「formation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

Since the aramid paper and the PPS film are directly laminated with no intervention of adhesive layer, the thickness corresponding to the adhesive layer is reduced for thin film formation.例文帳に追加

また、接着剤層が介在することなくアラミド紙とＰＰＳフィルムとが直接的に積層されているため、接着剤層に相当する厚さが低減され、薄膜化が図られる。 - 特許庁

A solar cell is provided with a p-type diffusion layer and an electrode that are formed by heat treatment after the p-type diffusion layer formation composition is applied on a semiconductor substrate.例文帳に追加

また、半導体基板上に該ｐ型拡散層形成組成物を塗布した後、熱処理することで形成されたｐ型拡散層および電極を備える太陽電池セルである。 - 特許庁

After the lamination of a polycrystalline ITO layer 20a and the formation of a resist mask by a photolithography process, the polycrystalline ITO layer 20a is etched using, for example, a hydrochloric acid-based etchant.例文帳に追加

多結晶ＩＴＯ層２０ａを積層し、フォトリソグラフ工程によりレジストマスクを形成した後、多結晶ＩＴＯ層２０ａを例えば塩酸系のエッチング液を用いてエッチングする。 - 特許庁

A photoresist 20 layer is formed on the surface of a semiconductor wafer 11 on which a gold thin film 10 has been formed, and a through-hole 21 is formed at a position corresponding to a bump formation position of the photoresist layer.例文帳に追加

金薄膜１０が形成された半導体ウエハー１１の表面にフォトレジスト２０層を形成し、フォトレジスト層のバンプ形成位置に対応する位置に貫通孔２１を形成する。 - 特許庁

Here, the alloy layer 26 is formed so that film formation is performed on a first electrode layer 14 by spattering using only a Cu-In-Ga target (a CIG target) 24.例文帳に追加

ここで、該合金層２６は、Ｃｕ−Ｉｎ−Ｇａ合金ターゲット（ＣＩＧターゲット）２４のみを用いるスパッタリングによって第１電極層１４上に成膜が行われることで設けられる。 - 特許庁

In the polarizing plate having a transparent protective film arranged on at least one surface of a polarizer via an adhesive layer, the adhesive containing gelatin is used for formation of the adhesive layer.例文帳に追加

偏光子の少なくとも一方の面に接着層を介して透明保護フイルムが設けられている偏光板において、前記接着層の形成に、ゼラチンを含む接着剤を用いる。 - 特許庁

The protruding part allows an adhesive layer 201 to be thinner in a formation part of the pad electrode 110P than other parts between the wiring layer 110 and the support substrate SK.例文帳に追加

この凸部によって、接着層２０１について配線層１１０と支持基板ＳＫとの間において、パッド電極１１０Ｐの形成部分が他の部分よりも薄くなるように形成する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor that prevents particles in an under-coat layer from separating from the layer, ensures satisfactory images even in repetitious image formation, and is excellent in resistance to printing.例文帳に追加

粒子を含む下引き層から粒子が脱離することを防止し、繰り返し画像を形成しても画像が良好で、耐刷性に優れた電子写真感光体を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the backing plate 1 includes the lubricating layer formation step of forming the water soluble lubricating layer 3 composed of a water soluble resin at one side of the substrate 2 by extrusion coating.例文帳に追加

あて板１の製造方法は、水溶性樹脂からなる水溶性潤滑層３を押出コート法により基板２の片面に形成する潤滑層形成工程を含む。 - 特許庁

To prevent the number of production steps from increasing in production of a multilayer wiring board by completing the formation of a mother board cover layer for insulation protecting the wiring layer of a mother board printed wiring board by single step.例文帳に追加

マザーボードプリント配線板の配線層を絶縁保護被覆するマザーボードカバー層の形成を１回で完了させ、多層配線板の製造において工程数を増加しないこと。 - 特許庁

To reduce depletion layer capacity, restrain an off electric current small and realize high speed responsiveness by restraining formation of a depletion layer 13 on a surface of a semiconductor substrate 11.例文帳に追加

半導体基材１１の表面に空乏層１３が形成されるのを抑えることにより、空乏層容量を小さくし、且つオフ電流を小さく抑え、高速応答を可能とする。 - 特許庁

To provide a polyester film for a sublimation type thermal transfer recording material which is excellent in the adhesion to a sublimation type ink layer and also in the releasability from a protective layer provided after formation of an image.例文帳に追加

