「film projection」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

An island-like conductive film is formed over a surface of an insulating substrate in a portion corresponding to a channel forming region, and is covered with an insulating film to form a projection portion.例文帳に追加

絶縁性基板の表面のチャネル形成領域に対応する箇所に島状導電膜を形成し該島状導電膜を絶縁膜で覆って凸部を形成する。 - 特許庁

At this time, the stack H is wound in a state in which a projection portion of the peeling film G is abutted on the reverse surface (the surface on the opposite side to the rubbing processing surface) of the long plastic film F.例文帳に追加

このとき、剥離フィルムＧの凸部が長尺プラスチックフィルムＦの裏面（ラビング処理面とは反対側の面）に当接した状態で積層体Ｈが巻回される。 - 特許庁

It is possible to restrain generation of troubles such as a seam and a void in a hydrogen protection film and excessive etching of the hydrogen protection film in a projection part when a capacity contact is opened.例文帳に追加

水素保護膜中のシーム、ボイド等の不具合の発生や、容量コンタクトを開口する時に凸部の水素保護膜が過度にエッチングされることを抑制することができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a film which has flat upper surface and has excellent uniformity of a film thickness without being influenced by the projection/recess of the surface of a material to be applied.例文帳に追加

被塗布物表面の凹凸に影響されることなく、上面が平坦でかつ膜厚の均一性に優れた膜を形成できる膜形成方法を提供する。 - 特許庁

Since the projection height of the outer circumferential part spacer projections 211 becomes shorter than the projection height of the pixel area spacer projections 210 by the thickness of the color filter layers 201 and 202, a recessed part 12 or cut part 13 of a thick resin film 150 is provided at the part of the film 150 which is made to butt against each pixel area spacer projection 210.例文帳に追加

外周部スペーサ突起２１１の突出高さは、このカラーフィルタ層２０１，２０２の分だけ画素領域スペーサ突起２１０の突出高さよりも小さくなってしまうので、画素領域スペーサ突起２１０に突き当てられる個所に、厚型樹脂膜１５０の凹部１２または抜き部１３を設ける。 - 特許庁

The projection welding method is characterized in that in the projection welding, where one or both sides of base metal are high carbon steel material or high tensile strength low alloy steel material, a thin plate or a spacer composed of plating film is interposed between the base metals to perform, projection welding.例文帳に追加

母材の片側または両方が高炭素鋼材または高張力低合金鋼材からなるプロジェクション溶接において、母材間に薄板またはめっき被膜からなるスペーサを介在させてプロジェクション溶接することを特徴とする。 - 特許庁

The minute molding mold for molding a negative type photosensitive film to be molded has a molding surface having a projection 161, a light transmitting part ranging from the back of the molding surface to the molding surface, and a shading part forming a projection region which includes the tip of the projection and protrudes from the tip of the projection in the negative type photosensitive film to be molded.例文帳に追加

微細成形モールドは、ネガ型感光性成形対象膜を成形するための微細成形モールドであって、凸部１６１を有する成形面と、前記成形面の裏面から前記成形面に至る透光部と、前記凸部の先端を内包し前記凸部の先端からはみ出す投影領域を前記ネガ型感光性成形対象膜に形成する遮光部と、を備える。 - 特許庁

A through hole 52 of the film bag 50 is hooked to an L-shaped projection 22 of a film bag suspension mechanism 2, and a portion in the vicinity of an end 56 of the film bag 50 is held and fixed by a film bag fixing part 11 by a predetermined operation of an operation lever 16.例文帳に追加

フィルム袋５０の貫通孔５２をフィルム袋懸架機構２０のＬ字状の突起２２に懸架し、操作レバー１６の所定の操作によりフィルム袋固定部１１でフィルム袋５０の端部５６の近傍を押さえ固定する。 - 特許庁

To provide a formation method of a silicon oxide film in which, upon forming a round shape at a corner of silicon at an upper end of a projection of a pattern, the silicon oxide film can be formed at a uniform film thickness without causing a film thickness difference by a nondense and dense state of the pattern.例文帳に追加

