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「film projection」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索
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film projectionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 853



例文

To provide a semiconductor laser device having a reflection-side end surface coat film structure which is suitable to a two-wavelength monolithic semiconductor laser, and also has good projection efficiency and high reliability as a protection film.例文帳に追加

2波長モノシリック半導体レーザに適する、出射効率がよく、保護膜として高い信頼性を有する反射側端面コート膜構造を備えた半導体レーザ素子を提供する。 - 特許庁

The optical element having the anti-reflection film film thickness of which becomes thicker from a center to an outer periphery of the optical element, the optical system, the projection exposing device and the device manufacturing method are provided.例文帳に追加

前記光学素子の中心部から外周へ向かい膜厚が厚くなる反射防止膜を有する光学素子、光学系、投影露光装置、デバイス製造方法を構成する。 - 特許庁

To quantitatively evaluate a pattern formed on a resist film on a processed substrate or a pattern formed by processing the substrate through the resist film as a mask by using a projection exposure device.例文帳に追加

投影露光装置を用いて被処理基板上のレジスト膜に形成されるパターン、或いは該レジスト膜をマスクに該被処理基板を加工して形成されるパターンを定量的に評価する。 - 特許庁

Then an oxide film 5 is formed on the substrate 1 by oxidizing the exposed region of the upper side part of the substrate 1, and a linear projection part 6 is formed along the side surfaces of the film 3.例文帳に追加

次に、半導体基板1の上側部分の露出領域を酸化することにより酸化膜5を形成し、窒化膜3の側面に沿って線状の突起部6を形成する。 - 特許庁

例文

With a projection 106a, remaining at the upper end part of the boarder part between the insulation separation groove 104 and an active element 105 region, a second insulation film 108 formed by the bias ECR-CVD method is deposited by a film-thickness of equal almost to the height of the projection 106a, so that the projection 106a is eliminated for complete planarization over the entire wafer surface.例文帳に追加

この時絶縁分離溝104とアクティブ素子105領域の境界部に上端部に突起106aが残留するが、さらにバイアスECR−CVD法で形成された第2の絶縁膜108を、突起106aの高さと同程度の膜厚で堆積させることにより、突起106aを無くしウェハー全面を完全平坦化する。 - 特許庁


例文

In this manufacturing method, a projection for forming a contact terminal 42 is formed by anistropic etching of a silicon wafer with a silicon dioxide film as a mask, and a cantilever having a projection is formed by anistropic etching the silicon dioxide film on the periphery of the projection in a projecting shape sideways, and a contact terminal 42 and draw-out wiring 40 are formed by using a conductive coating.例文帳に追加

接触端子42を形成するための突起を、二酸化シリコン膜をマスクとして、シリコンウェハの異方性エッチングにより形成して、この突起の周辺の二酸化シリコン膜をコ字形に異方性エッチングすることにより、突起を有した片持ち梁を形成し、導電性被覆を用いて、接触端子42、および引き出し用配線40を形成する。 - 特許庁

A projection for forming the contact terminal 42 is formed by the anisotropic etching of a silicon wafer with a silicon dioxide film as a mask, and the silicon dioxide film around the projection is subjected to the anisotropic etching in a U-shape to form a cantilever beam having the projection, and the contact terminal 42 and a lead wire 40 are formed using a conductive covering.例文帳に追加

接触端子42を形成するための突起を、二酸化シリコン膜をマスクとして、シリコンウェハの異方性エッチングにより形成して、この突起の周辺の二酸化シリコン膜をコ字形に異方性エッチングすることにより、突起を有した片持ち梁を形成し、導電性被覆を用いて、接触端子42、および引き出し用配線40を形成する。 - 特許庁

This device includes a liquid film forming means for forming a liquid film by a surface tension of a sample liquid, a light projection means for projecting light to the liquid film formed by the liquid film forming means, and a light absorption amount measuring device for measuring a light absorption amount by the liquid film of a projected light amount.例文帳に追加

試料液体の表面張力によって液膜を形成する液膜形成手段と、前記液膜形成手段により形成された液膜に対し光を投光する投光手段と、投光された光量の液膜による光吸収量を測定する光吸収量測定器を備えたものである。 - 特許庁

To restrain received luminous energy of reflected light from a film from being varied to maintain measurement precision with high precision, even when a direction of a surface of the film in a light projection point is varied, in a film thickness measuring instrument for calculating a film thickness by projecting light from a light source to the film of a measuring object, and by analyzing the reflected light.例文帳に追加

