「formation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

The hole 12a is filled with the layer 18 with the coverage property by heating the substrate 10 at a temperature not exceeding 400°C during or after formation of the layer 18.例文帳に追加

層１８の形成中又は形成後に基板１０を４００℃程度に加熱して層１８を流動化させることにより孔１２ａをカバレッジ性よく層１８で埋める。 - 特許庁

To provide a formation means for forming an alignment mark which secures sufficient level difference used for positioning by oxidization of a silicon layer in the wafer where a silicon thin film layer is laminated.例文帳に追加

シリコン薄膜層を積層したウェハに、シリコン層の酸化により位置合せに用いる十分な段差を確保したアライメントマークを形成する手段を提供する。 - 特許庁

Metal-contained resin particles 16 are transferred to the substrate 11 by electrophotography according to a formation pattern of a wiring layer 13 to form a plating base layer 12.例文帳に追加

基板１１上に電子写真方式を適用して金属含有樹脂粒子１６を、配線層１３の形成パターンに応じて転写して、メッキ下地層１２を形成する。 - 特許庁

In the urethane sheet, buffing treatment is performed to a skin layer side of a film forming resin 32 formed in the wet film formation while pressing the surface side opposite to the skin layer onto a pressure roller 24.例文帳に追加

ウレタンシートは、湿式成膜時に形成された成膜樹脂３２のスキン層と反対の面側を圧接ローラ２４に圧接させ、スキン層側にバフ処理が施されている。 - 特許庁

Ions are then implanted into the surface of the diffused layer and into the surface of the gate electrode for the formation of amorphous layers on the surface of the diffused layer and on the surface of the gate electrode.例文帳に追加

その後、拡散層表面と、前記ゲート電極表面とに、イオンを注入し、拡散層表面と、ゲート電極表面とに、非晶質層を形成する。 - 特許庁

An N^+ dispersion layer 16 introducing the N type impurity is formed in a monocrystal silicon layer 11 with an element formation area 5 divided by the insulation separation trench 6.例文帳に追加

絶縁分離トレンチ６により区画された素子形成領域５間の単結晶シリコン層１１にはＮ型不純物を導入されたＮ^＋拡散層１６が形成される。 - 特許庁

To provide a transcription sheet for catalyst layer formation sufficiently superior in a transcription property of an electrode catalyst layer, and provide a manufacturing method of a membrane-electrode assembly using this.例文帳に追加

電極触媒層の転写性に十分に優れる触媒層形成用転写シート及びこれを用いた膜−電極接合体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

When the antireflection film is formed, a barrier layer made of a thin film of Al_2O_3 is formed prior to film formation of the uppermost dielectric layer constituting the antireflection film.例文帳に追加

この反射防止膜を形成する際に、反射防止膜を構成する最外の誘電体層を成膜する前にＡｌ_2Ｏ_3の薄膜からなるバリア層を形成しておく。 - 特許庁

To make satisfactory epitaxial growth of a semiconductor layer to take place by suppressing the formation of oxide or mixture of moisture into the semiconductor layer at melting of semiconductor material.例文帳に追加

半導体材料を溶融させる際に発生する酸化物または水分の半導体層への混入を抑制して、良好な半導体層をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

In an in-layer lens formation region 402 including the photoelectric conversion region 400 and the peripheral region, a plurality of in-layer lenses are formed at constant pitches.例文帳に追加

光電変換領域４００および上記周辺の領域を含む層内レンズ形成領域４０２に、一定のピッチで複数の層内レンズが形成されている。 - 特許庁

To provide a photocatalyst-containing layer exhibiting a high activity in a short time, and a pattern formation body or the like using the photocatalyst-containing layer.例文帳に追加

本発明は、短時間で、高い活性を示す光触媒含有層、およびこの光触媒含有層を用いたパターン形成体等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

Or after the amorphous oxide layer 2 is formed, a step of heat treatment at a temperature higher than a film formation temperature of the amorphous oxide layer 2 is performed on the substrate 1.例文帳に追加