パターンの凸部上端のシリコンのコーナーに丸み形状を形成した上で、パターンの疎密による膜厚差を生じさせずに均一な膜厚でシリコン酸化膜を形成することが可能なシリコン酸化膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

A connection confirming bump 13 rises from the surface of an interlayer insulation film 23 facing the through hole 27, and projects from the surface protective film 25 at a projection quantity smaller than the projection quantity of the functional bump 12, piercing the through hole 27.例文帳に追加

また、接続確認用バンプ１３は、貫通孔２７に臨む層間絶縁膜２３の表面から隆起し、貫通孔２７を貫通して、表面保護膜２５上に機能バンプ１２の突出量よりも小さな突出量で突出している。 - 特許庁

To provide a vacuum evaporation system which can stabilize film-forming speed and thin film characteristic, and to provide an optical element film-formed by using the vacuum evaporation system, an optical-system, a projection aligner, and a method for producing a device.例文帳に追加

成膜速度や薄膜特性を安定させることが可能となる真空蒸着装置、および該真空蒸着装置を用いて成膜した光学素子、光学系、投影露光装置、デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

The electromagnetic wave shielding film 1 is provided with a substrate film 2 formed of resin, a metal layer 3 laminated on the upper face of the substrate film 2 and projection films 4 and 40 which are laminated on the upper face of the metal layer 3 and are formed of resin.例文帳に追加

電磁波シールドフィルム１は、樹脂からなる基材フィルム２と、基材フィルム２の上面に積層した金属層３と、金属層３の上面に積層した樹脂からなる保護フィルム４、４０とを有する。 - 特許庁

The optical film 200 includes a reflective polarizing film 210; a first primer layer 220 disposed on the reflecting polarization film 210; and a first projection part 230 disposed on the first prime layer 220.例文帳に追加

光学フィルム２００は反射型偏光フィルム２１０、前記反射型偏光フィルム２１０上に位置する第１プライマー層２２０及び前記第１プライマー層２２０上に位置する第１突出部２３０を含む。 - 特許庁

On the TFT array substrate 10 of a reflective electrooptical device 100, a recess and projection forming film 13a, a pixel electrode 9a, an upper layer insulation film 7a and a light reflection film 8a are formed in the order.例文帳に追加

反射型電気光学装置１００のＴＦＴアレイ基板１０には、凹凸形成膜１３ａ、画素電極９ａ、上層絶縁膜７ａおよび光反射膜８ａがこの順に形成されている。 - 特許庁

At annealing, a semiconductor film which is non-meltable in part is left at the thick-film (13a) part, and a polycrystalline silicon film (131) whose crystal grains are large is formed from the projection part of the non-meltable part to at least the channel region.例文帳に追加

それにより、アニールの際に、厚膜(13a)部分に一部非溶融の半導体膜を残し、この非溶融部分の突出部分から少なくともチャネル領域に大結晶粒の多結晶シリコン膜(131)を成長させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical film provided with an unevenness with a flat face excellent in smoothness at its front end of a projection.例文帳に追加

凸部先端に、平滑度に優れた平坦面を有する凹凸が付与された光学フィルムを製造する方法を提供する。 - 特許庁

REFLECTOR, LIGHT SOURCE APPARATUS USING THE SAME, PROJECTION TYPE DISPLAY APPARATUS EQUIPPED WITH THE LIGHT SOURCE APPARATUS, AND METHOD FOR FORMING REFLECTION FILM OF REFLECTOR例文帳に追加

リフレクタ、これを用いた光源装置、この光源装置を備えた投射型表示装置及びリフレクタの反射膜形成方法 - 特許庁

A projection member 42 is made to project from the inside of a cartridge chamber cover 21 so that the member 42 may be fitted into the spool hole of a film cartridge 23.例文帳に追加

