が少なくともこの順に形成されたＥＵＶリソグラフィ（ＥＵＶＬ）用反射型マスクブランクを用いてＥＵＶＬ用反射型マスクを製造する方法であって、反射層界面での拡散層形成、およびそれによるＥＵＶ光線反射率の低下を防止する製造方法を提供する。 - 特許庁

The electrolyte membrane 10 is obtained by forming resin film using a second layer formation resin composition containing a solid polymer compound having an imidazole group, and then forming a second layer 2 by impregnating the resultant resin film with a liquid electrolyte, and, thereafter, forming a first layer on both principal surfaces of the second layer which was obtained by using a first layer formation electrolyte composition containing a solid acid and a binder.例文帳に追加

電解質膜１０は、イミダゾール基を有する固体高分子化合物を含む第２の層形成用樹脂組成物を用いて樹脂膜を形成し、得られた樹脂膜に液状電解質を含浸させて第２の層２を形成した後、固体酸とバインダーを含む第１の層形成用電解質組成物を用いて得られた第２の層の両方の主面上に第１の層をそれぞれ形成することで得られる。 - 特許庁

The superconductor 100 is composed of a superconducting layer 2 having a thickness of 0.75 μm to 3.0μm, formed by applying not less than three times film formation on the base layer 1, where the thickness of the superconducting film at every film formation is 0.3 μm or smaller.例文帳に追加

下地層１に３回以上の成膜により層厚が０．７５μｍ〜３．０μｍの超電導層２が形成されている超電導体１００であって、各回の成膜における超電導膜の膜厚が０．３μｍ以下である超電導体１００。 - 特許庁

The activated argon (Ar) gas 60 serving as a first gas is applied to the resin layer formation target region by guidance of a nozzle 36, and a second gas 70 containing ≥40 vol% of oxygen is applied to the resin layer formation target region by guidance of a gas nozzle 37.例文帳に追加

第１のガスである活性化させたアルゴン（Ａｒ）ガス６０をノズル３６の誘導により樹脂層形成予定領域にあてるとともに、酸素を４０体積％以上含む第２のガス７０をガスノズル３７の誘導により樹脂層形成予定領域にあてる。 - 特許庁

The electronic device comprises: an underlayer; an overhang formation layer that is formed on the underlayer and has an opening; a recess formed in the underlayer to be recessed in a lower portion of the edge of the opening by etching using the overhang formation layer as an etching mask; and a plated film filling the recess.例文帳に追加

電子装置は、下地膜と、下地膜の上に形成され、開口を有する庇形成層と、庇形成層をエッチングマスクとするエッチングにより、開口の縁下方に入り込むように、下地膜に形成された凹部と、凹部を埋め込む鍍金膜とを有する。 - 特許庁

In a hole part formation process in a process (1), a mask layer 3 is formed in an in-face predetermined area on the main surface of a substrate 1 so that a residual area except the formation area of the mask layer 3 can be formed with a plurality of holes 4 whose upper parts are opened.例文帳に追加

工程（１）の孔部形成工程にて、基板１の主表面上における面内の所定領域にマスク層３を形成することにより、マスク層３の形成領域を除く残余領域に、上部が開口した複数の孔部４を形成する。 - 特許庁

The transparent antenna 10 has the antenna pattern 2 formed on a transparent base 1, and the antenna pattern includes a conductor part 3a as a formation part of an opaque conductor layer and a meshed conductor mesh layer 3 having many openings 3b as non-formation parts.例文帳に追加

透明アンテナ１０は、透明基材１上にアンテナパターン２が形成され、アンテナパターンが、不透明な導電体層の形成部としての導体部３ａと非形成部としての多数の開口部３ｂとによるメッシュ状の導電体メッシュ層３によって形成する。 - 特許庁

To provide a method for producing a gas barrier laminate by which the formation of a printing layer necessary as a packaging material and formation of a gas barrier coat layer can continuously be produced using a gravure printing method with excellent production efficiency.例文帳に追加

包装材料として必要な印刷層の形成、およびガスバリア性被膜層の形成を、グラビア印刷法を用いて連続的に製造する及び生産効率の優れた方法で製造することができるガスバリア性積層体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for producing a solid pharmaceutical preparation having suppressed odor comprises the formation of the first layer by coating an odorous solid pharmaceutical composition with a cellulosic coating agent and the formation of the second layer by coating the product with a polyvinyl alcohol-based coating agent.例文帳に追加