または、基板１上に、非晶質酸化物層２を形成する後に、非晶質酸化物層２の成膜温度よりも高い温度で熱処理する工程を含む。 - 特許庁

To provide a photocatalyst-containing layer exhibiting a high activity in a short time, and a pattern formation body using the photocatalyst-containing layer.例文帳に追加

本発明は、短時間で、高い活性を示す光触媒含有層、およびこの光触媒含有層を用いたパターン形成体を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a formation method of an inorganic substance layer by which the inorganic substance layer having a prescribed concavo-convex pattern can be formed with a high precision even by one calcination.例文帳に追加

１回の焼成であっても、所定の凹凸パターンを有する無機物層を十分に高い精度で形成することができる無機物層の形成方法を提供すること。 - 特許庁

Consequently, when electrolytic plating using the seed layer 35a is performed, the frontage is closed before the plating layer is buried in the via hole 33 to avoid the formation of a void.例文帳に追加

これにより、そのシード層３５ａを用いた電解めっき時に、ビアホール３３内がめっき層で埋まる前にその間口が塞がってボイドが発生するのを回避する。 - 特許庁

CAPACITOR LAYER FORMING MATERIAL, FORMATION METHOD OF BUILT-IN CAPACITOR CIRCUIT FOR PRINTED WIRING BOARD, CAPACITOR LAYER CONSTITUTION MEMBER WITH ELECTRODE CIRCUIT AND PRINTED WIRING BOARD WITH BUILT-IN CAPACITOR CIRCUIT例文帳に追加

キャパシタ層形成材、プリント配線板用内蔵キャパシタ回路の形成方法、電極回路付キャパシタ層構成部材及び内蔵キャパシタ回路を備えるプリント配線板 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electrooptical device wherein separation of a light emitting layer is enabled without reducing an illuminating area efficiency and without disturbing homogeneous electrode layer formation.例文帳に追加

発光面積効率を下げずに、かつ、均一な電極層形成を妨げることなく、発光層分離を可能とした電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, when the surface roughness of a magnetic layer is large, since magnetic separation between the magnetic layers due to a non-magnetic layer cannot be performed, formation of the closed magnetic circuit and antiferromagnetism combination between the magnetic layers are dissipated.例文帳に追加

また、磁性層の表面が粗いと非磁性層で磁性層間の磁気的分断が出来ないため、磁性層間の閉磁路化や反強磁性的結合が消失する。 - 特許庁

The liquid 15 can disperse charges generated on the surfaces of the element formation layer 11 and the peeling layer 12, and thus, discharge due to electrically charging status caused by peeling charging can be prevented.例文帳に追加

液体１５により素子形成層１１および剥離層１２の表面に発生した電荷が拡散され、剥離帯電による放電をなくすことができる。 - 特許庁

To provide an image forming method and an image forming apparatus which enable the sure formation of a required image on a photosensitive layer by efficiently heating a thermal recording type photosensitive layer.例文帳に追加

熱記録型の感光層を効率よく加熱して感光層に所望の画像を確実に形成することができる画像形成方法及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can correctly measure a wiring shape and a film thickness and a film quality of a wiring interlayer film in a monitor mark formation region which has less deviation with a function element formation region, and correctly measure overlay deviation between a lower layer pattern and an upper layer pattern in the monitor mark formation region.例文帳に追加

機能素子形成領域との乖離が少ないモニター用マーク形成領域において、配線形状並びに配線層間膜の膜厚・膜質を正確に計測し、かつモニター用マーク形成領域における下層パターンと上層パターンとの重ね合わせずれの正確な測定が可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

In order to protect the dielectric against intrusion of hydrogen in following manufacturing processes, a first barrier layer (5) is embedded in the isolation layer (4) and, after formation of the memory capacity, a second barrier layer (10) connected to the first barrier layer (5) is deposited.例文帳に追加