光源の光を測定対象の膜に投光し、その反射光を解析することにより膜厚を算出する膜厚測定装置において、投光点における膜の表面の向きが変化しても、その膜からの反射光の受光量の変化を抑え、測定精度を高精度に維持する。 - 特許庁

例文

To provide an optoelectronic device manufacturing method by which the film thickness of an oriented film in a substrate is made fixed and the generation of dispersion in the film thickness of an oriented film even between substrates is prevented, an oriented film forming device and an optoelectronic device to be used for carrying out the manufacturing method and a projection type display device using the optoelectronic device.例文帳に追加

基板内において配向膜の膜厚を一定に、かつ、基板間でも配向膜の膜厚にばらつきが発生しない電気光学装置の製造方法、この製造方法の実施に用いる配向膜形成装置、電気光学装置、およびこの電気光学装置を用いた投射型表示装置を提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a resin spring integral type film fixture in which an opening preventing projection resin spring part is integrally situated at a film fixture made of resin when a film is fixed on a pipe, and which is prevented from rusting, can be automatically produced, is low in a cost, and easy to recycle.例文帳に追加

フィルムをパイプに固定するとき、樹脂製フィルム固定具に開き防止凸形状樹脂バネ部を一体に設け、錆びずに自動生産可能でコストの低い、リサイクルし易い樹脂バネ一体型フィルム固定具を提供する。 - 特許庁

In the minimum volume position 18B, the projection 21 contacts with the damper film 18 and a space is formed between the damper film 18 and the bottom face 17b, thereby the damper film 18 is prevented from sticking to the ink reserving recess 17.例文帳に追加

最小容積位置18Bでは、ダンパー膜18に突起21が当接してダンパー膜18と底面17bとの間に隙間が形成されるので、ダンパー膜18がインク貯留用凹部17に張り付くことが防止される。 - 特許庁

When the incident light reaches an optical reflection film 61, the incident light is reflected in the optical reflection film 61 and the reflected light is multiply reflected between each of faces of a projection outer wall section 62b and the optical reflection film 61.例文帳に追加

その入射光が光反射膜61に到達すると、その入射光は、光反射膜61で反射され、その反射光は、凸状外壁部62bの複数の面の各々と光反射膜61との間で多重反射される。 - 特許庁

On a color separating and synthesizing section 20 including the dichroic film to separate colors and a polarizing film to synthesize colors, a wavelength component to be a projection light beam 5 is made incident in a polarization direction in which the dichroic film 23 exhibits excellent characteristics.例文帳に追加

色分離を行うダイクロイック膜と色合成を行う偏光膜を含む色分離合成部20に、投影光5となる波長成分をダイクロイック膜23が良好な特性を示す偏光方向で入射させる。 - 特許庁

Thereby, an SiON film in a part which is subjected to ion implantation turns into an Si layer containing a very small amount of N, and the projection part 23 of the island-like Si thin-film layer 33 and the polycrystalline Si film 6 for a gate electrode are connected electrically.例文帳に追加

これによりイオン注入された部分のSiON膜はNを微量に含んだSi層となり、島状Si薄膜層33の突出部23とゲート電極用の多結晶Si膜6は電気的に接続される。 - 特許庁

Recession/projection receiving the surface roughness of the inorganic coating film 3 is formed on a surface of the photocatalyst-containing inorganic coating film 4, a surface area of the photocatalyst-containing inorganic coating film 4 becomes large and a photocatalyst effect can be obtained at a higher degree.例文帳に追加

また無機塗膜3の表面粗さを受けた凹凸が光触媒含有無機塗膜4の表面に形成され、光触媒含有無機塗膜4の表面積が大きくなって光触媒効果を高く得ることができる。 - 特許庁

In such a manner, the recess amount from the medium opposing surface of the magnetic element in the thin film shape is highly accurately controlled and the projection amount of the main magnetic pole tip part is also extremely finely and precisely controlled by the film thickness of the thin film simultaneously.例文帳に追加

このようにすれば、薄膜状の磁気要素の媒体対向面からのリセス量を高精度に制御でき、同時に主磁極先端部の突出量も薄膜の膜厚により極めて微小且つ精密に制御できる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin film inductor capable of performing gap control with high accuracy which is required to the thin film inductor having a projection, and to provide the thin film inductor having a gap structure formed with such high accuracy.例文帳に追加