臭いを有する固形医薬組成物をセルロース系コーティング剤でコーティングして第一層を形成し、次いで、ポリビニルアルコール系コーティング剤でコーティングして第二層を形成する、臭いの防止された固形医薬製剤の製造方法により、上記の課題を解決する。 - 特許庁

A single-crystal silicon germanium layer 324 and a single-crystal silicon layer 326 are formed on a substrate 202 on which a plurality of SOI formation regions are arranged, and a support hole 332 is formed which is adjacent while including only one side of the SOI formation region 204.例文帳に追加

複数のＳＯＩ形成領域が配置された基板２０２上に単結晶シリコンゲルマニウム層３２４、および単結晶シリコン層３２６を形成し、ＳＯＩ形成領域２０４の一辺のみを含むように隣接する支持体穴３３２を形成する。 - 特許庁

To provide a formation method for an inter-metal layer insulating film of a semiconductor element by which element characteristics are effectively prevented from deteriorating by preventing the formation of an inter-metal wiring abnormal film caused by etching for a part of metal wiring when an inter-layer insulating film is formed.例文帳に追加

層間絶縁膜形成時に金属配線の一部がエッチングされることで金属配線間の異常膜が形成されるのを防止し、素子特性の劣化を有効に防止できる半導体素子の金属層間絶縁膜形成方法を提供する。 - 特許庁

The superconductor 100 is manufactured by forming a superconducting layer 2 on a base layer 1 by applying twice or more of film formation, wherein the thickness of the superconducting film at every film formation is to be 0.3 μm or smaller.例文帳に追加

下地層１に２回以上の成膜により超電導層２を形成する超電導体１００の製造方法であって、各回の成膜における超電導膜の膜厚を０．３μｍ以下とすることを特徴とする超電導体１００の製造方法。 - 特許庁

After formation of a thick resin film 5 and an upper layer contact hole 51 that penetrates the film, formation of a lower layer contact hole 41 that penetrates a gate insulation film 15 and patterning of an ITO film for the purpose of forming a transparent pixel electrode are performed all together, under one resist pattern 8.例文帳に追加

厚型樹脂膜５及びこれを貫く上層コンタクトホール５１の形成後に、一つのレジストパターン８の下で、ゲート絶縁膜１５を貫く下層コンタクトホール４１の作成と、透明画素電極形成のためのＩＴＯ膜のパターニングとを一括して行う。 - 特許庁

This TMR element includes laminate configurations consisting of at least a pin layer 2, a metallic oxide buffer layer 3, a barrier layer 4, and a free layer 5, and the metallic oxide buffer layer 3 whose film formation has been carried out in reducing atmosphere is basically configured of materials which are easy to oxidize as compared with materials constituting the pin layer 2 as base materials.例文帳に追加

少なくともピン層２／金属酸化物バッファ層３／バリア層４／フリー層５からなる積層構成を含むＴＭＲ素子であって、還元雰囲気中で成膜された前記金属酸化物バッファ層３は、ピン層２を構成する材料に比較して酸化されやすい材料を基材としたものであることが基本になっている。 - 特許庁

In a printing plate wherein a silicone rubber layer and an ink receiving layer containing a thermosetting resin are laminated in order from an outermost surface, the outermost surface of the ink receiving layer which comes into contact with the silicone rubber layer expands by an exposure by laser, and by the expansion, the adhesive force between the silicone rubber layer and the ink receiving layer reduces, and the formation of an image becomes possible.例文帳に追加

シリコーンゴム層、熱硬化性樹脂を含むインキ受容層を最外表面から順次積層してなる印刷版において、レーザーによる露光によってインキ受容層のシリコーンゴム層と接する最表面が発泡することによってシリコーンゴム層、インキ受容層間の接着力が低下し、画像を形成することが可能となる。 - 特許庁

The lamination wave guide formation part 102 has: a third main conductor 21; and a second dielectric body 22 formed on a main surface of the third main conductor layer 21 so as to have a layer form.例文帳に追加

