「ion distribution」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ION IMPLANTATION AMOUNT DISTRIBUTION EVALUATING METHOD例文帳に追加

イオン注入量分布評価方法 - 特許庁

WAFER FOR EVALUATING ION IMPLANTATION AMOUNT DISTRIBUTION例文帳に追加

イオン注入量分布評価用ウエハ - 特許庁

METHOD AND PROGRAM FOR CALCULATING ION DISTRIBUTION例文帳に追加

イオン分布計算方法およびプログラム - 特許庁

INDEPENDENT CONTROL OF ION DENSITY, ION ENERGY DISTRIBUTION AND ION DISSOCIATION IN PLASMA REACTOR例文帳に追加

プラズマリアクタ内のイオン密度、イオンエネルギー分布及びイオン解離の独立した制御 - 特許庁

To provide an ion beam distribution control method and an ion beam processing apparatus that can easily control a pulling-out ion beam even under processing and can obtain a uniform ion beam or an ion beam having a predetermined distribution.例文帳に追加

プロセス中でも容易に引出しイオンビームの分布を制御でき、均一なイオンビーム、もしくは所望の分布のイオンビームを得る。 - 特許庁

ION IMPLANTATION DISTRIBUTION GENERATING METHOD, AND SIMULATOR例文帳に追加

イオン注入分布発生方法及びシミュレータ - 特許庁

METHOD OF GENERATING ION IMPLANTATION DISTRIBUTION AND SIMULATION THEREOF例文帳に追加

イオン注入分布発生方法及びシミュレータ - 特許庁

In a step 31 for the calculation of ion distribution, assumed ion distribution which is generated with a (n+1)th ion injection is calculated.例文帳に追加

イオン分布算出ステップ３１は、第（ｎ＋１）回目のイオン注入によって生じると想定されるイオン分布を算出する。 - 特許庁

In a step 32 for the calculation of a difference between the ion distribution with the (n+1)th ion injection calculated in the step 31 for calculation ion distribution and the existing ion distribution identified in the step 30 for identifying ion distribution is performed.例文帳に追加

差分計算ステップ３２は、イオン分布算出ステップ３１によって算出された第（ｎ＋１）回目のイオン注入によるイオン分布と、イオン分布特定ステップ３０によって特定された既存のイオン分布との差分を計算する。 - 特許庁

ION BEAM DISTRIBUTION DETECTION APPARATUS AND ION BEAM ORIENTATION PROCESSING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

イオンビーム分布検出装置およびこれを用いたイオンビーム配向処理装置 - 特許庁

ION ANALYSIS SYSTEM BASED ON ION ENERGY DISTRIBUTION ANALYZER USING DELAYED ELECTRIC FIELD例文帳に追加

遅延電場を用いたイオンエネルギー分布分析器に基づいたイオン分析システム - 特許庁

To provide a method for independently control the ion density, ion energy distribution and ion dissociation in a plasma reactor.例文帳に追加

プラズマリアクタ内のイオン密度、イオンエネルギー分布及びイオン解離の独立した制御方法を提供する。 - 特許庁

ION IMPLANTATION DISTRIBUTION GENERATING METHOD AND SIMULATION DEVICE例文帳に追加

イオン注入分布発生方法及びシミュレーション装置 - 特許庁

In a step 30 for identifying ion distribution, existing ion distribution generated with ion injections of n times (n: a natural number) already performed is identified.例文帳に追加

イオン分布特定ステップ３０は、既に実行されたｎ回（ｎは自然数）のイオン注入によって生じた既存のイオン分布を特定する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR UNIFORMIZING LITHIUM-ION DISTRIBUTION STATE IN LITHIUM-ION BATTERY例文帳に追加

リチウムイオン電池におけるリチウムイオン分布状態の均一化方法および均一化装置 - 特許庁

METHOD REGARDING MARKETING AND DISTRIBUTION OF NEGATIVE ION-GENERATING PRINTED MATTER例文帳に追加

マイナスイオン発生印刷物の販売・配布に関する方法 - 特許庁

To provide an ion source capable of adjusting average value of a radial-direction distribution of ion-beam intensity while maintaining uniformity of the radial-direction distribution of the ion-beam intensity.例文帳に追加

