「formation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

In order to improve the quality and purity of a second epi layer which is formed in a merged epitaxial lateral overgrowth (MELO) step, sealing by poly may be performed after formation of the TBO layer and before the MELO step.例文帳に追加

ポリによる封止が、合併型エピタキシャル横方向過成長(MELO)ステップで形成される第2のエピ層の質および純度を改善するために、TBO層の形成後およびMELOステップの前に実行され得る。 - 特許庁

Thus, a dense solid electrolyte layer 11 with a uniform thickness is directly formed on the surface of the fuel pole 10, facilitating the formation of a high-quality solid electrolyte layer 11.例文帳に追加

このようにして、燃料極１０の表面上に緻密で均一な厚さの固体電解質層１１を直接形成させ、品質の良好な固体電解質層１１を容易に作製することができる。 - 特許庁

A dielectric film of SiO2 is then deposited on the entire surface of the an n-type contact layer 13 followed by formation of a stripe mask pattern 25 extending in the (1-100) direction on the upper surface of n-type contact layer 13.例文帳に追加

次に、ｎ型コンタクト層１３の上に全面にＳｉＯ_2 からなる誘電体膜を堆積し、ｎ型コンタクト層１３の上面の（１−１００）方向に延びるストライプ状のマスクパターン２５を形成する。 - 特許庁

For the substrate 10 for the thin film formation, a stainless steel plate composed of SUS430, for instance, is used as the base material, and an Al layer 16 is formed via an Ni layer 14 on both surfaces of it respectively.例文帳に追加

薄膜形成用基板１０は、基材１２として例えばＳＵＳ４３０からなるステンレス鋼板が用いられ、その両面にそれぞれＮｉ層１４を介してＡｌ層１６が形成されている。 - 特許庁

Alternatively, a mask layer removal process for removing the mask layer and a substrate removal process for removing the substrate area including at least a part of the groove part formation part on the substrate may be added.例文帳に追加

また、マスク層を除去するマスク層除去工程と、基板の溝部が設けられた領域の少なくとも一部を含む、基板の領域を除去する基板除去工程を更に備えてよい。 - 特許庁

To provide an easily adherent film in which interference irregularities after formation of a hard coat layer are hard to be seen, which has good adhesion to the hard coat layer at a high temperature and high humidity, and is suited for optical applications.例文帳に追加

ハードコート層形成後の干渉むらが見えにくく、かつ高温高湿度におけるハードコート層との接着性が良好であり、光学用途に適した易接着フィルムを提供する。 - 特許庁

To prevent short-circuiting phenomenon of the metal deposition layer of the contact hole of a package wafer in advance by performing formation at a corner part, where the contact hole of the package wafer comes into contact with the surface of a device wafer and continuously forming the metal deposition layer there.例文帳に追加

パッケージウエハのコンタクトホールの金属蒸着面の短絡現象を未然に防止することができると共に、パッケージウエハのコンタクトホールとデバイスウエハの表面電極の接続を確実に行う。 - 特許庁

An air W passing through the silica gel bead-fastened layer 101A and flowing into the space 104 passes through again the silica gel bead-fastened layer 101A and flows out of the photocatalyst apparatus, whereby a formation of a shade during irradiation with ultraviolet rays is made less easy and the photodegradation reaction of the photocatalyst is promoted.例文帳に追加

シリカゲルビーズ固着層１０１Ａを通過して空間１０４に流入した空気Ｗは再度シリカゲルビーズ固着層１０１Ａを通過して光触媒装置の外に流出する。 - 特許庁

In the opening formation step, an opening which exposes the pattern 111 for measuring shift in position and a second pattern 102 are formed in a second layer 103, which is stacked so as to be higher than the first layer.例文帳に追加

開口部形成工程では、前記第１層よりも上層に積層した第２層１０３に前記位置ズレ計測用のパターン１１１を露出させる開口部と第２パターン１０２とを形成する。 - 特許庁

The sensor (100) is adapted so as to cause a first reflectivity change upon initial formation of a first contamination layer on the capping layer (108) when the sensor (100) is provided in the system (400).例文帳に追加

センサ（１００）は、センサ（１００）を応用システム（４００）に設けた場合、キャップ層（１０８）の上にある最初の汚染層の初期形成時に最初の反射率変化を生じさせるように適合している。 - 特許庁

To provide a composition for sealing a semiconductor, which enables the formation of a thin resin layer, can prevent the diffusion of a metallic component into a porous interlayer insulating layer, and has excellent adhesion to wiring materials.例文帳に追加

