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「formation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索
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formation layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 4330



例文

It is preferable that the metal material 6 with low formation ability of lithium compound penetrate in all the regions in thickness direction of the active material layer 3.例文帳に追加

リチウム化合物の形成能の低い金属材料6は、活物質層3の厚み方向全域にわたって浸透していることが好ましい。 - 特許庁

The edible base material is for instance, chocolate, and formation of the coating layer 2 is performed by silk printing, and image printing is performed by ink-jet printing.例文帳に追加

可食性基材は例えばチョコレートであり、コーティング層2の形成はシルク印刷により、画像の印刷はインクジェット印刷により行なわれる。 - 特許庁

In spite of the formation of the thick tin or tin alloy plated layer, a coefficient of dynamic friction of at most 0.35 can be realized.例文帳に追加

厚い錫又は錫合金めっき層が形成されていても、有機潤滑剤を塗布することで動摩擦係数0.35以下が実現できる。 - 特許庁

To provide a dielectric formation paste for a plasma display panel excellent in transparency, and capable of forming a dielectric layer having a high breakdown voltage.例文帳に追加

透明性に優れ、しかも耐電圧の高い誘電体層を形成することが可能なプラズマディスプレーパネル用誘電体形成ペーストを提供する。 - 特許庁

例文

A silicide layer 20d is formed on the upper surface and the side surface of a gate electrode wiring 14b located in the shared contact formation region.例文帳に追加

シェアードコンタクト形成領域に位置するゲート電極配線14bの上面上及び側面上にはシリサイド層20dが形成されている。 - 特許庁


例文

To provide an optical waveguide which permits formation of a high-grade optical waveguide layer on a single crystal substrate and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

高品位な光導波路層を単結晶基板上に形成することができる光導波路とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

At the formation of a contact hole in a silicon oxide film on a silicon layer, oxygen plasma treatment is carried out between high-speed etching and selective etching.例文帳に追加

シリコン層上のシリコン酸化膜へのコンタクトホール形成工程において、高速エッチングと、選択エッチングと、の間に酸素プラズマ処理を行う。 - 特許庁

Formation for the layer of an adhesive agent is preferably carried out by using a solution of an adhesive agent diluted with a solvent of hydrocarbon such as xylene or the like.例文帳に追加

接着剤層の形成は、トルエン、キシレン等の炭化水素溶媒で希釈した接着剤溶液を用いて行われることが好ましい。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which the width of an emitter layer can be made small while allowing easy formation of a contact part to the emitter electrode.例文帳に追加

エミッタ電極に対するコンタクト部を容易に形成しながら、エミッタ層の幅を小さくすることが可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a nitride semiconductor laser element having a constitution for suppressing the formation of steps on a nitride semiconductor layer.例文帳に追加

窒化物半導体層に生じる段差の発生を抑制するための構成を備える窒化物系半導体レーザ素子を提供することである。 - 特許庁

例文

Thereafter, the formation of an upper electrode layer and a second RTA treatment are effected (step S9-S11) and the ferroelectric capacitor is formed (step S12).例文帳に追加

その後、上部電極層の形成や第2のRTA処理を行い(ステップS9〜S11)、強誘電体キャパシタを形成する(ステップS12)。 - 特許庁

To provide a paste composition for catalyst layer formation with excellent dispersion of catalyst and with danger of ignition lowered.例文帳に追加

本発明は、触媒の分散性が良好で、発火の危険性を低くした触媒層形成用ペースト組成物を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a polymer composition having excellent gas barrier property, enabling the formation of a single-layer film, easily formable by various forming methods and producible at a low cost.例文帳に追加

ガスバリアー性に優れ、単一膜の製造も可能であり、多様な成形方法に容易に対応可能なポリマー組成物を廉価に提供する。 - 特許庁

To obtain a light emission element to which a formation method of an electrode is not restricted by a material of a light emission layer, and its manufacturing method.例文帳に追加