昇華型インク層との接着性に優れ、且つ画像形成後に設けられる保護層との離形性にも優れた、昇華型感熱転写記録材用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The first amorphous silicon film formation step forms a first amorphous silicon film of a first conductivity type whose impurity density is higher than the high resistance layer on the rear face of the polished high resistance layer.例文帳に追加

第１のアモルファスシリコン膜形成工程では、研磨された高抵抗層の裏面に高抵抗層よりも不純物濃度の高い第１導電型の第１のアモルファスシリコン膜を形成する。 - 特許庁

To provide an organic electronics material capable of achieving layer formation by application method and low-temperature curing of the formed layer, and to provide an organic electronics element using the same.例文帳に追加

塗布法により層形成が可能で、かつ当該形成した層を低温で硬化できる有機エレクトロニクス用材料、及び該有機エレクトロニクス材料を用いた有機エレクトロニクス素子を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a multilayer wiring board in which adverse influences of plating resist residues are removed, and formation of an upper layer wiring layer and filling of a via hole are performed by electrolytic plating.例文帳に追加

めっきレジスト残さの悪影響を取り除いて、電解めっきで上層配線層の形成と前記ビアホールの穴埋めする多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the solid electrolytic capacitor, the conductive polymer compound layer 3 contains the conductive compound layer dried after a conductive polymer compound solution is applied, or immersed for formation.例文帳に追加

固体電解コンデンサにおいて、導電性高分子化合物層３は、導電性高分子化合物溶液を塗布後又は浸漬後乾燥して形成された導電性化合物層を含む。 - 特許庁

Furthermore, a red layer 33R is formed, and the blue patterns 27 and the red layer 33R are dry-etched to form blue pixels 20B, red pixels 20R, and green pixel formation regions 39.例文帳に追加

更に赤色層３３Ｒを形成し、青色パターン２７及び赤色層３３Ｒをドライエッチングして、青色・赤色画素２０Ｂ、２０Ｒ、及び緑色画素形成領域３９を形成する。 - 特許庁

An intense electric field drift layer 6 is formed by applying a nano-crystallization process and an insulation film formation process to parts overlapping the lower electrodes 12 of the polycrystalline silicon layer 3a (fig. (d)).例文帳に追加

多結晶シリコン層３ａのうち下部電極１２に重なる部分にナノ結晶化工程、絶縁膜形成工程を施すことにより強電界ドリフト層６を形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁

Each of the columnar substances 18 extends in a columnar shape from one metal layer to the other metal layer and the plurality of columnar substances 18 are distributed within a formation range of the metal layers.例文帳に追加

各柱状物質１８は一方の金属層から他方の金属層に向けて柱状に伸びており、複数本の柱状物質１８が金属層の形成範囲内に分布している。 - 特許庁

To provide a liquid crystal composition that can produce an insert type retardation layer with good homeotropic orientation in spite of formation of the retardation layer on the oriented membrane or not.例文帳に追加

本発明は、配向膜上に位相差層を形成するか否かにかかわらず、良好にホメオトロピック配向したインセルタイプの位相差層を得ることを可能にする液晶組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an original plate for an alignment layer, the original plate allowing formation of an inexpensive alignment layer having excellent alignment regulating force while generating little dust or electrostatic charges.例文帳に追加

本発明は、低コストかつ粉塵や静電気の発生が少なく、優れた配向規制力を有する配向膜を形成可能な配向層用原版を提供することを主目的とする。 - 特許庁

Light emitted from the light emitting part 21 passing through the seal layer 18 is received by the light receiving part 22 to thereby detect a formation failure of the seal layer 18 caused by the deterioration of the magnetic fluid.例文帳に追加

発光部２１から出射されシール層１８を透過した光を、受光部２２が受光することにより、磁性流体の劣化に起因するシール層１８の形成不全を検出する。 - 特許庁

To obtain a highly smooth film having high surface smoothness, to provide a method for producing the same, a protective layer formation sheet having high surface smoothness of a protective layer and an optical recording medium.例文帳に追加