突起部を有する薄膜インダクタに対して要求される精度の高いギャップ制御を実現できる薄膜インダクタの製造方法、及び、そのように高い精度で形成されたギャップ構造を有する薄膜インダクタを提供する。 - 特許庁

To obtain a thin film magnetic head in which insulation between coil contacts can be secured and the projection of a recording element part due to the generated heat of coils can be suppressed.例文帳に追加

コイルコンタクト間の絶縁性を確保でき、且つ、コイル発熱による記録素子部の突出を抑制可能な薄膜磁気ヘッドを得る。 - 特許庁

To provide a multi-domain vertical alignment type liquid crystal display which has projection parts and slits formed only in a thin film transistor array.例文帳に追加

薄膜トランジスタアレイだけに突出部とスリットとを形成されたマルチドメイン垂直配向型液晶ディスプレイを提供することである。 - 特許庁

VACUUM EVAPORATION SYSTEM, OPTICAL ELEMENT FILM-FORMED BY USING THE VACUUM EVAPORATION SYSTEM, OPTICAL-SYSTEM, PROJECTION ALIGNER, AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE例文帳に追加

真空蒸着装置、および該真空蒸着装置を用いて成膜した光学素子、光学系、投影露光装置、デバイス製造方法 - 特許庁

The cellulose acylate film is deposited by a melt flow casting method which keeps projection oblique stripes in a quantity of 0/10-30/10 cm.例文帳に追加

投影斜めスジが0本/10cm〜30本/10cmであることを特徴とする溶融流延製膜したセルロースアシレートフィルム。 - 特許庁

To more reliably perform control of liquid (for example, formation or removal of a liquid film) in the space under a projection optical system.例文帳に追加

投影光学系の下方の空間における液体の制御(例えば、液膜の形成または液膜の除去)をより確実に行う。 - 特許庁

The high-voltage electrode 2 is constituted of a conductor 4 and a covering film 5 comprising of a semi-conductive material, and possesses a projection 6 on the surface.例文帳に追加

高圧電極2は導電体4と半導電性材料からなる被覆膜5で構成され、その表面には突起6がある。 - 特許庁

The clearance is formed of a projection part 12a provided on an overcoat film 12 formed on the surface of the color filters 11a and 11b.例文帳に追加

この間隙は、カラーフィルタ11a,11bの表面上に形成されるオーバコート膜12に設けた突起部12aにより形成する。 - 特許庁

A resistance film 30 and first and second electrodes 31, 32 are formed in the vicinity of the projection 23d, thereby forming a heating element 20.例文帳に追加

突起部23dの近傍に抵抗膜30と第1及び第2の電極31,32とを形成し、発熱素子20を構成する。 - 特許庁

The alignment control projection 40c functions as a spacer controlling the gap between the color filter substrate 12 and thin-film transistor substrate 14.例文帳に追加

配向規制突起40cはカラーフィルタ基板12と薄膜トランジスタ基板14との間隙を規制するスペーサとしての機能を有する。 - 特許庁

To obtain a uniform thin film without deposition of projection-like foreign matter when Co or a Co alloy is vapor deposited on the material to be metallized.例文帳に追加

被蒸着材にCoもしくはCo合金を蒸着する際に、突起状の異物が付着しない均一な薄膜を得る。 - 特許庁

The thin-film-like member 72 includes a projection piece section 72c radially spreading toward an outer-periphery section from the inner-periphery section of the cap body 71.例文帳に追加

薄膜状部材72は、キャップ本体71の内周部から外周部に向けて放射状に広がる突片部72cを有する。 - 特許庁

FILM FORMATION METHOD ONTO SUBSTRATE HAVING RECESS/PROJECTION STRUCTURE SURFACE AND METHOD FOR MANUFACTURING ATMOSPHERIC PRESSURE SUPPORT MEMBER OF IMAGE FORMATION DEVICE USING IT例文帳に追加

凹凸構造表面を持つ基板への成膜方法、及びそれを用いた画像形成装置の大気圧支持部材の製造方法 - 特許庁

To provide an organic thin film solar cell element that has a conductive fine uneven (fine projection) structure and is high in photoelectric conversion efficiency.例文帳に追加

導電性の微細な凹凸(微細突起)構造を有し、光電変換効率の高い有機薄膜太陽電池素子を提供する。 - 特許庁

The graphic article 10 is a punched film on which an image is formed, and the projection system includes a projector 34 and a diffuser screen 32.例文帳に追加