発光層の材料によって電極の形成方法が制限されることがない発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a protective thin layer for a thermal coloring matter sublimation donor comprising thermally expandable fine spheres exhibiting durability to formation of scum.例文帳に追加

スカム形成に耐性を示す、熱膨張性微小球を含有する感熱色素昇華供与体要素用の保護薄層を提供すること。 - 特許庁

To remarkably improve a total manufacturing efficiency by efficiently effecting the formation of a thermal stress relaxing post, an insulating layer and solder bumps.例文帳に追加

熱応力緩和ポスト、絶縁層並びにはんだバンプの形成を能率よく行うようになして全体の製造能率を大幅に向上させる。 - 特許庁

The rigidity deterioration occurring from formation of a first slot TC, as well as the occurrence of a blow hole are prevented with the insulating resin layer R.例文帳に追加

そしてスの発生防止と共に第1の溝TCの形成により発生する強度劣化を絶縁樹脂層Rにより改善する。 - 特許庁

At the formation of this resin film layer 5, the flowing direction of the grain pattern is set to be same as that of the light and shade pattern of the base material 3.例文帳に追加

この樹脂膜層5を形成する際、木目模様の流れ方向と、基材3の明暗模様の流れ方向とを同じにしておく。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor with at least an electric charge transferring layer, a coating solution for forming an electric charge transferring layer subjected to adsorption treatment is used in the formation of the electric charge transferring layer.例文帳に追加

少なくとも電荷輸送層を有する電子写真感光体において、該電荷輸送層の形成に吸着処理を施した電荷輸送層形成用塗工液(以下、CTL塗工液という)を用いたことを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

To provide a substrate for mounting light-emitting elements that achieves satisfactory light reflection of a light-emitting element, can prevent the degradation in a resin layer, and is further advantageous in terms of manufacturing costs by coating the resin layer with a ceramic layer for formation, and to provide a method of manufacturing the substrate for mounting light-emitting elements.例文帳に追加

樹脂層がセラミック層で被覆形成されることにより、発光素子の光反射を良好とし、樹脂層の劣化も防止でき、さらに、製造コスト的にも有利となる発光素子搭載用基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nitride series semiconductor device capable of high-temperature growth of the nitride semiconductor layer by suppressing the formation of a reactive layer in the interface between oxide and nitride to improve a crystal quality of an upper layer, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

酸化物と窒化物の界面に反応層が形成されるのを抑制して窒化物半導体層の高温成長を可能にし、上部層の結晶品質を向上させた窒化物系半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent mode formation, other than a waveguide by forming a layer for absorbing light that permeates from a clad layer, without generating a heterobarrier for causing voltage increase and without creating factors for causing absorption at the clad layer.例文帳に追加

クラッド層からしみ出した光を吸収する層を電圧上昇を生じるヘテロ障壁を生じさせることなく、またクラッド層での吸収を起こさせる要因を作ることなく形成し、導波路以外でのモード形成を阻止することを目的とする。 - 特許庁

Four photoelectric conversion parts 10 are arranged on the surface of a scintillator layer 22 in the scintillator part 20 via an adhesive in such a way that the element formation layer 12 faces the scintillator layer 22, and the scintillator part 20 is pasted on the four photoelectric conversion parts 10.例文帳に追加

シンチレータ部20のシンチレータ層22表面上に、4枚の光電変換部10を、素子形成層12とシンチレータ層22が対向するように接着材を介して配置し、シンチレータ部20と4枚各々の光電変換部10を貼り合せる。 - 特許庁

At that time, the pure water flow acts as a barrier layer for preventing any contact of the IPA steam with the surface of the stored pure water so that the formation of any IPA layer on a vapor/liquid boundary face can be prevented, and the adhesion of any particle through the IPA layer can be suppressed.例文帳に追加

