例文 (327件) |
ion beamsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 327件
To realize enlargement of an ion beam current of gas cluster ion beams.例文帳に追加
ガスクラスターイオンビームのイオンビーム電流の大電流化を実現する。 - 特許庁
In this method, argon ion is injected at a same time to assist with ion beams.例文帳に追加
この際同時にアルゴンイオンを注入し、イオンビームアシストを行う。 - 特許庁
To provide a method for neutralizing ion beams in an ion beam working device executing various working using ion beams.例文帳に追加
イオンビームを用いて各種の加工を行なうイオンビーム加工装置において、イオンビームを中性化する方法を提案する。 - 特許庁
The focused ion beam device is provided with a plasma type gas ion source to generate ion beams and an ion optical system to concentrate ion beams generated from the plasma gas ion source on a test piece.例文帳に追加
イオンビームを発生させるプラズマ型ガスイオン源と、プラズマ型ガスイオン源から発生したイオンビームを試料上に集結させるイオン光学系を備えた集束イオンビーム装置である。 - 特許庁
ACOUSTICS DETECTION METHOD FOR HEAVY ION BEAMS AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加
重イオンビームの音響検出方法及び装置 - 特許庁
At least one wide ion beam out of the plurality of wide ion beams has at least a dose different from any other wide ion beams.例文帳に追加
複数のワイドイオンビームのうち少なくとも一つのワイドイオンビームは、少なくともいずれか他のワイドイオンビームと異なるドーズを有する。 - 特許庁
To provide an ion source capable of extracting ion beams excelling in parallelism.例文帳に追加
平行性の良いイオンビームを引き出すことができるイオン源を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid metal ion source capable of emitting stable ion beams.例文帳に追加
安定なイオンビーム放出が可能な液体金属イオン源を提供する。 - 特許庁
To accumulate ion beams from a plurality of ion sources in an ion reservoir at the same time, emit them, and simultaneously, accurately measure the mass spectra of a plurality of ion beams.例文帳に追加
複数のイオン源からのイオンビームを同時にイオン溜に蓄積し、排出して、複数のイオンビームの質量スペクトルを同時に、且つ精度よく測定する。 - 特許庁
To independently turn on/off a plurality of ion beams.例文帳に追加
複数のイオンビームを独立してオン・オフ可能とする。 - 特許庁
To provide an ion implanter capable of accurately measuring an incident angle of ion or ion beams constituting spot-like ion beams incident on a base plate.例文帳に追加
基板に入射するスポット状のイオンビームを構成するイオンまたはイオンビームの入射角度を精密に測定することのできるイオン注入装置を提供する。 - 特許庁
To provide an ion implanter for making ion beams parallel in two directions.例文帳に追加
二方向でのイオンビームの平行化が可能となるイオン注入装置を提供する。 - 特許庁
To obtain ion beams with high directivity and stably high intensity.例文帳に追加
指向性が高く、安定して高強度のイオンビームを得る。 - 特許庁
This is a device for a neutral particle ray beam having a plasma chamber 1 for forming plasma and emitting ion beams, a capillary part 2 for neutralizing ion beams, and a processing chamber 3 for irradiating the beams passing the capillary part on the processed object.例文帳に追加
この中性化を、イオンビームの生成条件や加工条件とは独立に制御可能とし、品質の高い中性粒子ビームを得る。 - 特許庁
The ion source 2a generates ion beams 4a shaped like ribbons with a longer Y-direction dimension.例文帳に追加
イオン源2aは、Y方向の寸法が長いリボン状のイオンビーム4aを発生させる。 - 特許庁
To provide a liquid metal ion source that generates stable ion beams continuously for a long time.例文帳に追加
安定なイオンビームを長時間持続して発生する液体金属イオン源を提供する。 - 特許庁
To provide an ion beam measuring method and an ion implanting method, capable of calculating accelerated energy of ion beams.例文帳に追加
イオンビームの加速エネルギを推定することが可能なイオンビーム計測方法とイオン注入装置を提供すること。 - 特許庁
When the shutter 24 is set at a closed position, ion beams 22a separated from ion beams 22 are absorbed by the surface of the shutter 24, ion beams 22b are absorbed by the wall of the main stream channel 13b, so that contamination of the sub stream channel 13c by the ion beams 22a is prevented.例文帳に追加
シャッタ24を閉位置にすると、イオンビーム22から分離されたイオンビーム22aはシャッタ24の表面に吸収され、イオンビーム22bは本流通路13bの壁に吸収され、イオンビーム22aによる支流通路13cの汚染が防止される。 - 特許庁
In ion beam processing using ion beams 3 for processing an optical element material 5, a current density measuring means 6 having an opening member formed of an insulating material is first irradiated with the ion beams 3 and electron beams 8 to measure the current density distribution of the ion beams 3.例文帳に追加
イオンビーム3によって光学素子材料5を加工するイオンビーム加工において、まず、絶縁性材料からなる開口部材を有する電流密度測定手段6に、イオンビーム3と電子ビーム8を照射してイオンビーム3の電流密度分布を測定する。 - 特許庁
A processed object 112 is treated by using a cluster ion source 102 which generates cluster ion beams 108.例文帳に追加