突起部材４２をフイルムカートリッジ２３のスプール穴に係合するようにカートリッジ室蓋２１の内部から突出させる。 - 特許庁

An exposure quantity in the projection exposure is preferably 1.05-2.0 times an exposure quantity when exposing without peeling the carrier film.例文帳に追加

投影露光における露光量は、キャリアフィルムを剥離せずに露光する場合の露光量に比べ１.０５〜２.０倍が好ましい。 - 特許庁

The obtained transparent conductive laminate film can be used for a transparent electrode substrate of a projection type capacitance type touch panel and the like.例文帳に追加

得られた透明導電性積層フィルムは、投影型静電容量方式タッチパネルの透明電極基板等に利用できる。 - 特許庁

A projection screen panel 200 has structure sticking a screen film 210 having small holes to the surface of a supporting panel 220.例文帳に追加

投影スクリーンパネル２００は、支持パネル２２０の表面に小穴のあいたスクリーンフィルム２１０が貼着された構造を有する。 - 特許庁

Since the upper layer insulation film 7a in a region surrounded by a frame-like projection 13b is removed, the wide reflection surface 8f is secured.例文帳に追加

枠状突起１３ｂで囲まれている領域の上層絶縁膜７ａが除去されているので、反射面８ｆが広い。 - 特許庁

To provide a polyester film almost free from coarse projection and defects, and excellent in surface properties, oligomer deposition-inhibiting properties and productivity.例文帳に追加

粗大突起・欠点が少なく、表面性に優れ、オリゴマー析出抑制性、生産性に優れたポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The recess/projection pattern 22A is formed on the outer periphery surface of the base layer 22 by pressing a transfer film 82 formed with a recess/projection pattern 82A on the outer periphery surface of the base layer 22 of the decorative member 10.例文帳に追加

ここで、凹凸柄８２Ａが形成された転写フィルム８２を加飾部材１０のベース層２２の外周面に圧着して、ベース層２２の外周面に凹凸柄２２Ａを形成する。 - 特許庁

Pseudo foreign matter P is formed out of projection parts 2 made of a high melting point metal formed on an upper face of the wafer 1 and a coating film 3 formed on the whole of the upper face of the wafer 1 including the projection part 2.例文帳に追加

ウェハ１の上面に形成された高融点金属からなる凸部２と、この凸部２を含むウェハ１の上面全体に形成された被覆膜３とで、疑似異物Ｐを形成する。 - 特許庁

In the projection region, a mode filter 115 which is an optically transparent dielectric film provided surrounding a center part of the projection region is formed to an optical thickness of λ/4.例文帳に追加

また、射出領域内には、該射出領域の中心部を取り囲んで設けられた光学的に透明な誘電体膜であるモードフィルタ１１５がλ／４の光学的厚さで形成されている。 - 特許庁

At a boundary part between respective microlenses, a groove or a projection is formed along the bisector 22 of a segment drawn between the centers of the microlenses, and a light absorbing film 24 is formed on the groove or the projection.例文帳に追加

各微小レンズの境界部分には、微小レンズの中心を結ぶ線分の２等分線２２に沿って溝または突条加工が施され、その上に光吸収性膜２４が形成されている。 - 特許庁

As a result, when the spin coating is performed on the substrate with the recession/projection, generation of nonuniformity of the film thickness can be prevented by volatilizing the solvent at the time when the solution is reduced until an influence of the recession/projection is received.例文帳に追加

その結果、凹凸のある基板上でスピンコートを行う場合、凹凸の影響を受けるまで溶液が減少した時点で溶媒が揮発し膜厚ムラの発生を防止することができる。 - 特許庁

Thereby, the thickness of the resin layer is reduced by etching to form a flattening film 25 in forming the spacer projection 2, and a through hole 23 as a surrounding groove is formed around the spacer projection.例文帳に追加

そのため、エッチングによりスペーサ突起２の形成と同時に、厚さが減じられて平坦化膜２５が形成されるとともに、スペーサ突起の四周には周溝状のスルーホール２３が形成される。 - 特許庁