積層導波管形成部１０２は、第３の主導体２１と、第３の主導体層２１の主面に層状に形成された第２の誘電体２２とを有している。 - 特許庁

A metal film pattern 2 is formed direct on a base layer 1 for the formation of a wiring board 7, where the recessed corner C1 of the base layer 1 is rounded or formed like a curved shape such as an arc.例文帳に追加

ベース層１に金属膜パターン２を直接に形成するようにした配線基板７において、ベース層１の凹型コーナー部Ｃ１に丸み、例えば円弧状の湾曲形状を付ける。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium which suppresses formation of a damaged layer on a surface of a magnetic recording layer and which reduces magnetic spacing and realizes higher recording density.例文帳に追加

磁気記録層の表面におけるダメージ層の形成を抑えることができ、磁気的スペーシングを低減してより高記録密度を可能にする磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transflective liquid crystal display that exhibits satisfactory display performance without the formation of a laminated structure of a solidified liquid crystal layer and an organic insulating layer which are each patterned.例文帳に追加

各々がパターニングされた固体化液晶層と有機絶縁層との積層構造を形成することなしに、優れた表示性能を有する半透過型液晶表示装置を実現する。 - 特許庁

By the film formation method described above, at least one of an n-channel thin-film transistor and a p-channel thin-film transistor with the stacked-layer film 20 functioning as an active layer may be manufactured.例文帳に追加

前記方法により、積層膜２０を活性層として機能させるｎチャネル薄膜トランジスタおよびｐチャネル薄膜トランジスタの少なくともいずれかを製造することができる。 - 特許庁

To provide a method treatment and coating of a substrate surface in which the layer of pollutants produced on the surface of the substrate is effectively removed, and the formation of a coating layer is executed, and to provide a device therefor.例文帳に追加

基板表面に生じた汚染物質の層を効果的に除去して被覆層の形成を行う、基板表面の前処理および被覆方法および装置を提案する。 - 特許庁

To provide a highly bonded structure that can improve the adhesive force between an insulating layer and a semiconductor even when such a forming method that little damages the semiconductor is used for the formation of the insulating layer.例文帳に追加

絶縁層の形成に半導体へのダメージが小さい形成方法を用いた場合でも、絶縁層と半導体との接着力が向上する高接着構造を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive roller in which variation in the specific gravity of a coating material for the formation of an elastic layer is small and the surface of the elastic layer has minute air holes, and to provide a method for manufacturing the conductive roller.例文帳に追加

弾性層形成用塗料の比重のバラツキが小さく、かつ、弾性層表面が微細な気孔を有する導電性ローラおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a multi-layered wiring board which is superior in the formation precision of a conductor pattern and superior in control over the insulating layer thickness of a built-up layer without decreasing connection reliability.例文帳に追加

接続信頼性を低下させることなく導体パターンの形成精度に優れ、またビルドアップ層の絶縁層厚の制御に優れた多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solder resist layer having high reflection coefficient ensuring excellent ability in formation of fine pattern and highly efficient use of light emitted from LED or the like and also provide a print wiring board including the solder resist layer.例文帳に追加

ファインパターン化に優れると共に、ＬＥＤ等の光を効率よく利用し得る高反射率のソルダーレジスト層と、該ソルダーレジスト層を有するプリント配線板を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a bulk acoustic wave (BAW) resonator capable of improving the crystallinity of a piezoelectric layer, recycling a piezoelectric layer formation substrate and simplifying its manufacturing processes.例文帳に追加

圧電層の結晶性を向上できるとともに圧電層形成基板の再利用が可能で且つ製造工程の簡略化を図れるＢＡＷ共振装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the high viscosity part exists, even if the cable is heated in formation of the corrosion proof layer 23, the insulation oil impregnated in the joint part insulating layer 21 hardly moves to the outer circumference side and deoiling hardly occurs.例文帳に追加

高粘度部が存在することで、防食層23の形成時に加熱されても、接続部絶縁層21に含浸された絶縁油が外周側に移動し難く、脱油が生じ難い。 - 特許庁

A heat-sensitive recording label is characterized by the formation of a heat-sensitive recording layer containing a urea urethane compound developer on one face of a substrate while forming an adhesive layer on the other face.例文帳に追加

支持体上の一方の面にウレアウレタン化合物顕色剤を含有する感熱記録層を設け、もう一方の面に粘着層を設けたことを特徴とする感熱記録用ラベル。 - 特許庁