クラスタイオンビーム108を生成するクラスタイオン源102を使用して加工物112を処理する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam device capable of improving or relaxing deflection phenomenon of charged particle beams such as ion beams and electron beams.例文帳に追加
イオンビームや電子ビームなど、荷電粒子線の偏向現象を、改善ないし緩和することのできる荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁
The ion beams are made incident to an inner cavity of the beam line, and the incident ion beams are made to converge with electrostatic lens arranged in the inner cavity.例文帳に追加
このイオンビームをビームラインの内部空洞に入射し、入射したイオンビームを、その内部空洞内に配置された静電レンズで収束させる。 - 特許庁
To provide an ion beam path control device capable of controlling the path of ion beams without generating an electromagnetic field.例文帳に追加
電磁界を発生させずにイオンビームの軌道を制御するイオンビーム軌道制御装置を提供する。 - 特許庁
Ion beams from the two ion sources keep almost a focused state and fly in the (y) direction within the ion reservoir 3.例文帳に追加
これにより、イオン溜3内では2個のイオン源からのイオンビームは、共にほぼ収束された状態を保ったままy方向に飛行する。 - 特許庁
To provide an ion implantation system and a method of manufacturing a semiconductor by the implantation of ion beams formed by N-type dopant cluster ions and the cluster of negatively charged cluster ion beams.例文帳に追加
イオン注入システムと、N型ドーパントクラスターイオン及び負に荷電したクラスターイオンビームのクラスターから形成されたイオンビームを注入する半導体製造方法とを提供する。 - 特許庁
To suppress the spread of ion beams due to space charge effects by effectively confining electrons between the magnetic poles of a magnet which deflects, converges or diverges the ion beams.例文帳に追加
イオンビームを偏向、収束又は発散させる磁石の磁極間に効率良く電子を閉じ込め、空間電荷効果によるイオンビームの広がりを抑制する。 - 特許庁
Since the first mask 44 shields diverged ion beams, the ion beams do not trim the electrode of the base substrate 1 located below the piezoelectric resonator 10.例文帳に追加
第1マスク44が発散したイオンビームを遮蔽するので、圧電共振子10の下方に位置するベース基板1の電極をトリミングすることがない。 - 特許庁
The gas contamination sensor includes an ion source which produces ion beam from the sample of gas to be tested, a first and a second ion detectors while respective first and second ion detectors receive ion from ion beams deflected in different ranges.例文帳に追加
ガス汚染センサは、試験されるガスのサンプルからイオンビームを生成するイオン源と、第1及び第2イオンディテクタとを含み、第1及び第2イオンディテクタの各々は異なる範囲で偏向されたイオンビームからのイオンを受ける。 - 特許庁
Furthermore, the ion gun 2 has an ion deflection part 23 which deflects ion beams I out of the ion beam I extracted from the plasma source 21 to the extraction electrode 22 and light emitted together with the ion beams I from the plasma source 21, in the direction of the processed object W.例文帳に追加
更にイオン銃2は、プラズマ源21から引き出し電極22に引き出されたイオンビームI、及びプラズマ源21からイオンビームIと共に放射された光のうち、イオンビームIを被加工物Wの方向に偏向するイオン偏向部23を有する。 - 特許庁
To shorten the time required to stabilize the amount of ion beams when ion beams are extracted first after a plasma forming vessel is assembled or cleaned in an ion source for extracting metal ion beams constituting organic metal vapor by using the organic metal vapor as a raw material.例文帳に追加
有機金属蒸気を原料として当該有機金属蒸気を構成する金属のイオンビームを引き出すイオン源において、プラズマ生成容器の組立後または清掃後に最初にイオンビームを引き出す際に、イオンビーム量が安定するまでの時間を短縮する。 - 特許庁
To provide an optimum method for effectively utilizing ion beams in an ion implantation system of a single substrate.例文帳に追加
単一基板のイオン注入システムにおいて、イオンビームを有効に利用するために最適な方法を目的とする。 - 特許庁
To see to it that voltage impression at the time of accelerating ion beams and leading them to an ion mass separation device be stabilized.例文帳に追加
イオン質量分離装置にイオンビームを加速して導入する際の電圧印加を安定させるようにする。 - 特許庁
To provide an ion irradiation apparatus capable of achieving both of clean ion irradiation for an object to be irradiated and close monitoring of ion beams.例文帳に追加
被照射物に対するクリーンなイオン照射と、イオンビームの厳重なモニタとを両立させることができるイオン照射装置を提供する。 - 特許庁
ELECTROMAGNETIC CONTROL UNIT FOR ADJUSTING AND CONTROLLING UNIFORMITY OF CURRENT OF CONTINUOUS ION BEAMS例文帳に追加
連続イオンビームの電流の均一性を調整し制御する電磁制御体 - 特許庁
A device for processing a sample with the use of ion beams is so structured that a Wien filter 2 is arranged between an ion source 1 and a sample 2, and the ion beams from the ion source 1 are made to pass through the Wien filter 2 so as to have the beams shaped in a shape suited for processing of the sample.例文帳に追加