このときに、純水流がIPA蒸気と貯留された純水表面との接触を防止する障壁層として働き、気液界面におけるIPA層の形成を防ぎ、IPA層を介したパーティクル付着を抑制する。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device including a thin film transistor including an oxide semiconductor layer as a channel formation region, the oxide semiconductor layer is heated under a nitrogen atmosphere to lower its resistance, thereby forming a low-resistance oxide semiconductor layer.例文帳に追加

チャネル形成領域として酸化物半導体層を用いる薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体層を窒素雰囲気下で加熱して低抵抗化し、低抵抗な酸化物半導体層を形成する。 - 特許庁

Then, the electrode layer 6 in a formation region of the insulating protection layer 5 (excluding the openings 5A, 5B) is irradiated with a laser beam L, and the electrode layer 6 is selectively removed by laser ablation to form a source electrode and a drain electrode.例文帳に追加

こののち、絶縁性保護層5の形成領域(開口部5A,5Bを除く)における電極層6にレーザLを照射し、その電極層6をレーザアブレーションにより選択的に除去してソース電極およびドレイン電極を形成する。 - 特許庁

A boundary wall 65 is formed at a boundary part between the isotropic layer 63 and the anisotropic layer 64 to prevent diffusion of a monomer or radical from the respective areas to the adjacent other areas during formation of the phase difference layer 61.例文帳に追加

そして、等方層63と異方層64との境界部分には、位相差層61を形成する際、それぞれの領域から隣接する他の領域にモノマーやラジカルの拡散が進行することを防ぐ境界壁65が形成されている。 - 特許庁

To provide a device and a method which have a higher film formation speed for an i layer and can secure a uniform film thickness for a p layer and an n layer and therefore can form a polysilicon photoelectric transfer unit having good characteristics with high productivity and high yield.例文帳に追加

i層の製膜速度が高く、かつp層およびn層の膜厚均一性を確保することができ、特性の良好なポリシリコン光電変換ユニットを高い生産性と高い歩留りで製膜することができる装置および方法を提供する。 - 特許庁

To provide a recording layer (recording film) for an optical information recording medium having a high reflectivity (initial reflectivity), a high C/N ratio and a low jitter value, to provide the optical recording medium provided with the recording layer and to provide a sputtering target for use in the formation of the recording layer.例文帳に追加

反射率(初期反射率)が高く、高C/N比を有し、さらには低ジッター値を有する光情報記録媒体用記録層(記録膜)、該記録層を備えた光記録媒体及び該記録層形成用スパッタリングターゲットを提供すること。 - 特許庁

The number of brown marks causing exfoliation is reduced by forming a layer, which is highly reactive with a silicon melt in comparison with its inner layer, within a layer of 150 μm from the surface of the quartz crucible so as to make the erosion speed higher than the formation speed of a crystal nucleus.例文帳に追加

石英ルツボの表面より150μm以内の層に、それより内側層よりシリコン融液との反応性が高い層を形成し、結晶核の生成より溶損速度を速くして、剥離の原因となるブラウンマークの個数を減少させる。 - 特許庁

To provide a laser diode of a nitride semiconductor in which a ridge structure is formed by an n-type layer, instead of a ridge structure of a p-type layer which is high in resistance in comparison with the n-type layer, and has a difficulty of ohmmic contact formation, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

n-タイプ層に比べて抵抗が大きく、オーミックコンタクト形成の難しさを持っているp-タイプ層のリッジ構造の代わりに、n-タイプ層にリッジ構造を製作する窒化物半導体のレーザダイオード及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Next, an insulating paste such as a glass paste or the like is applied to the holes 30 by a screen printing, the print formation for forming the insulating film layer 22 on the inner wall is conducted, and the under conductive film layer 21 is covered by the insulating film layer 22.例文帳に追加

次に、孔部30に対してスクリーン印刷によりガラスペースト等の絶縁ペーストを塗布し、当該内壁へ絶縁性膜層22を形成させる印刷形成を行い、当該絶縁性膜層22により下側の導電性膜層21を覆う。 - 特許庁