薄い樹脂層を形成可能で、多孔質の層間絶縁層への金属成分の拡散を抑制することができ、配線材料の密着性に優れる半導体用シール組成物を提供する。 - 特許庁

A core formation photosensitive resin layer 3A is formed on a surface of an under-cladding layer 2, and then exposed in a predetermined pattern, and an exposed portion is formed in the core 3.例文帳に追加

アンダークラッド層２の表面に、コア形成用の感光性樹脂層３Ａを形成した後、そのコア形成用の感光性樹脂層３Ａを所定パターンに露光し、その露光部分をコア３に形成する。 - 特許庁

A stripping layer 3 is formed on a first support substrate 1, source/drain electrodes 5 are subjected to pattern formation on the surface of the stripping layer 3, and a gate insulating film 7 is formed while covering the source/drain electrodes 5.例文帳に追加

第１支持基板１上に剥離層３を形成し、次いで剥離層３の表面上にソース／ドレイン電極５をパターン形成した後、これを覆う状態でゲート絶縁膜７を形成する。 - 特許庁

At the formation of the mass transport part 30a on the side of the upper InP clad layer 26, the inventor newly finds out that an InP-embedded layer 30 can be formed with high precision.例文帳に追加

このような上側ＩｎＰクラッド層２６の側面にマストランスポート部３０ａを形成した場合、ＩｎＰ埋込層３０を高い精度で形成できることを発明者らは新たに見いだした。 - 特許庁

A first conducting layer 205 is formed on the whole surface of a semiconductor substrate 201, the layer 205 is made to remain on an alignment mark formation region and storage electrodes 205 are formed on a memory cell region.例文帳に追加

半導体基板２０１の全面に第１の導電層２０５を形成し、位置合わせマーク形成領域に第１の導電層２０５を残存させ、メモリセル領域に蓄積電極２０５を形成する。 - 特許庁

To provide a technique for preventing formation of a heavily-doped n-type region on an interface between a semiconductor base layer and a semiconductor layer, in a crystal growth method of a group III-V compound semiconductor.例文帳に追加

III-V族化合物半導体の結晶成長方法において、半導体下地層と半導体層の界面に高濃度なｎ型領域が形成されることを抑制する技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a coating fluid for forming a transparent conductive layer that enables formation of a transparent conductive layer having such properties as high transmittance, low resistance, low reflectance and high strength with few film defects.例文帳に追加

高透過率、低抵抗、低反射率、高強度の諸特性を有し、かつ膜欠陥の少ない透明導電層の形成を可能とする透明導電層形成用塗液を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a piezoelectric actuator capable of avoiding the formation of a piezoelectric layer on the surface of a recess formed on a diaphragm easily when forming the piezoelectric layer by an aerosol deposition method.例文帳に追加

エアロゾルデポジション法により圧電層を形成する際に、振動板に形成された凹部の表面に圧電層が形成されるのを容易に阻止できる、圧電アクチュエータの製造方法を提供する。 - 特許庁

To inhibit degradation of magnetoresistive effects due to formation of an insulated part in a magnetoresistive element having a spacer layer including the insulated part and a conductive part mixed in its cross section parallel to the surface of the spacer layer.例文帳に追加

スペーサ層が、その面に平行な断面において混在するように絶縁部と導電部とを含む磁気抵抗効果素子において、絶縁部の形成に伴う磁気抵抗効果の劣化を抑制する。 - 特許庁

COATING LIQUID FOR UNDERCOATING LAYER FORMATION, METHOD FOR MANUFACTURING COATING LIQUID, PHOTORECEPTOR HAVING UNDERCOATING LAYER FORMED BY APPLYING COATING LIQUID, IMAGE FORMING APPARATUS USING PHOTORECEPTOR, AND ELECTROPHOTOGRAPHIC CARTRIDGE USING PHOTORECEPTOR例文帳に追加

下引き層形成用塗布液、該塗布液の製造方法、該塗布液を塗布してなる下引き層を有する感光体、該感光体を用いる画像形成装置、および該感光体を用いる電子写真カートリッジ - 特許庁

To provide a formation method of a bank layer that can easily form the bank layer having high accuracy for forming a luminescent element on a pixel electrode on a substrate without needing an alignment process.例文帳に追加

基板上の画素電極上に発光素子を形成するための精度の高いバンク層を容易に形成することが可能であり、アライメント処理が不要なバンク層の形成方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the distribution of an extended diffusion layer in the channel direction upon the formation of the extended diffusion layer by preventing an ion-implanted impurity from penetrating an offset sidewall.例文帳に追加

