例文 (281件) |
ion distributionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 281件
Accordingly, two conditions are fulfilled that energy distribution stays within a limited range and there is a region having spatially low density in the energy distribution, and even in a mass analysis in a minute range, the high ion generation efficiency can be achieved, and the sufficient detection sensitivity can be secured.例文帳に追加
したがって、エネルギー分布が有限な範囲に収まること、及びエネルギー分布の中で空間的に密度の低い領域が存在する、という2つの条件を満たし、微小範囲の質量分析においても高いイオン生成効率が達成でき、十分な検出感度を確保できる。 - 特許庁
An ion injection simulation method includes: calculating a reinjection dose injected into a structure formed on a substrate and reinjected from a side face of the structure to the substrate; and calculating concentration distribution of impurities injected into the substrate from a distribution function and reinjection conditions of the reinjection dose.例文帳に追加
基体上に形成された構造体に注入され、構造体の側面から基体に再注入される再注入ドーズを算出し、分布関数と再注入ドーズの再注入条件とから、基体に注入される不純物の濃度分布を算出するイオン注入のシミュレーションを行う。 - 特許庁
RF powers from at least RF power sources of three respective frequencies are coupled to plasma in a reactor; the ion energy distribution shape is set by selecting a ratio between the power levels of a first pair of the at least three RF power sources; and the ion dissociation and the ion density are set by selecting a ratio between the power levels of a second pair of the at least three RF power sources.例文帳に追加
3つの各周波数の少なくとも3つのRF電源からのRF電力をリアクタ内のプラズマに結合し、少なくとも3つのRF電源の第1対の電源レベル間の比を設定することによりイオンエネルギー分布形状を設定し、少なくとも3つのRF電源の第2対の電源レベル間の比を選択することによりイオン解離及びイオン密度を設定する。 - 特許庁
An arithmetic unit 34 computes data on a dosage of ion implantation for uniforming a threshold voltage in the wafer surface on the basis of a distribution of gate lengths measured by the measuring units in the wafer surface.例文帳に追加
演算装置34は、測定装置により測定されたゲート長のウェハ面内の分布に基づき、ウェハ面内における閾値電圧を均一化するためのイオン注入のドーズ量のデータを演算する。 - 特許庁
To obtain an electric power supply device inhibiting the occurrence of a discharge vibration phenomenon and stably operating a Hall thruster working as an ion accelerator even when the distribution of a magnetic flux density in a channel of the Hall thruster is biased.例文帳に追加
ホールスラスタのチャネル内の磁束密度の分布が偏った場合でも、放電振動現象の発生を抑え、安定にイオン加速装置であるホールスラスタを動作させる電源装置を得る。 - 特許庁
To easily control the ion energy density distribution in a plane with a plurality of high frequencies and enable the control with minimum high-frequency power needed, thereby contributing to elongation of the life.例文帳に追加
複数の高周波による面内のイオンエネルギー密度分布の制御を容易に行えるようにし、その制御を必要最小限の高周波電力で運用可能とし、長寿命化に寄与すること。 - 特許庁
The power storage system is structured by connecting in parallel a chopper, to which the lithium ion battery and the sodium-sulfur battery are connected, to an inverter interconnected to a secondary bus of a substation for power distribution.例文帳に追加
リチウムイオン電池、及びナトリウム−硫黄電池を接続したチョッパを並列にして、配電用変電所の二次母線に連系したインバータに接続して構成されることを特徴とする蓄電システム。 - 特許庁
To provide a method capable of depositing a thin film having a uniform film thickness distribution in a thin film production method by emitted particles from a target by a laser abrasion method, an ion beam sputtering method or the like.例文帳に追加
レーザーアブレーション法やイオンビームスパッタ法などのターゲットからの放出粒子による薄膜作製法において、均一な膜厚分布を有する薄膜を堆積可能とする方法の提供。 - 特許庁
To suppress the distribution of an extended diffusion layer in the channel direction upon the formation of the extended diffusion layer by preventing an ion-implanted impurity from penetrating an offset sidewall.例文帳に追加
エクステンション拡散層を形成する際に、イオン注入される不純物がオフセットサイドウォールを突き抜けることを防止して、エクステンション拡散層がチャネル方向へ分布することを抑制することである。 - 特許庁
The individual region setting part sequentially sets the individual region of a group Gi+1 on the basis of a range Rp, a distribution σL, or the like showing the calculation result of the ion particle belonging to the group Gi.例文帳に追加