誘電体をさらなる製造工程において水素の侵入から保護するために、アイソレーション層（４）内に第１のバリア層（５）を包埋しかつメモリキャパシタの製造後に、第１のバリア層（５）と結合する第２のバリヤー層（１０）を堆積させる。 - 特許庁

This inspection method for the atomic layer deposition film determines the result about formation of the atomic layer deposition film, by inspecting an atomic layer deposition film portion on a base by an X-ray photoelectron spectroscopy, when forming the atomic layer deposition film on the base.例文帳に追加

基体上への原子層堆積膜形成の際に、基体上の原子層堆積膜形成箇所をＸ線光電子分光法で検査することにより、原子層堆積膜形成の成否を判定する、原子層堆積膜の検査方法である。 - 特許庁

The semiconductor layer is locally thinned, the channel formation region is provided in the thinned region, and the second insulating layer covers at least the first insulating layer provided on the side surface of the semiconductor layer in the region which overlaps with the gate electrode.例文帳に追加

半導体層は局所的に薄膜化され、薄膜化された領域にチャネル形成領域が設けられており、第２絶縁層は、少なくともゲート電極が重畳する領域の半導体層の側面に設けられた第１絶縁層を覆う。 - 特許庁

Moreover, the generation of the static breakage of the fluorescent substance protection layer 3 at its formation is prevented by eliminating the photosensitive resin protection layer on the electrode lead out part 104 by heat development by forming the fluorescent substance protection layer 3 with the photo sensitive resin protection layer.例文帳に追加

また、蛍光体保護層３を感光性樹脂保護層で形成し、電極取り出し部１０４上の感光性樹脂保護層を加熱現像によって除去することにより、蛍光体保護層３の形成時の静電破壊の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a release layer paste used for producing a multilayer type electronic device, which does not cause sheet attack on an electrode layer paste for forming an electrode layer, and which enables formation of a release layer free of ablation at the time of printing of the paste.例文帳に追加

電極層を形成するための電極層用ペーストに対してシートアタックされず、しかも該ペーストの印刷時に削れることのない剥離層を形成可能な、積層型電子部品を製造するために用いる剥離層用ペーストを提供すること。 - 特許庁

An insulating layer formation process is provided, where, on a laminated substrate 1 comprising a metal layer 3 on its surface, a resin insulating layer 13 comprising a bottomed hole 12 whose bottom surface is a part of the metal layer 3 is formed.例文帳に追加

配線基板の製造方法は、表面１Ａに金属層３を有する被積層基板１上に、この金属層３の一部を底面とした有底孔１２を有する樹脂絶縁層１３を形成する絶縁層形成工程を備える。 - 特許庁

The composition of an RE-TM alloy constituting the recording layer 5 is denoted by TMrich, and the flattening layer 3 of good surface smoothness is formed on the substrate of the antiferromagnetic layer 4 to deal with surface roughness caused by the formation of the antiferromagnetic layer 4.例文帳に追加

記録層５を構成するＲＥ−ＴＭ合金の組成をＴＭｒｉｃｈとし、反強磁性層４の形成による表面荒れに対しては反強磁性層４の下地に表面平滑性の良い平坦化層３を形成するものとする。 - 特許庁

The titanium dioxide added resin layer having the oxygen defect inside a barrier layer at the time of formation of a container is provided to the laminate for the container composed of at least paper, the barrier layer and a sealant layer.例文帳に追加

少なくとも紙、バリア層、シーラント層からなる容器用積層体に、容器とした際にバリア層よりも内側に酸素欠陥を有する二酸化チタン添加樹脂層を設けたことを特徴とする積層体を提供することにより解決した。 - 特許庁

To facilitate the formation of a plating layer, or the like, while suppressing an increase in ESR of a solid electrolytic capacitor by conditioning and heat treating a conductive polymer layer in order to form the plating layer thereby sustaining conductivity of the conductive polymer layer.例文帳に追加