イオンビーム強度の径方向分布の均一性を維持しながら、イオンビーム強度の径方向分布の平均値を調整可能なイオン源を提供する。 - 特許庁

To provide an ion generating element that can generate ion in wide range of space and that is advantageous in making uniform the ion distribution.例文帳に追加

イオンを空間の広い範囲に発生することができ、その分布の均一化に有利なイオン発生素子を提供する。 - 特許庁

First, an ion beam is provided, then, a first sectional shape of the ion beam and a first ion density distribution are detected.例文帳に追加

先ず、イオンビームが提供され、次に、そのイオンビームの第１の断面形状と第１のイオン密度分布とが検出される。 - 特許庁

MEASURING METHOD OF CURRENT DENSITY DISTRIBUTION OF ION BEAM, ION INJECTION METHOD USING THE SAME AND ION INJECTION DEVICE例文帳に追加

イオンビームの電流密度分布測定方法及び同測定方法を用いたイオン注入方法及びイオン注入装置 - 特許庁

To provide an ion beam treatment device which suppresses a change in incident energy distribution of an ion beam.例文帳に追加

イオンビームの入射エネルギー分布の変化を抑制可能なイオンビーム処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ion source device capable of generating an ion beam of high dopant ratio having even current distribution by reducing hydrogen ion (H_x^+) in the ion beam.例文帳に追加

イオンビーム中の水素イオン（Ｈ_Ｘ^＋）を低減し、均一な電流分布を持つドーパント比率の高いイオンビームを生成できるイオン源装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ion implantation device in which a uniformity of a beam current density distribution in a Y direction of the ion beam can be improved even if a plasma density distribution is not uniform in a plasma generator of an ion source.例文帳に追加

イオン源のプラズマ生成部内におけるプラズマ密度分布が均一でない場合でも、イオンビームのＹ方向におけるビーム電流密度分布の均一性を良くする。 - 特許庁

To converge flight time while retaining image quality of an ion distribution image.例文帳に追加

イオン分布画像の画質を保持しつつ、飛行時間を収束させる。 - 特許庁

In the ion concentration distribution simulation method, the ion concentration distribution of the room after a predetermined time from an ion generation start is predicted by inputting indoor air flow distribution, and an ion amount emitted each time instant from an ion generation source provided in the room into a fluid analysis means and carrying out calculation.例文帳に追加

室内の気流分布と、室内に設けられたイオン発生源から各時刻に放出されるイオン量とを流体解析手段に入力して計算することにより、イオン発生開始から所定時間後の室内のイオン濃度分布を予測するイオン濃度分布シミュレーション方法に関する。 - 特許庁

To improve homogeneity of in-plane distribution of ion amount implanted to a wafer surface.例文帳に追加

イオン注入量のウェハ面内分布の均一性を向上させる。 - 特許庁

To the vacuum container 2, a boat 10 for the distribution ion pump, connected to the inner space of the container 2 for the installation of the distribution ion pump 1, is installed and the distribution ion pump 1 can be taken in and taken out from the boat 10.例文帳に追加

この真空容器２には、分布イオンポンプ１を設置するための容器２の内部空間に繋がる分布イオンポンプ用ポート１０を設け、同ポート１０から分布イオンポンプ１を出し入れ可能に構成してある。 - 特許庁

Using the dose distribution per ion beam irradiation in etching, an irradiation position and a dose distribution of ion beams are calculated so that approximation to the processing target dose distribution is obtained.例文帳に追加

そして、エッチングを行う際のイオンビーム１照射当りのドーズ分布を用いて、加工の目標とするドーズ分布に近似するよう、イオンビームの照射位置及びドーズ分布を算出する。 - 特許庁

MULTI-STAGE ION IMPLANTATION METHOD AND METHOD OF SIMULATING IMPURITY CONCENTRATION DISTRIBUTION例文帳に追加

多段イオン注入方法及び不純物濃度分布のシミュレーション方法 - 特許庁

To provide an ion implantation distribution simulation for analytically seeking impurity concentration distribution produced by ion implantation into a pocket region.例文帳に追加

本発明の課題は、イオン注入分布のシミュレーションに関し、ポケット領域へのイオン注入による不純物濃度分布を解析的に求めることを目的とする。 - 特許庁

A detection unit 2 detects an ion distribution along the wind flow direction based on detection signals from the collector electrodes 6, and obtains the wind speed from the ion distribution.例文帳に追加

