「formation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve the quality in the case of reproducing in formation stored in a storage layer.例文帳に追加

記憶層に記憶された情報を再生する際の品質を改善する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMATION OF SURFACE PROTECTIVE LAYER OF ORGANIC PHOTORECEPTOR AND ORGANIC PHOTORECEPTOR例文帳に追加

有機感光体の表面保護層形成用組成物及び有機感光体 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT RESISTANT TO FORMATION OF CRACK IN PASSIVATION LAYER例文帳に追加

パッシベーション層のクラックの発生を防止した集積回路の製造方法 - 特許庁

The formation of a seal layer by a thin film is easy and low in cost as compared with the formation of a seal layer by using a cutting operation and is high in processing accuracy despite of these facts.例文帳に追加

薄膜によるシール層の成形は、切削加工によるシール層の成形に比べて容易且つ低コストでありながら、加工精度が高い。 - 特許庁

After the formation of a photoresist layer 12, heat treatment is performed in an oven for about 30 min.例文帳に追加

フォトレジスト層１２を形成後、オーブンで約３０分熱処理を行う。 - 特許庁

FILM FORMATION METHOD OF SEMICONDUCTOR LAYER AND MANUFACTURING METHOD OF PHOTOELECTRIC CONVERSION APPARATUS例文帳に追加

半導体層の製膜方法および光電変換装置の製造方法 - 特許庁

Also, the surface treatment method of a titanium electrode material includes a titanium oxide layer formation step, an alloy layer formation step, and a heat treatment step.例文帳に追加

また、電極用チタン材の表面処理方法は、酸化チタン層形成工程と、合金層形成工程と、熱処理工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

FORMATION OF IRON - ALUMINUM COMPOUND LAYER ON SURFACE OF STEEL MATERIAL例文帳に追加

鉄鋼材料の表面にＦｅ−Ａｌ化合物層を形成する方法 - 特許庁

The conductive path formation region is interrupted by a depletion layer extending from the inversion layer formation region when the gate region is within a range of predetermined voltages.例文帳に追加

導通路形成領域は、ゲート領域が所定の電圧範囲のときには、反転層形成領域から伸びる空乏層により遮断される。 - 特許庁

Next, NH_3 gas is supplied onto a surface of the nucleus formation layer 18 to convert the surface of the nucleus formation layer 18 to the group V, and a group III-V compound layer 24 formed of AlN is formed.例文帳に追加

次に核形成層１８の表面にＮＨ_３ガスを供給して核形成層１８の表面をＶ族化してＡｌＮからなるＩＩＩ−Ｖ族化合物層２４を形成する。 - 特許庁

Further, the conductor pattern layer is a conductive composition layer formed of conductive particles and a resin via a primer layer, it being preferred that the primer layer is thicker at a formation part of the conductor pattern layer than at a non-formation part and the conductive particles are dense nearby the top of a projection as the formation part of the conductor pattern layer and coarse nearby the primer layer.例文帳に追加

更に、導電体パターン層がプライマ層を介して形成した、導電性粒子と樹脂の導電性組成物層で、プライマ層の厚さが導電体パターン層の形成部が非形成部より厚く、且つ導電体パターン層の形成部である凸部の内で導電性粒子が頂上部近傍で密でプライマ層近傍で疎であるのが好ましい。 - 特許庁

The pattern formation layer 2a can be cured by irradiating an ionization radiation to the pattern formation layer 2a which is formed on the irregular pattern of the mold 5 by using a PTFE dispersant to the pattern formation layer 2a being a transfer part 2.例文帳に追加

転写部２となるパターン形成層2aにPTFE分散液を用いたことにより、モールド５の凹凸パターン上に形成したパターン形成層2aに対し電離放射線を照射することで、当該パターン形成層2aを硬化させることができる。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a printed circuit board excellent in an adhesive strength between a surface-layer conductor layer and a surface-layer insulating layer as well as extremely small in a surface roughness of the surface-layer insulating layer, and also suitable for formation of a fine circuit.例文帳に追加

表層導体層と絶縁層との間の接着力に優れ、表層絶縁層の表面凹凸が極めて小さい、細密回路の形成に適したプリント配線板の製造法の提供。 - 特許庁

The silicide formation reaction is controlled so that only the non-oxidized layer 54 of the Co film 50 contributes to the silicide formation reaction.例文帳に追加

シリサイドの生成反応は、Co膜５０の非酸化層５４のみがシリサイドの生成反応に関与するように制御する。 - 特許庁

The insulating substrate 1 is kept in vacuum from the formation of the amorphous semiconductor film 15 to the formation of the protective layer 5.例文帳に追加