グラフィック物品10は穿孔された画像形成されたフィルムであり、プロジェクションシステムは、プロジェクタ34と、ディフューザスクリーン32とを含む。 - 特許庁

The method of eliminating a mask projection laser abrasion engraving defect from a metallic film deposited on a flexible carrier is provided.例文帳に追加

本発明は、フレキシブルキャリア上に堆積された金属膜からマスク投影レーザーアブレーション彫刻欠陥を除去する方法に関する。 - 特許庁

By these ion beam irradiations, the thin film having c-axis oriented along the orthogonal projection of the ion beam onto the surface of the substrate is formed.例文帳に追加

このようなイオンビーム照射により、基板表面へのイオンビームの正射影に沿ってc軸が配向したに薄膜が形成される。 - 特許庁

The size d of the tip part 11 of the projection part 10 where the light shielding film 3 is removed is turned to be about 1/2 or less of an emitted light wavelength.例文帳に追加

光遮断膜3を除いた突起部分10の先端部分11の大きさdは発光波長の1/2程度以下とする。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PROJECTION DEFECT IN LIGHT DIFFUSING MEMBER, LIGHT DIFFUSING MEMBER AND TRANSFER FILM BY USING THE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

光拡散部材の突起欠陥修正方法並びにこれを用いた光拡散部材、転写フィルム及びそれらの製造方法 - 特許庁

A resin 6 is applied except for a part of the membrane electrode 5a and the projection electrode 5b of a semiconductor chip 5 forming the membrane electrode 5a on the rear face and the projection electrode 5b on the surface respectively, and a conducting film 7 is formed on a face exposing a part of the projection electrode 5b of the resin 6.例文帳に追加

裏面に膜電極5aを、表面に突起電極5bをそれぞれ形成した半導体チップ5の裏面電極5a及び突起電極5bの一部を除いて樹脂6で被覆し、この樹脂6の突起電極5bの一部が露呈した面に導電膜7を形成する。 - 特許庁

Then a first mold which is made of an active energy ray transmissive material, and has a projection portion formed on a surface and also has an active energy ray shield film formed at the projection portion is pressed against the resin layer from above to form a recessed portion, corresponding to the projection portion of the first mold, in the resin layer.例文帳に追加

次に、その樹脂層の上から、活性エネルギー線透過性材料で作製され、表面に凸部が形成されており、その凸部に活性エネルギー線遮蔽膜が形成された第一のモールドをプレスして、樹脂層に第一のモールドの凸部に対応した凹部を形成する。 - 特許庁

Therefore, at least a part of the formation of a projection is suppressed by absorbing a portion corresponding to the projection of the connecting electrode 15 closer to the outer circumference of a print film thickness by the recess 14 and damming of the adhesive 16 used for sticking the piezoelectric element 30 caused by the projection is prevented.例文帳に追加

従って、接続電極15の印刷膜厚の外周寄りの盛り上がりに相当する部分が凹部14に吸収されて盛り上がりの少なくとも一部の発生が抑制され、圧電素子30の貼り合わせに用いる接着剤16の前記盛り上がりによるせき止めが防止される。 - 特許庁

The diamond film 2 is formed on a substrate 1, and has abnormal growth diamond projection parts 4, defined to have a transverse direction span size 5 of ≥3/4 of an average film thickness 6 of the diamond film 2 on the growth surface of the film 2, of 100 or less per 1 cm^2.例文帳に追加

基材1上に形成されたダイヤモンド膜2であって、ダイヤモンド膜2の平均膜厚6の値の3/4以上の横方向差し渡しサイズ5を有する突起部4で定義される、膜2の成長面の異常成長ダイヤモンド突起部4が、1cm^2当たり100個以下であるダイヤモンド膜2。 - 特許庁

In this case, a flank of the low-dielectric-constant film 4 outside the groove 6 is exposed, but even if the exposed low-dielectric-constant film 4 peels, only the flank of the projection film 10 is exposed and the low-dielectric-constant film 4 inside the groove 6 never peels successively thereto.例文帳に追加

この場合、溝6の外側における低誘電率膜4の側面が露出されているが、この露出された低誘電率膜4が剥離しても、保護膜10の側面が露出されるだけであり、溝6の内側における低誘電率膜4がそれに続いて剥離することはない。 - 特許庁