When a braking force F is applied during traveling on wet roads, the blocks are inclined and the projection 28 comes into contact with the road surface so that a water film formed thereon is wiped away earlier than a projection end 18D.例文帳に追加

湿潤路面走行中に、制動力Ｆが作用すると、ブロックは倒れ込み蹴出側突起部２８は湿潤路面に接地してブロックの蹴出端１８Ｄより先に湿潤路面の水膜を掃く。 - 特許庁

A semiconductor device comprises: a resin projection 18 arranged on a passivation film 16; and a plurality of wires 20 that are extended so that they reach an area on the resin projection 18 from an area on a plurality of pads 14 and are arranged with a gap mutually on the resin projection 18.例文帳に追加

半導体装置は、パッシベーション膜１６上に配置された樹脂突起１８と、複数のパッド１４上から樹脂突起１８上に至るように延び樹脂突起１８上では相互に間隔をあけて配置されている複数の配線２０と、を有する。 - 特許庁

Due to the heat caused by friction between a projection part of a metal film existing in the face and the polishing pad 4, increase in temperatures is caused locally in the etchant, and the etching rate of the etchant is accelerated, and the projection part of the metal film is selectively etched to flatten, and thereafter it is uniformly etched to remove the metal film.例文帳に追加

被研磨面内に存在する金属膜の凸部と研磨パッド４との摩擦により生じる摩擦熱によって、エッチング溶液に局部的な温度上昇を生じさせて、エッチング溶液のエッチングレートを促進させ、金属膜凸部を選択的にエッチングして平坦化し、その後、一様にエッチングして金属膜を除去する。 - 特許庁

To provide a polylactic acid-based film suitable for a transparent packaging film obtained by improving rolled shape and poor appearance, more particularly, to provide a film without drawbacks such as film surface transcribed defects and projection-like defects in an appearance of the product roll.例文帳に追加

本発明は、巻き姿、外観不良を改良して、透明で包装用フィルムとして好適なポリ乳酸系フィルムに関するものであり、更に詳しくは、製品ロール外観のフィルム面転写状の欠点、突起状の欠点のないフィルムを提供せんとするものである。 - 特許庁

To provide a spin coat apparatus capable of reducing nonuniformity of a film thickness generated when a viscosity of a used solution is low and increasing the film thickness without nonuniformity of the film thickness even in a solution of a low concentration in a spin coat film formation on a substrate having a recession/projection, and a spin coat method.例文帳に追加

凹凸を有する基板上へのスピンコート成膜において、使用溶液の粘度が低い場合に生じる膜厚ムラを低減し、また低濃度の溶液でも膜厚ムラの無く膜厚を増加できるスピンコート装置およびスピンコート方法を提供する。 - 特許庁

A semiconductor substrate 1 which has a connection electrode 2 and is provided with a first metal film 4 and a second metal film 5, and an electrical connection projection 10 on the connection electrode 2 is provided with a metal protection layer 6 adjacently to an outer circumferential part of the electric connection projection 10.例文帳に追加

接続用電極２を有し、接続用電極２の上に第１金属膜４と第２金属膜５と電気接続突起１０を設けた半導体基板１において、電気接続突起１０の外周部に隣接するように、金属保護層６を設ける。 - 特許庁

In the carrier film, the maximum projection height of the surface on the side whereon the stock solution for manufacturing the optical film is cast is made R_maxA, while the maximum projection height of the surface on the side whereon the stock solution is not cast is made R_maxB.例文帳に追加

この光学フィルム製造用キャリアフィルムにおいて、光学フィルムを製造するための原料溶液が流延される側の表面の最大突起高さをＲ_ｍａｘＡとし、原料溶液が流延されない側の表面の最大突起高さをＲ_ｍａｘＢとする。 - 特許庁

The wall part and the projection part are covered with a hydrophilic coating film capable of absorbing an evaporative liquid and capable of discharging its liquid again by evaporation, and a heat transfer surface and the projection part are cooled by the wetted coating film and thereby.例文帳に追加