In a liquid crystal device 100, a recessed and projecting parts formation layer 13a and an upper layer film 7a made of photosensitive resin 13 and 7 are formed on a lower layer side of a light reflection film 8a in an image display area 10a of a TFT array base plate 10.例文帳に追加

液晶装置100において、TFTアレイ基板10の画像表示領域10aには、光反射膜8aの下層側に感光性樹脂13、7からなる凹凸形成層13aおよび上層膜7aが形成されている。 - 特許庁

In a formation process of the crystalline MgO protective layer 34, printing paste containing a single crystal MgO 34A is applied to a dielectric layer 33 by using a screen printing method and baked at a temperature above a strain point of the dielectric layer 33.例文帳に追加

結晶MgO保護層34の形成工程において、スクリーン印刷法を用いて単結晶MgO34Aを含有する印刷用ペーストを誘電体層33上に塗工して、誘電体層33の歪み点以上の温度で焼成する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic laminate film dispensing with formation of an application layer of an image receiving layer or the like including a binder component used as well as the electrophotographic laminate film providing the image receiving layer including the binder component on the surface of a conventional substrate.例文帳に追加

従来の基体表面にバインダー成分を含む受像層を設けた電子写真用ラミネートフィルムと同様に使用でき、バインダー成分を含む受像層等の塗工層の形成が不要な電子写真用ラミネートフィルムを提供すること。 - 特許庁

Portions 50 of the first immiscible liquid 46 rise from a layer formed by the first immiscible liquid 46 at the bottom of the container 14 leading to the formation of an immiscible layer above the first layer to heat the second immiscible liquid 48.例文帳に追加

第1非混和液46の一部50は、容器14の底にある第1非混和液46によって形成された層から上昇し、第2非混和液48によって第1層から上で非混和形成された層になり、第2非混和液48を加熱する。 - 特許庁

Since the gettering layer 12 contacting the epitaxial film 11 and formed of a carbon diffusion layer is formed, a heavy metal pollution substance in the epitaxial film 11 can be effectively gettered to the gettering layer 12 in, for instance, heat treatment in a device formation process.例文帳に追加

エピタキシャル膜11に接して炭素拡散層からなるゲッタリング層12を形成するので、例えばデバイス形成工程での熱処理時、エピタキシャル膜11内の重金属汚染物質を効果的にゲッタリング層12にゲッタリングすることができる。 - 特許庁

To provide a sheet for protective layer formation forming a protective layer of an optical recording medium having uniform physical properties, to provide its manufacturing method, and also to provide the optical recording medium provided with the protective layer having the uniform physical properties, and its manufacturing method.例文帳に追加

均一な物性を有する光記録媒体の保護層を形成することのできる保護層形成用シートおよびその製造方法、ならびに均一な物性を有する保護層を備えた光記録媒体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The optical film has a fine rugged structure layer, on a base material and a surface protection layer is formed on a ruggedness formation surface of the fine rugged structure layer, and the optical transfer sheet that uses the optical film is also provided.例文帳に追加

基材上に微細凹凸構造層を有する光学フィルムであって、前記微細凹凸構造層の凹凸形成面上に、表面保護層が形成されていることを特徴とする光学フィルムおよびそれを用いた光学用転写シートである。 - 特許庁

To provide a method for forming on a silicon surface a surface passivation layer comprising an Al_2O_3 layer, by which good surface passivation quality of the surface passivation layer is maintained while blister formation is avoided even at high temperature.例文帳に追加

シリコン表面に、Al2O3層を備えて表面パッシベーション層を形成するに際し、表面パッシベーション層は、パッシベーション層の良好な表面パッシベーション品質が維持されると共に、ブリスター形成が、高温でも回避される方法を提供する。 - 特許庁

To prevent breaking of wire of a transparent electrode layer by eliminating lack of smoothness of an overcoat layer separating a color conversion part and a luminous part in an organic EL display and ensuing difficulty of formation of an organic EL element layer.例文帳に追加