また、非晶質半導体膜１５の成膜から保護層５の形成まで、絶縁性基板１を真空中に保持する。 - 特許庁

FORMATION OF TiC-DISPERSED TITANIUM ALLOY COMPOSITE MATERIAL AND FORMATION OF TiC-DISPERSED TITANIUM ALLOY COMPOSITE LAYER例文帳に追加

ＴｉＣ分散チタン合金複合材料の形成方法及びＴｉＣ分散チタン合金複合層の形成方法 - 特許庁

SEED FOR CRYSTAL GROWTH AND ITS FORMATION METHOD, AND SILICON LAYER AND ITS FORMATION METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加

結晶成長のシードとその形成方法、シリコン層とその形成方法および半導体装置とその製造方法 - 特許庁

In the method of manufacturing the color filter using first mixed gas and second mixed gas, the color filter is manufactured by a stopper layer formation step, a colored layer formation step, a photo resist layer formation step, an image formation step, a first etching step, a second etching step and a photo resist layer removal step.例文帳に追加

第１の混合ガスと第２の混合ガスとを用いたカラーフィルタの製造方法において、ストッパー層形成工程と、着色層形成工程と、フォトレジスト層形成工程と、画像形成工程と、第１のエッチング工程と、第２のエッチング工程と、フォトレジスト層除去工程とによりカラーフィルタを製造する。 - 特許庁

The semiconductor layer includes: an inversion layer formation region arranged so as to be opposed to the gate region and used as a channel of the first transistor; and a conductive path formation region formed along the inversion layer formation region or so as to cross the inversion layer formation region and used as a channel of the second transistor.例文帳に追加

半導体層は、ゲート領域に対向するように配置され、第１のトランジスタのチャネルとして用いられる反転層形成領域と、反転層形成領域に沿って、あるいは反転層形成領域と交差するように形成され、第２のトランジスタのチャネルとして用いられる導通路形成領域と、を有する。 - 特許庁

The method for making an integrated circuit includes formation of an aluminum layer close to a semiconductor wafer, and formation of a photo- resist layer close to the aluminum layer at least a part of it is not covered by the photo-resist layer.例文帳に追加

集積回路の製造方法は、半導体ウエハに隣接してアルミニウム層を形成し、このアルミニウム層に隣接して、アルミニウム層の少なくとも一部が覆われないように、フォトレジスト層を形成することを含む。 - 特許庁

The surface of the Cu layer 18 is retreated from areas of the surface of the layer 18 other than areas for formation of the wiring layer 18 to form recesses 20.例文帳に追加

Ｃｕ配線層１８の表面を配線層１８形成部分以外の表面より後退させて凹部２０を形成する。 - 特許庁

It is not necessary to form the film for making the acceptance layer separately from the acceptance layer 2 thereby simplifying the layer formation.例文帳に追加

受理層形成用塗料の塗膜と受理層２とを別々に形成する必要が無くて層構成を簡略化することができる。 - 特許庁

A stripping layer 61 is formed on a support substrate 60, and an electrode formation layer 62 with light reflectivity is formed on the stripping layer 61.例文帳に追加

支持基板６０上に剥離層６１を形成し、剥離層６１上に光反射性を有する電極形成層６２を形成する。 - 特許庁

To provide a high quality GaN-based light-emitting element, in which a GaNP layer or a GaNAs layer is used as an active layer and to provide its formation method.例文帳に追加

ＧａＮＰやＧａＮＡｓを活性層とした良質なＧａＮ系発光素子およびその作成方法を提供すること。 - 特許庁

In the first formation step, a nitride semiconductor layer including at least one layer of Al_xGa_(1-x)N layer 14 is formed on a substrate 11.例文帳に追加

第１形成工程では、基板１１上に、Ａｌ_xＧａ_(1-x)Ｎ層１４を少なくとも一層含む窒化物半導体層を形成する。 - 特許庁

A luminescent layer is stacked by spraying and spreading upper-layer droplets formed of an upper-layer solution containing a luminescent layer formation material on the hole transportation layer.例文帳に追加

そして、正孔輸送層上に、発光層形成材料を含む上層形成溶液からなる上層液滴を濡れ広がらせることによって発光層を積層するようにした。 - 特許庁

After the formation of the hole transportation layer 4a, an upper layer formed of a solution of a material identical to that of the hole transportation layer 4a is formed on the hole transportation layer 4a to form a hole transportation layer 4b.例文帳に追加