イオンビームを用いて試料を加工する装置において、イオン源1と試料4の間にウィーンフィルタ2を配置し、イオン源1からのイオンビームを前記ウィーンフィルタ2を通すことで、ビームの形状を試料の加工に適した形に整形するように構成する。 - 特許庁
In an ion beam processing method for irradiating gas cluster ion beams to process works, the processing is performed by stepwise or continuously decreasing a value of an acceleration voltage which accelerates the gas cluster ion beams.例文帳に追加
ガスクラスターイオンビームを照射してワークを加工するイオンビーム加工方法であって、ガスクラスターイオンビームを加速する加速電圧の値を段階的に又は連続的に減少させながら加工を行う。 - 特許庁
To efficiently adjust a beam current density distribution of each ion beam in an ion-beam-superposed region on a glass substrate irradiated with a plurality of ion beams.例文帳に追加
ガラス基板上に照射された複数本のイオンビームによる重ね合わせ領域において、各イオンビームのビーム電流密度分布を効率的に調整する。 - 特許庁
To provide an ion beam device which can parallelize ion beams and separate energy, enabled to shorten a length of a beam line of the ion beam.例文帳に追加
イオンビームの平行化およびエネルギー分離を行うことができ、しかもイオンビームのビームライン長を短くすることを可能にしたイオンビーム装置を提供する。 - 特許庁
Ion guns 4 are set in the vacuum chamber 2 for projecting ion beams to an upper and a lower surfaces of the sample thereby ion polishing the sample.例文帳に追加
また、真空室2内には、試料の上側表面と下側表面にイオンビームを照射してイオン研磨を行うためのイオン銃4が設けられている。 - 特許庁
The ion source 2b generates ribbon-shaped ion beams 4b with a longer Y-direction dimension and with a different center position in the Y-direction from that of the ion beam 4a.例文帳に追加
イオン源2bは、Y方向の寸法が長くかつイオンビーム4aとはY方向の中心位置が異なるリボン状のイオンビーム4bを発生させる。 - 特許庁
The ion source 10b generates ribbon-like ion beams with a dimension in a Y-direction larger than that in an X-direction.例文帳に追加
このイオン源10bは、Y方向の寸法がX方向の寸法よりも大きいリボン状のイオンビーム2を発生させる。 - 特許庁
To provide an ion source which is capable of improving accelerating efficiency of ion beams by increasing evacuation efficiency between its electrodes.例文帳に追加
電極間排気効率を向上させ、イオンビームの加速効率を改善させることができるイオン源を提供すること。 - 特許庁
Thereafter, while the wafer disk 12 is rotated and translated, the wafers 18 are irradiated with ion beams for ion implantation.例文帳に追加
その後、ウエハディスク12を回転及び並進移動させながら、イオンビームをウエハ18に照射してイオン注入を行う。 - 特許庁
To provide a device for manufacturing a capillary which can converge heavy ion beams.例文帳に追加
重イオンビームを収束することができるキャピラリーを製造する装置を提供する。 - 特許庁
The electrons supplied to the ion beams B are irradiated on the substrate 90 and restrain generation of positive charge up by irradiation of ion beams B on the substrate 90.例文帳に追加
イオンビームBに供給された電子は、基板90に照射され、基板90においてイオンビームBの照射による正のチャージアップが発生するのを抑制する。 - 特許庁
The ion beams having the uniform current density by thereby differentiating a distance between electrodes in response to the plasma density, the devergence of the ion beams is controlled.例文帳に追加
そしてこれにより電極間距離をプラズマ密度に応じて実質的に異ならせ、イオンビームの発散性を制御して均一な電流密度を有するイオンビームを得る。 - 特許庁
A superconducting film having superconducting characteristic is deposited by scanning ion beams and irradiating the substrate surface with the ion beams while simultaneously feeding these two gases onto the substrate surface.例文帳に追加
この二つのガスを基板表面に同時に供給しながらイオンビームを走査照射して超伝導特性がえられる超伝導膜を成膜する(SC,P)。 - 特許庁
(b) Resists with sensitivity to electron beams or ion beams that deliver an electric charge of 0.01 microcoloumbs per square millimeter or less 例文帳に追加
ロ 〇・〇一マイクロクーロン毎平方ミリメートル以下の電気量を照射する電子ビーム又はイオンビームに対する感度を有するもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
This ion milling device is provided with an ion beam source radiating ion beams to the specimen, an acceleration electrode accelerating ions of the ion beam source and functioning as a secondary electron suppressor, and an ion beam current measurement apparatus measuring electric current of the ion beams, and the acceleration electrode is installed between the specimen and the ion beam source.例文帳に追加
本発明は、試料にイオンビームを照射するイオンビーム源と、前記イオンビーム源のイオンを加速させるとともに二次電子サプレッサとして機能する加速電極と、前記イオンビームの電流を測定するイオンビーム電流測定器とを備え、前記試料と前記イオンビーム源との間に前記加速電極を設けたことを特徴とする。 - 特許庁
例文 (327件) |
※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|