表面平滑性の高いフィルムおよびその製造方法、ならびに保護層の表面平滑性の高い光記録媒体用保護層形成シートおよび光記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a corrugated pipe formed in a double layer pipe having an excellent flexibility, flame retardancy, low-temperature shock resistance and a dimensional accuracy by forming in an extruding formation, capable of utilizing characteristic of each layer.例文帳に追加

可撓性、難燃性及び低温耐衝撃性に優れ、押出成形により寸法精度に優れ、各層の特性を活かすことができる二層管に成形された波付管を提供する。 - 特許庁

Near the surface of the contact layer 18, similarly, the n-type carrier increases and the conductivity of the layer 18 changes to i- or n-type, resulting in the formation of a current constricting region 18a.例文帳に追加

ｐ側コンタクト層１８の表面近傍においても同様にｎ型キャリアが増加し、伝導型がｉ型またはｎ型に変化して電流狭窄領域１８ａが形成される。 - 特許庁

To present an industrial method for forming a low-resistance n-type impurity layer that is indispensable in the formation of an electronic device, for a semiconductor silicon carbide substrate with a buried insulating layer.例文帳に追加

絶縁層埋め込み型半導体の炭化珪素基板において、電子デバイス作製に不可避である低抵抗ｎ型不純物層を形成するための工業的な方法を提案すること。 - 特許庁

Thereby, formation of a contaminated layer of particles due to re-reaction of residual Cl^* is suppressed, the surface of the Cu layer is kept clean and the surface of a member 11 to be etched is kept clean.例文帳に追加

これにより残留するＣｌ^*が再反応してコンタミ層の形成やパーティクルの形成を抑えてＣｕ層の表面を清浄に保ち、被エッチング部材１１の表面を清浄に保つ。 - 特許庁

When the formed state of the light emitting layer is not acceptable, the step is not moved to a second electrode forming step (S5) and the cause of occurrence of a defect in the light emitting layer formation step (S2) is inspected.例文帳に追加

発光層の形成状態が良好でなければ、第２の電極の形成工程(S5)へは進まず、発光層形成工程(S2)での不良発生の原因を究明する。 - 特許庁

A conductive layer 31 is formed on the entire surface of the substrate, and a spiral groove 32 is formed on the conductive layer 31 at the spiral section, thus adhering the conductor to the substrate for formation.例文帳に追加

基台の表面全体に導体層３１を形成し、螺旋部における導体層３１に螺旋状に溝３２を形成することにより、導体を基台に密着するように形成する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a primer formation face capable of expressing numerically and quantitatively the thickness of a compatibilized layer formed on the interface between a resin base material and a primer layer without using a special device.例文帳に追加

特殊な装置を用いることなく、樹脂基材とプライマー層との界面に形成される相溶層の厚さを定量的に数値化できるプライマー形成面の検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of forming a first semiconductor layer of a first conductivity type and a second semiconductor layer of a second conductivity type on a rear face of a semiconductor substrate without performing a resist formation process.例文帳に追加

レジスト形成工程を行うことなく、半導体基板の裏面に、第１導電型の第１半導体層と、第２導電型の第２半導体層を形成する製造法の提供。 - 特許庁

Then, a titanium silicide layer 21c of the upper surface 13a of the gate electrode 13 can be prevented from being connected with the sidewalls 41a and 41b in the titanium silicide layer 21c formation step.例文帳に追加

このため、チタンシリサイド層２１ｃ形成工程において、ゲート電極１３の上面１３ａのチタンシリサイド層２１ｃが、サイドウォール４１ａ、４１ｂとつながることを防ぐことができる。 - 特許庁

To suppress deformation of an adhesive layer of a flexible printed circuit board during formation of a resin seal portion, and to suppress deterioration in the flexible printed circuit board caused by deformation of the adhesive layer.例文帳に追加

封止樹脂部の成型時におけるフレキシブル配線板の接着剤の層の変形を抑制すると共に接着剤の層の変形に起因したフレキシブル配線板の劣化を抑制する。 - 特許庁

In this case, formation is made as a p+-InGaAs layer where carrier concentration Na of the p-type semiconductor layer is set within 1.0×1020 cm-3>Na≥5.0×1018 cm-3.例文帳に追加