めっき層を形成するために導電性高分子層をコンディショニング処理および熱処理することにより、導電性高分子層の導電性を維持して、めっき層の形成などを容易にし、しかも固体電解コンデンサのＥＳＲの増加を抑える。 - 特許庁

Before formation of the tunnel junction layer, the active layer 47 is heat-treated at a temperature higher than 600°C and lower than 750°C to form the p-type semiconductor layer 51 and then the p-type semiconductor layer is heat-treated at a temperature higher than 500°C and lower than 600°C.例文帳に追加

この際、トンネル接合層を形成する前に活性層４７を、６００℃より高く７５０℃未満の温度で熱処理し、ｐ型半導体層５１を形成した後にｐ型半導体層を５００℃より高く６００℃未満の温度で熱処理する。 - 特許庁

The protective layer formation sheet for an optical recording medium is obtained by laminating an adhesive layer to the surface of the highly smooth film not coated with the solvent, if necessary, coating the adhesive layer with the solvent of the highly smooth film, drying the film and laminating a hard coat layer to the dried surface.例文帳に追加

得られた高平滑フィルムの溶剤の非塗布面に接着層を積層し、必要に応じて高平滑フィルムの溶剤を塗布し乾燥した面にハードコート層を積層して、これを光記録媒体用保護層形成シートとする。 - 特許庁

At this point, an a-Si layer of high quality is deposited on a g-SiNx layer at a low deposition rate to form an interface 56, and an a-Si layer of average quality is deposited thereon at a high deposition rate to have the formation of an a-Si layer 58 completed.例文帳に追加

その際は先ず低堆積速度で高品質のａ−Ｓｉ層をｇ−ＳｉＮ_X層上に堆積して界面５６を形成後、高堆積速度で平均的品質のａ−Ｓｉ層を堆積してａ−Ｓｉ層５８を完成させる。 - 特許庁

In a P-channel MOS transistor 50 having an SOI structure, an element formation region 20 the surrounding of which is isolated by an element isolation region is provided with a gate electrode 7, a P^+ drain layer 8, a P^+ source layer 9, a P^+ source layer 11, and an N^+ layer 10.例文帳に追加

ＳＯＩ構造Ｐｃｈ ＭＯＳトランジスタ５０は、周囲を素子分離領域で分離された素子形成領域２０に、ゲート電極７、Ｐ^＋ドレイン層８、Ｐ^＋ソース層９、Ｐ^＋ソース層１１、及びＮ^＋層１０が設けられる。 - 特許庁

The thin film formation layer is so manufactured that the organic dye layer 12 is formed by coating the surface of the substrate 11 with the organic dye and the silicon polymer layer 13 is formed by coating the surface of the organic dye layer 12 with a silicon polymer.例文帳に追加

また薄膜形成体は、先ず基板１１の表面に有機色素をコーティングして有機色素層１２を形成し、この有機色素層１２の表面にケイ素ポリマーをコーティングしてケイ素ポリマー層１３を形成することにより製造される。 - 特許庁

The organic insulating layer is formed after the oxide semiconductor layer is formed so as to prevent deterioration in semiconductor characteristics due to mixing of an organic substance in the organic insulating layer with the oxide semiconductor during the formation of the oxide semiconductor layer.例文帳に追加

酸化物半導体層を形成した後に有機絶縁層を形成するため、酸化物半導体層の形成時に有機絶縁層中の有機物が酸化物半導体層に混入して半導体特性が劣化することが防止される。 - 特許庁

Both the surfaces of a base material 1 made of a valve metal are subjected to surface-spread treatment, a dielectric oxide film layer 4 for forming a capacity formation section is provided, and a solid electrolytic layer 5 and a cathode layer 6 are formed successively on the dielectric oxide film layer 4.例文帳に追加

弁金属からなる基材１の両面を拡面処理し、容量形成部を形成する誘電体酸化皮膜層４を設け、この誘電体酸化皮膜層４の上に、固体電解質層５、陰極層６を順次形成する。 - 特許庁