The projection type display device is provided with; a light source 30; a light incident side polarizer 33; a liquid crystal light valve 35; a light exiting side polarizer 36; a projection lens 38; and an optical phase compensation plate 39 on which a reflection preventing film 41 having high moisture absorbing/releasing properties and a low film density is formed.例文帳に追加

光源30と、入射側の偏光子33と、液晶ライトバルブ35と、出射側の偏光子36と、投写レンズ73と、吸放湿性の高い、低膜密度の反射防止膜41を形成した光学位相補償板39とを備えて、投写型表示装置を構成している。 - 特許庁

A light shielding film which is thinner than the light shielding agent dispersed layer is provided at a position remote from the position facing the light shielding agent dispersed layer on an upper surface of a transparent plate and the light shielding film is used as an object for adjusting the focus in an observation optical system for positioning and a projection optical system for reducing projection.例文帳に追加

透明板の上面の遮光剤分散層に対向する部位から外れた部位に、遮光剤分散層よりも薄い遮光膜を備えて、遮光膜を位置合わせのための観察光学系や縮小投影のための投影光学系のピント合わせの対象とする。 - 特許庁

The manufacturing method of a film forms a film having a through-hole on a base material by using an intaglio plate which has a recessed part for filling paste, has a projection part inside the recessed part and has a liquid-repellent region on an upper surface of the projection part and transferring the paste filled in the recessed part to the base material.例文帳に追加

ペースト充填用の凹部を有すると共に凹部内に凸部を有し、凸部の上面に撥液性領域を有する凹版を用い、凹部に充填されたペーストを基材に転写することにより、基材上に、貫通孔を有する膜を形成する膜の製造方法。 - 特許庁

Irregular reflection of light is generated by a fine projection/recession by transferring a recession/projection shape 7 of fabric pattern onto the surface and the fabric tone can be further expressed as compared with when it is expressed only by the coating film layer 5.例文帳に追加

表面に織物パターンの凹凸形状7を転写することにより、微細な凹凸による光の乱反射が起こり、塗膜層5だけで表現した時よりも更に布らしさを表現することができる。 - 特許庁

To provide an optical system which separates colors with a dichroic film and a multi-plate type projection device with the same, the optical system and the multi-plate type projection device causing little loss of light quantity and having excellent color reproducibility.例文帳に追加

本発明は、ダイクロイック膜により色分離する光学系及びこれを備えた多板式投影装置に関し、光量ロスが少なく色再現性の良い光学系及び多板式投影装置を提供する。 - 特許庁

The projection display device 100 is composed of two lamps 105 and 106, an illumination optical system 104, a display panel 103, a projection lens 102, a screen 101, a control device 110 and a film-holding mechanism 107.例文帳に追加

投写表示装置100は、2つのランプ105、106と、照明光学系104と、表示パネル103と、投写レンズ102と、スクリーン101と、制御装置110と、フィルム保持機構107とから構成されている。 - 特許庁

An organic film 8 which is applied on a liquid crystal TFT substrate or CF substrate 9 and has a photoreactive group is irradiated with the reduced or enlarged laser light 7 having passed through the reduction projection or enlargement projection lens 6 to form the liquid crystal alignment film on the organic film 8 having the photoreactive group.例文帳に追加

縮小投影または拡大投影レンズ6を透過した縮小または拡大されたレーザー光7を液晶TFT基板またはCF基板9上に塗布された光反応性基を有する有機膜8に照射することにより、光反応性基を有する有機膜8上に液晶配向膜を形成することができる。 - 特許庁

The recessed part 17 communicating with the atmosphere communication port 14 of the ink cartridge 10 and sealed by a breakable film 19 is provided and a projection 9 for breaking the film 19 is formed to the lever 8 of a holder 4 at the position opposed to the recessed part and the film 19 is broken by the projection 9 by only pushing down the lever 8 to open the ink cartridge 10 to the atmosphere.例文帳に追加

インクカートリッジ10の大気連通口14に連通し、破断可能なフィルム19により封止された凹部17を備え、またホルダ4のレバー8には凹部と対向する位置にフィルム19を破断する突起9を形成して、レバー8を押し下げるだけで突起9によりフィルム19を破断してインクカートリッジ10を大気に開放せる。 - 特許庁

例文

In this case, an area having a low a dislocation density is formed in the upper part of the projection where facet plane is formed, and the prepared film has high quality.例文帳に追加

この場合、ファセット面が形成された凸部上部には低転位領域が形成され、作製した膜の高品質化が図れている。 - 特許庁




  
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