正孔輸送層４ａの成膜後、正孔輸送層４ａと同じ材料の溶液からなる上層を正孔輸送層４ａ上に成膜し、正孔輸送層４ｂを成膜する。 - 特許庁

To prevent the formation of a brittle nitride layer during working of a coating HR-120.例文帳に追加

被覆ＨＲ−１２０の稼働時の脆性窒化物層の形成を防止する。 - 特許庁

To improve a condensing rate, and to prevent the formation of an etching damage layer.例文帳に追加

集光率を向上できると共に、エッチングダメージ層の形成を防止する。 - 特許庁

A texture formation layer 2 which is made of a ZnO is formed on a substrate 1.例文帳に追加

基板１上にＺｎＯからなるテクスチャ形成層２が形成されている。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING RESIST COMPOSITION OR COMPOSITION FOR UPPER-LAYER FILM FORMATION FOR LIQUID IMMERSION例文帳に追加

レジスト組成物又は液浸用上層膜形成用組成物の製造方法 - 特許庁

FORMATION METHOD OF FORMING SOLID TONE MULTI-LAYER COATING FILM, AND COATED MATERIAL OBTAINED BY THE SAME例文帳に追加

ソリッド調複層塗膜の形成方法およびそれから得られた塗装物 - 特許庁

Further, the composition for resist lower-layer film formation may contain (D) an acid forming agent and (E) a crosslinking agent.例文帳に追加

更に、（Ｄ）酸発生剤、（Ｅ）架橋剤等を含有することができる。 - 特許庁

To provide a layer formation method which forms a good solid pattern using a droplet discharging apparatus.例文帳に追加

液滴吐出装置を用いて良好なべた状パターンを形成すること。 - 特許庁

This method can be applied to the formation of a semiconductor layer whose Al ratio is 0.4 or smaller.例文帳に追加

Ａｌ混晶比が０．４以下の半導体層についても適用可能である。 - 特許庁

Formation is carried out by embedding a capacitor 10 in a substrate resin layer 3 inside the substrate.例文帳に追加

基板内部の基板樹脂層３にキャパシタ１０を埋め込んで形成する。 - 特許庁

The seal packing 26 and the protection rubber layer 28 are formed by double-color formation.例文帳に追加

シールパッキン２６及び保護ゴム層２８は２色成形により形成されている。 - 特許庁

INK FOR CATALYST LAYER FORMATION AND ELECTRODE USING THE SAME AND MEMBRANE ELECTRODE JUNCTION例文帳に追加

触媒層形成用インク、これを用いた電極及び膜電極接合体 - 特許庁

WATER INK RECEIVING LAYER FORMATION TONER AND DEVELOPER, AND SHEET USING THE SAME例文帳に追加

水性インク受容層形成用トナーおよび現像剤、およびそれを用いたシート - 特許庁

FORMATION METHOD OF OXIDE LAYER AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT INCLUDING THE SAME例文帳に追加

酸化物層の形成方法及びそれを含む半導体素子の製造方法 - 特許庁

The dual-depth buried oxide layer facilitates the formation of an asymmetrical semiconductor structure.例文帳に追加

デュアル・デプス埋め込み酸化物層は、非対称半導体構造を容易にする。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR FORMATION OF CAVITATION JET GROUND HARDENING LAYER BY DISCREPANCY PRESSURE CONVERGENCE例文帳に追加

較差圧合流によるキャビテーション噴流地盤硬化層造成工法と装置 - 特許庁

FORMATION METHOD FOR GROUND LAYER IN MOLDED ELECTRICAL APPARATUS AND SHEATH-GROUNDED MOLDED ELECTRICAL APPARATUS例文帳に追加

モールド電気機器の接地層形成方法および外装接地モールド電気機器 - 特許庁

When a chip 11 wherein a device formation area 2 and a PCM formation area 3 are provided is formed in a wafer 1 as a substrate and an epitaxial layer is formed in the device formation area 2, no epitaxial layer is provided in the PCM formation area 3.例文帳に追加

シリコン基板であるウェハ１内に、デバイス形成領域２とＰＣＭ形成領域３とが設けられたチップ１１を形成し、デバイス形成領域２にエピタキシャル層を形成する際に、ＰＣＭ形成領域３にはエピタキシャル層を形成しない。 - 特許庁

To provide a method of producing a honeycomb structure capable of avoiding the formation of micropores within an adhesive layer and/or coating layer.例文帳に追加

接着層および／またはコート層内でのマクロポアの形成を回避し得るハニカム構造体の製造方法。 - 特許庁