有機ELディスプレイにおける、色変換部および発光部を隔てるオーバーコート層の平滑性の不足および、それに基づく有機EL素子層の形成の困難性を解消し、透明電極層の断線を防止することを課題とする。 - 特許庁

In a manufacturing method of an electronic component, a laminate 10 is formed in a formation process, where the laminate has a dielectric layer 13, and a first electrode layer 15 and a second one 17 that oppose each other, while the dielectric layer 13 is sandwiched by them.例文帳に追加

本発明に係る電子部品の製造方法では、形成工程において、誘電体層13と誘電体層13を挟んで対向する第1の電極層15と第2の電極層17とを有する積層体10を形成する。 - 特許庁

To provide a formation method of an inter-element separation layer capable of improving controllability in a polishing step of an insulating film formed on a semiconductor substrate and capable of forming the inter-element separation layer having excellent inter-element separation performance.例文帳に追加

半導体基板上に形成された絶縁膜の研磨工程における制御性を向上させ、優れた素子間分離性能を有する素子間分離層を形成する方法を提供する。 - 特許庁

With the film-formation surface of the semiconductor thin-film layer 17 as a laminated surface, the first and the second substrates 1, 11 are laminated while the gate insulating film 9 and the semiconductor thin-film layer 17 are being clamped.例文帳に追加

半導体薄膜層17の成膜表面を貼り合わせ面とし、かつゲート絶縁膜9と半導体薄膜層17とを狭持する状態で第1基板1と第2基板11とを貼り合わせる。 - 特許庁

The resin, which is extruded in the formation of the layer 5, is sandwiched between the substrate sheet 2 and a substrate film 6, so that the substrate sheet 2 and the substrate film 6 can be stuck on each other via the layer 5.例文帳に追加

断熱層5の形成時に押し出される樹脂を基材シート2及び基材フィルム6で挟み込んで基材シート2及び基材フィルム6を断熱層5を介して互いに貼り合わせる。 - 特許庁

In exposing the alignment mark 9 covered with a build-up insulation layer 6, a laser beam is prevented from proceeding at least in a formation position of the barrier layer 50, so that there is no possibility of over-boring.例文帳に追加

ビルドアップ絶縁層6に覆われたアライメントマーク9を露出させる際には、少なくとも、バリア層50の形成位置においてレーザビームの進行が阻止されるので、掘削しすぎる恐れはない。 - 特許庁

The second electrode has a fine line part extending on the second contact layer and a pad part provided at a non-formation region of the second contact layer and electrically connecting with the fine line part.例文帳に追加

前記第2電極は、前記第2コンタクト層の上に延在する細線部と、前記第2コンタクト層の非形成領域に設けられ前記細線部と電気的に接続されたパッド部と、を有する。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor has an undercoat layer and a photosensitive layer on a conductive substrate and is loaded and used in an electrophotographic apparatus for performing image formation using coherent light as exposure light.例文帳に追加

導電性基体上に下引き層および感光層を備え、可干渉光を露光光として用いて画像形成を行う電子写真装置に搭載されて使用される電子写真用感光体である。 - 特許庁

A conventional deposition technique used for the formation of the first insulating layer 3 is capable of arbitrarily controlling the first insulating layer 3 in thickness, exceeding the accuracy of wiring which is presently required to be accurately micronized.例文帳に追加

第1絶縁層3の形成のための堆積の慣用技術は、第1絶縁層3の膜厚を現在必要とされる配線の微細化精度を上回る精度で任意に調整することができる。 - 特許庁

例文

The formation of the gate structure includes a step of recessing a conductive layer in the gate structure, and the step of recessing the conductive layer and the step of forming the recess in the substrate are executed in a single step.例文帳に追加

前記ゲート構造の形成は、ゲート構造内の導電層を凹ませるステップを含み、導電層を凹ませるステップと、基板内に凹部を形成するステップとは、単一ステップで実行される。 - 特許庁




  
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