エクステンション拡散層を形成する際に、イオン注入される不純物がオフセットサイドウォールを突き抜けることを防止して、エクステンション拡散層がチャネル方向へ分布することを抑制することである。 - 特許庁

The surface temperature of the sapphire mono-crystal substrate during the film formation of those gallium nitride layer and aluminum nitride mono-crystal layer is set to be made constant, that is, almost 950°C so that the manufacturing process can be simplified.例文帳に追加

これらの窒化ガリウム層および窒化アルミ単結晶層を成膜している間のサファイア単結晶基板の表面温度はほぼ９５０℃と一定とするので、製造プロセスは簡単となる。 - 特許庁

During image formation, based on a recording order of the color inks, the color ink on the uppermost layer is acquired, and the superposition order of the clear inks on the uppermost layer color ink is acquired from the superposition order information.例文帳に追加

カラーインクの各色に対し、該カラーインクの屈折率よりも小さい屈折率を有するクリアインクをその屈折率の降順に重ねるように、クリアインクの重ね順情報を予め設定しておく。 - 特許庁

In the thermocouple formation process, a sacrificial layer is formed on a substrate 12, and a plurality of thermocouples 13 respectively having 1st end side contact points P1 and 2nd end side contact points P2 are formed on the sacrificial layer.例文帳に追加

熱電対支持工程では、基板１２上に犠牲層を形成し、この犠牲層上に第１端側接点Ｐ１と第２端側接点Ｐ２とを有する複数の熱電対１３を形成する。 - 特許庁

In an element formation region 9 surrounded by the deep trench 6, a P type drain buffer region 10, a drain contact region 11 and a drift region 12 are formed in the top layer of the epitaxial layer 5.例文帳に追加

ディープトレンチ６に取り囲まれる素子形成領域９には、エピタキシャル層５の表層部に、Ｐ型のドレインバッファ領域１０、ドレインコンタクト領域１１およびドリフト領域１２が形成されている。 - 特許庁

Then, this is a manufacture of performing identification of the fluorine polymer film 4, especially using Raman method and Negzaphse method in combination, in formation of each layer of them, and making an upper layer after confirmation of the polymer film.例文帳に追加

そして、その各層の形成において、フラーレン重合体膜４の同定を特にラマン法とネグザフス法とを併用して行い、重合体膜の確認後に上層を製膜する製造方法である。 - 特許庁

The layer containing protein is adsorbed onto the surface of the support so as to surround and go around the long axis of the support, and a bridge formation process is performed by 1-5 moles of a crosslinker for one mole of protein in the layer.例文帳に追加

支持体の表面にタンパク質を含む層を該支持体の長軸を囲んで一周するように吸着させ、該層におけるタンパク質１モルあたり１〜５モルの架橋剤による架橋処理を施す。 - 特許庁

In addition, after the fixing process, a heating process for heating to a temperature which is comparable to that for the melting point of solder is performed, before the resin-insulating layer of the outermost layer is laminated in the wiring laminating section formation process.例文帳に追加

なお、固定工程後であって、配線積層部形成工程において最外層の樹脂絶縁層を積層する前には、はんだの融点と同程度の温度に加熱する加熱工程を行う。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of shortening a tact time of pattern forming, calcining a pattern layer and a dielectric layer in a lump, and totally lowering the cost of pattern formation.例文帳に追加

パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method where a coating liquid for forming a photosensitive layer used at the formation of a photosensitive layer, giving an electrophotographic sensitive body having high sensitivity and high quality can be produced efficiently, in a shorter time.例文帳に追加

高感度で高品質の電子写真感光体を与える感光層を形成する際に用いる感光層形成用塗布液を、より短時間に効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁

The transverse etched layer stretches in the form of a 1.5 μm-wide stripe narrower than the 3 μm-wide ridge, for the formation of a vacancy 50 extending from the both edges of the transverse etched layer to the side walls of the ridge.例文帳に追加

横方向エッチング層は、ストライプ幅がリッジ自体のリッジ幅３μｍより小さい１．５μｍで延在し、横方向エッチング層の両側縁からリッジ側面まで空隙部５０となっている。 - 特許庁

At this time, a donor impurity is added at a concentration at which the formation of holes when the acceptor impurity used for forming the p-type AlGaN layer 107 is mixed in the intermediate layer 108 can be compensated.例文帳に追加

このとき、ｐ−ＡｌＧａＮ層１０７を形成する際に用いられたアクセプタ不純物の、中間層１０８への混入によるホール発生を補償する濃度にドナー不純物を添加する。 - 特許庁

A conductor layer 2 is formed, at least, on a part of the surface of a ceramic element 1, then the conductor layer 2 is spirally cut, and the ceramic element 1 is subjected to a thermal treatment for the formation of the coil component.例文帳に追加