Then, an inter-layer insulating film 6 is formed on the entire surface of the semiconductor substrate 1, the inter-layer insulating film 6 is selectively etched thereafter, and a contact hole 7 is formed for respectively partially exposing a source formation region and a drain formation region.例文帳に追加

次に、半導体基板１の全面に層間絶縁膜６を形成し、その後当該層間絶縁膜６を選択的にエッチングし、ソース形成領域及びドレイン形成領域をそれぞれ一部露出させるコンタクトホール７を形成する。 - 特許庁

In the flexible conductor, a first elastic layer 126 (for example, elastic adhesive) is formed on a contact formation surface of the terminal section 112, and a second elastic layer 128 (for example, foaming form) is formed on a surface opposite to the contact formation surface of the terminal section 112.例文帳に追加

フレキシブル導体は、端子部１１２の接点形成面に第１弾性層１２６（例えば、弾性接着剤）が形成され、端子部１１２の、接点形成面と反対側の面に第２弾性層１２８（例えば、発泡フォーム）が形成されている。 - 特許庁

Next, the magnetic layer is separated by forming a separating groove part roughly surrounding the recessed part for the magnetic pole formation on the outer side of the recessed part for the magnetic pole formation, and a cover insulating film capable of covering an entire surface on the upper side is formed on the separated magnetic layer.例文帳に追加

次に、磁極形成用凹部の外側に磁極形成用凹部を概ね取り囲む分離用溝部を形成することによって磁性層を分離し、分離された磁性層に上側全面をカバーし得るカバー絶縁膜を形成する。 - 特許庁

To provide: a coating material for holograms capable of forming a reflective layer excellent in reflectance and abrasion resistance; a hologram formation body with a reflective layer formed using the coating material; a packaging material; and a manufacturing method of the hologram formation body.例文帳に追加

反射率と耐磨耗性に優れた反射層を形成可能なホログラム用コーティング材料、当該コーティング材料を用いて形成された反射層を備えるホログラム形成体及び包装材並びにホログラム形成体の作製方法を提供すること。 - 特許庁

An outer electrode 31, a conductor layer 21 and an inner electrode 27 are formed by electrolytic plating, using a metallic plate 32 which is laminated on an outer insulator layer 22 in advance before formation of them and is removed after the formation thereof is completed.例文帳に追加

アウター側電極３１、導電体層２１およびインナー側電極２７を、予めこれらの形成前にアウター側絶縁体層２２に積層され、かつこれらの形成後に除去される金属板３２を用いて電解めっきにより形成する。 - 特許庁

To simplify a production process and to reduce a production cost in a solid-state imaging device by commonizing the formation of the diffusion layer of an charge transfer unit and the formation of the diffusion layer of a transistor composing an output unit in the periphery.例文帳に追加

固体撮像装置において、電荷転送部の拡散層の形成と、その周辺の出力部を構成するトランジスタの拡散層の形成とを共通化し、これにより製造工程を簡略化するとともに製造コストを削減する。 - 特許庁

To provide a metallic surface nitriding method which accelerates formation of a nitrogen diffused layer and which thereby facilitates formation of a surface hardened layer reaching the depth, in metal nitridation using electron beam excitation plasma and its device.例文帳に追加

電子ビーム励起プラズマを用いた金属窒化処理において、窒素拡散層の生成をさらに加速し深いところまで達する表面硬化層を容易に形成するようにした金属材料の表面窒化処理方法とそれを実施する装置を提供する。 - 特許庁

The threshold voltage of a transistor can be changed by using stress of a thin film formed on a first semiconductor layer having a first channel formation region and a second semiconductor layer having a second channel formation region.例文帳に追加

第１のチャネル形成領域を有する第１の半導体層と、第２のチャネル形成領域を有する第２の半導体層に対して、それらの上に形成された薄膜の応力を用いて、トランジスタのしきい値電圧を異ならせることができる。 - 特許庁