検出部２は、集電電極６からの検出信号に基づいて、風の流れる方向におけるイオン分布を検出し、イオン分布から風速を求める。 - 特許庁

To provide an ion concentration distribution simulation method capable of predicting ion concentration distribution of a room at high resolution without requiring a great deal of time.例文帳に追加

多大な時間を必要とすることなく、高解像度で室内のイオン濃度分布を予測することができるイオン濃度分布シミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

ION CONCENTRATION DISTRIBUTION SIMULATION METHOD, AND VIRUS REMOVAL EFFECT SIMULATION METHOD例文帳に追加

イオン濃度分布シミュレーション方法及びウィルス除去効果シミュレーション方法 - 特許庁

To provide an ion milling system that can obtain an ion beam having a desired facial distribution and energy distribution and can form a desired etched shape on a material to be worked.例文帳に追加

所望のイオンビーム面分布、エネルギー分布をもつイオンビームを得ることができ、被加工物に所望のエッチング形状を形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide an ion sensor unit, an ion analysis device and an ion analysis method, for use in measuring an ion distribution in a space between an ionizer and an object to be discharged.例文帳に追加

イオナイザと除電対象との間の空間におけるイオン分布を測定するために用いられるイオンセンサユニット、イオン分析装置、及びイオン分析方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a system and a method for ion milling by which a material to be worked can be formed in a desired worked shape by arbitrarily changing the intensity distribution of an ion beam at the time of performing ion milling.例文帳に追加

イオンミリングにおいて、イオンビームの強度分布を任意に変更して、被加工物の所望の加工形状を達成できるようにする。 - 特許庁

To efficiently adjust a beam current density distribution of each ion beam in an ion-beam-superposed region on a glass substrate irradiated with a plurality of ion beams.例文帳に追加

ガラス基板上に照射された複数本のイオンビームによる重ね合わせ領域において、各イオンビームのビーム電流密度分布を効率的に調整する。 - 特許庁

Then, a second sectional shape and a second ion density distribution of the ion beam are detected by moving the ion beam along a predetermined scanning path.例文帳に追加

それから、イオンビームの第２の断面形状と第２のイオン密度分布とが、所定のスキャンパスに沿ってイオンビームを移動することによって検出される。 - 特許庁

To reform a distribution shape of an ion detection electric field, in an ion current detection device detecting ion current by using an ignition plug.例文帳に追加

イオン電流を点火プラグを用いて検出するイオン電流検出装置において、イオン検出電界の分布形状を矯正できるようにする。 - 特許庁

To adjust a current density distribution of an ion implantation apparatus with precision by finely bending a part of a stripe type ion beam in a surface of the stripe type ion beam.例文帳に追加

イオン注入装置において、帯状イオンビームの一部分を帯状イオンビームの面内で小さく曲げて電流密度分布を精度よく調整する。 - 特許庁

To create an instantaneous distribution of uniform ion flux on a surface of a workpiece.例文帳に追加

ワークピースの表面の上に一様なイオン流束の瞬間分布を生成する。 - 特許庁

PLASMA REACTOR WITH ION DISTRIBUTION UNIFORMITY CONTROLLER EMPLOYING MULTIPLE VHF SOURCES例文帳に追加

複数のＶＨＦ源を用いるイオン分布均一性制御器を備えたプラズマリアクタ - 特許庁

METHOD OF MEASURING DEPTH-DIRECTION CONCENTRATION DISTRIBUTION OF SAMPLE THROUGH SECONDARY ION MASS SPECTROMETRY例文帳に追加

二次イオン質量分析による試料の深さ方向濃度分布測定方法 - 特許庁

To provide an ion source for uniformizing plasma density distribution in a discharge vessel.例文帳に追加

放電容器内におけるプラズマ密度分布を均一化できるイオン源の提供。 - 特許庁

Such a beam stop has an advantage in the point that information of an ion beam distribution can be comprehended even if not scanning the ion beam.例文帳に追加

そのようなビームストップは、イオンビームをスキャンしなくてもイオンビーム分布の情報を提供する点で有利である。 - 特許庁