セラミック素体１の少なくとも一部の表面に導体層２を形成し、導体層２を螺旋状に切断した後、熱処理を施して得られるコイル部品の製造方法である。 - 特許庁

The film-formation surface of the semiconductor thin-film layer 9 is set to be a laminated surface, and the first and second substrates 1, 11 are laminated while the protective film 5 and the semiconductor thin-film layer 9 are being clamped.例文帳に追加

半導体薄膜層９の成膜表面を貼り合わせ面とし、かつ保護膜５と半導体薄膜層９とを狭持する状態で第１基板１と第２基板１１とを貼り合わせる。 - 特許庁

To provide a laser beam dicing device that is improved in applicability, such that the device can cope with various processes, such as the formation of a multilayered reformed layer in a wafer, a cutting-accelerating process for a formed reformed layer, and so on.例文帳に追加

ウェーハ内部の多層改質層形成や、形成された改質層への割断促進加工等の様々な加工に対応できる応用性に富んだレーザーダイシング装置を提供すること。 - 特許庁

After an n-type Si layer is epitaxially grown, the silicon oxide film 3 is first evaporated in the formation area A of the high-speed HBT and it is removed therefrom, and then the n-type Si layer is grown.例文帳に追加

その後Ｎ型Ｓｉ層をエピタキシャル成長させると、高速用ＨＢＴの形成領域Ａではまずシリコン酸化膜３の蒸発が起こり除去されてからＮ型Ｓｉ層が成長する。 - 特許庁

To simply and efficiently perform hole formation and adhesive coating on the surface of a galvanized layer in a work where the galvanized layer is formed on the surface of a work body made of metal.例文帳に追加

金属製のワーク本体の表面に亜鉛めっき層が形成されたワークにおける該亜鉛めっき層の表面に孔部を形成するのと接着剤を塗布するのとを簡単且つ効率的に行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a photoelectric conversion device that can suppress variation in power generation output due to change with time in film formation condition of a back transparent electrode layer or back electrode layer.例文帳に追加

裏面側透明電極層または裏面電極層の製膜条件の経時的変化に伴う発電出力のばらつきを抑制することができる光電変換装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To inhibit the formation of transition layers on soil-layer boundary sections, and to ensure layer boundaries in a method for land-forming a ground by forming a plurality of soil layers having different grain sizes in water under a divided state.例文帳に追加

水中に異なる粒径の土層を複数層区分け状態に形成して地盤を造成する方法において、土層境界部での遷移層の形成を抑制し、層境界を確保する。 - 特許庁

This results in partial removal of the gold-plating layer 12 in the laser-irradiated area and formation of the non-soldering area 3 comprising a mixed layer 13 wherein gold and nickel are dispersed.例文帳に追加

その結果、レーザ光の照射領域では、金めっき層１２の一部が除去されるとともに、金とニッケルとが拡散し合い、ニッケルと金との混合層１３からなる非半田付け領域３が形成される。 - 特許庁

To provide a design method of a semiconductor integrated circuit which enables various logic modifications after sample formation by changing the wiring layer alone without changing including the base layer.例文帳に追加

サンプル作成後に様々な論理修正を加える場合に、下地層からの変更を回避して配線層のみの変更で対処可能とする半導体集積回路の設計方法の提供することにある。 - 特許庁

A SOI substrate 2 where a semiconductor layer 5 is formed through a silicon oxide film 4 on a silicon substrate 3, is divided into a semiconductor layer 5 and an element formation region 5a by an element isolation region 6.例文帳に追加

シリコン基板３上にシリコン酸化膜４を介して半導体層５を形成したＳＯＩ基板２を、素子分離領域６により半導体層５を分離して素子形成領域５ａとする。 - 特許庁

Consequently, formation of unnecessary parasitic capacitance between the signal line 120A, and first electrode layer 13 and second electrode layer 16 is avoided, or the size thereof is sufficiently reduced.例文帳に追加

これにより、信号線１２０Ａと、第１電極層１３および第２電極層１６との間における不要な寄生容量の形成が回避され、あるいは、その大きさが十分に低減される。 - 特許庁

Since the plate also has excellent adhesiveness and scratching resistance, the antireflection plate allows the manufacture, without arrangement of a hard coat or an adhesive layer during formation, of the antireflection layer and improves the productivity.例文帳に追加

また、密着性、耐傷つき性も優れているため、反射防止層形成時において、ハードコートや接着層を設けることなく反射防止板を製造することが可能となり、生産性も向上する。 - 特許庁