壁部および突出部は、蒸発性液体を吸収し、それを再び蒸発により放出することができる親水性皮膜で覆われており、湿潤された皮膜、それにより熱伝導表面および突出部が冷却されるようになっている。 - 特許庁

The projection screen (3) has this support plate (1) of the film lenticular lens, the film lenticular lens (6) adhered on the other side (1b), and a Fresnel lens (7) disposed apart from them, and is suitably used in a projection display (2) which projects the image to the Fresnel lens (7) side from the projector (4).例文帳に追加

このフィルムレンチキュラーレンズ用支持板(1)と、反対面(1b)に貼合されたフィルムレンチキュラーレンズ(6)と、間隔を空けて配置されたフレネルレンズ(7)とを備え投影用スクリーン(3)は、投影機(4)から、フレネルレンズ(7)側に画像を投影するプロジェクションディスプレイ(2)に好適に用いられる。 - 特許庁

The method for manufacturing a reflection type screen includes: a reflection film forming step of forming a reflection film 3 that reflects projection light to a base material surface 2A of a screen base material 2, a reflection film deformation step of deforming the reflection film 3 so as to have a plurality of recesses 5, and a reflection film peeling step of peeling a part of the reflection film 3 in the recess 5.例文帳に追加

反射型スクリーンの製造方法は、スクリーン基材２の基材表面２Ａに投射光を反射する反射膜３を形成する反射膜形成工程と、複数の凹部５を有するように反射膜３を変形させる反射膜変形工程と、凹部５の反射膜３の一部を剥離する反射膜剥離工程と、を備える。 - 特許庁

On a TFT substrate 1, a projection structure comprising first to fourth columnar spacer receiving patterns 50, 52, 54, and 58, an insulating film 32, and a final protective film 42 is formed.例文帳に追加

ＴＦＴ基板１には、第１乃至第４の柱状スペーサ受けパターン５０、５２、５４、５８及び絶縁膜３２並びに最終保護膜４２からなる突起構造物が形成されている。 - 特許庁

To provide a projection type oxide film structure having a uniform shape by controlling the structure of a porous metal oxide film in a regular three-dimensional shape for example.例文帳に追加

多孔質金属酸化膜の構造を、例えば規則的な立体形状に制御することができ、均一な形状を有する凸型酸化膜構造体を得ることができるようにする。 - 特許庁

To provide a projection mask in which the number of replacement is small, in an equipment for modifying a semiconductor thin film by radiating, on the semiconductor thin film, a laser beam in conformity with an opening pattern formed in the mask.例文帳に追加

マスクに形成した開口パターンに応じたレーザ光を半導体薄膜に照射し半導体薄膜を改質する装置において、交換回数が少ない投影マスクを実現する。 - 特許庁

To produce an aqueous dye ink for a marking pen which, when used for writing on a film, gives written lines exhibiting no whitening phenomenon and, when the film is subjected to projection, gives a distinct image.例文帳に追加

フイルム上に筆記した際に、筆跡が白化現象を起こさないで、フィルムを投影したときに鮮明な映像が得られる様なマーキングペン用水性染料インキを提供すること。 - 特許庁

To provide a polyester film for optical films which is excellent in scratch resistance, does not generate transfer marks by projection on a film surface and can prevent the deposition of oligomer by heat and humidity change.例文帳に追加

耐スクラッチ性に優れ、フィルム表面に突起による転写跡が発生せず、熱・湿度変化によるオリゴマーの析出が押さえられた光学フィルム用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

Thus, the inorganic light shielding layers 7a contact the inorganic protection film 45, and contact area between the inorganic light shielding layers 7a and the inorganic projection film 45 is wide on both sides of the color filter layer 15.例文帳に追加

このため、カラーフィルター層１５の両側では、無機遮光層７ａと無機保護膜４５とが接し、かつ、無機遮光層７ａと無機保護膜４５との接触面積が広い。 - 特許庁