その場合、ｐ型半導体層のキャリア濃度Ｎａが１．０×１０^20ｃｍ^-3＞Ｎａ≧５．０×１０^18ｃｍ^-3の範囲内の値となるｐ^^+−ＩｎＧａＡｓ層として形成する。 - 特許庁

To provide a catalyst layer-electrolyte membrane layered product and a catalyst layer formation sheet for manufacturing an electrode-electrolyte membrane assembly constituting a fuel cell.例文帳に追加

本発明は、燃料電池を構成する電極−電解質膜接合体を製造するための触媒層−電解質膜積層体及び触媒層形成シートを提供することを課題とする。 - 特許庁

Further, a catalyst layer of the biosensor is formed in a catalyst-layer depiction process (step S13) for discharging liquid drops for catalyst that includes catalyst material into an electrode formation area on the mother plate.例文帳に追加

また、バイオセンサの触媒層は、触媒材料を含む触媒用液滴をマザープレートの電極形成領域に吐出する触媒層描画工程（ステップＳ１３）によって形成される。 - 特許庁

A wiring layer of this biosensor is formed in a wiring-layer depiction process (step S11) for discharging liquid drops for wiring that includes wiring material into a wiring formation area on a mother plate.例文帳に追加

バイオセンサの配線層は、配線材料を含む配線用液滴をマザープレートの配線形成領域に吐出する配線層描画工程（ステップＳ１１）によって形成される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer wiring board that secures adhesion between an insulating layer and a wiring layer and is suitable for high-frequency signal transmission and fine wiring formation.例文帳に追加

絶縁層と配線層との密着性を確保でき、かつ、高周波信号伝送及び微細配線形成に好適な多層配線基板の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

An alignment mark M for performing pattern formation by irradiating electron beam is formed so as not to penetrate an active Si layer 53 to prevent charge-up in a box layer 52.例文帳に追加

電子線照射によるパターン形成を行うためのアライメントマークＭは、活性Ｓｉ層５３を貫通することのないように形成し、ボックス層５２におけるチャージアップを防ぐようにした。 - 特許庁

In formation of the magnetic layer, magnetic particles can be epitaxially grown on the crystalline particles 12 and simultaneously nonmagnetic boundary parts can be epitaxially grown from the grain boundary parts 14 with certainty by this control layer.例文帳に追加

この制御層により、磁性層形成では、磁性粒子を結晶粒子12上から、同時に非磁性の境界部を粒界部14から確実にエピタキシャル成長させることができる。 - 特許庁

In the process (a), a first semiconductor layer and a second semiconductor layer having a band gap larger than that of the first one are successively formed on a main surface of the formation substrate 101.例文帳に追加

工程（ａ）は、形成基板１０１の主面上に第１の半導体層及び該第１の半導体層よりもバンドギャップが大きい第２の半導体層を順次形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a multilayer printed wiring board that can form a conductor layer excelling in peel strength on a surface of a flat insulating layer, and excels in formation of minute wiring.例文帳に追加

平坦な絶縁層表面に、剥離強度に優れる導体層を形成することができる、微細配線形成に優れた多層プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The metal reflecting layer of the diffraction structure formation body having the metal reflecting layer conforming with the shape of the diffraction structure is provided in a pattern shape on the surface of the diffraction structure.例文帳に追加

回折構造の形状に追従した金属反射層を有する回折構造形成体の金属反射層が、回折構造の面上にパターン状に設けられていること。 - 特許庁

To provide a semiconductor light-emitting element, a nitride semiconductor layer and a nitride semiconductor layer formation method of high performance, which satisfy both of low dislocation density and excellent surface flatness.例文帳に追加

低転位密度と良好な表面平坦性とを両立した、高効率な半導体発光素子、窒化物半導体層、及び、窒化物半導体層の形成方法を提供する。 - 特許庁

Also, in the method of manufacturing the solid electrolytic capacitor, a process for providing the paste layer containing flame retardant powder and manganese dioxide powder is included in the formation process of the solid electrolyte layer.例文帳に追加

また、固体電解質層形成工程中に、難燃剤の粉末と二酸化マンガンの粉末を含むぺースト層を設ける工程を設ける固体電解コンデンサの製造方法である。 - 特許庁