個別領域設定部は、以降順次、グループGiに属するイオン粒子の計算結果を示す飛程Rp、分散σL等に基づいてグループGi+1の個別領域を設定する。 - 特許庁
To provide a high-reliable nitride semiconductor device which easily and surely obtains a desired concentration distribution of a two-dimensional hole gas without ion implantation, and achieves gentle relaxation of an electric field concentration.例文帳に追加
イオン注入を用いることなく2次元正孔ガスの所期の濃度分布を容易且つ確実に得て、電界集中のなだらかな緩和を実現する高信頼性の窒化物半導体装置を得る。 - 特許庁
To provide a lithium ion secondary battery of high safety and a long life, capable of easily arranging particle size distribution of positive electrode active material and of eliminating burst ignition in nailing test.例文帳に追加
正極活物質の粒度分布を容易に揃えることができ、釘刺し試験における破裂発火が皆無で、安全性が高く、かつ長寿命なリチウムイオン二次電池を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a vacuum container for a beam deflection electromagnet with a distribution ion pump which can easily be installed and replaced, adopting an absorber with high heat removal efficiency.例文帳に追加
ビーム偏向電磁石用真空容器への分布イオンポンプの取り付けや交換が容易であり、また、除熱効率を高めたアブソーバを採用したビーム偏向電磁石用真空容器を提供する。 - 特許庁
To provide an air conditioner capable of spreading a plenty of minus ions in an entire room and thereby capable of equalizing a minus ion distribution in the room, and also to provide a method for controlling the same.例文帳に追加
多量のマイナスイオンを室内全体に行き渡らせることができ、これにより室内でのマイナスイオン分布を均一化することが可能な空気調和機およびその制御方法を提供する。 - 特許庁
First, the relationship between the angle of incidence of an ion beam and an etching rate distribution in a shaping surface 12 is calculated beforehand each for tungsten carbide (WC) composing a substrate, chromium (Cr) composing an intermediate layer and chromium nitride (CrN) composing a surface layer, under the irradiation conditions identical to those applied at the time of surface treatment except the angle of incidence of the ion beam.例文帳に追加
まず、予め基材、中間層及び表面層を構成するタングステンカーバイド(WC)、クロム(Cr)及び窒化クロム(CrN)のそれぞれに対して、イオンビームの入射角度以外は表面処理時と同一の照射条件にして、イオンビームの入射角度と成形面12内のエッチングレート分布との関係を求める。 - 特許庁
To effectively feed ions to an object to be fed with the ions while keeping its high distribution density by preventing the ions generated by an ion generation part from being diffused to be thin in an air or being neutralized and disappearing in the middle of a blowing path in a blower apparatus provided with the ion generator.例文帳に追加
イオン発生器を備えた送風装置において、イオン発生部で生成したイオンが、送風経路途中において空気流の中に薄く拡散したり、あるいは中和消滅したりするのを解消して、イオンを送給対象物に対して分布密度が高い状態のままで効果的に送給できるようにする。 - 特許庁
After ion irradiating conditions are adjusted so as to have a desired distribution, the ion beam is irradiated to the work 32.例文帳に追加
ガスクラスターに熱電子を衝突、電離させ発生させたガスクラスターイオンを加速してワークに照射する装置において、リターディング電圧を印加するリターディンググリッド21、イオンビームをパルス化する偏向電極24a、24b、ドリフトチューブ26、ファラデーカップ27、および電流計測手段28,29を備えて、飛行時間法によりイオンのクラスターサイズ分布を計測するようにした。 - 特許庁
By this structure, an electromagnetic field is formed in the closed space and, by setting of the parallel resistor and the series resistor, adjustment of strength and weakness of the potential and electromagnetic field is possible, which can give displacement in the ion balance in the air existing in the closed space, and can promote uneven distribution of the negative ion, thereby maintaining the air suitably.例文帳に追加
この構成により、密閉空間に電磁場が形成され、並列抵抗器及び直列抵抗器の設定により電位・電磁場の強弱調節が可能で、密閉空間に存在する空気中のイオンバランスに変位を与え、あるいはマイナスイオンの偏在を促進させることができ、空気を好適に保つことができる。 - 特許庁
To provide an implantation method, in which, when a wafer is divided into a plurality of implantation regions in the mechanical scan direction, and the beam scanning speed is varied for every implantation region, thus controlling the ion implantation amount in the wafer, the target ion implantation distribution and the ion implantation amount are realized for every implantation region while fixing together the beam scan frequency and the beam scan amplitude in the respective implantation regions.例文帳に追加
イオン注入方法において、ウエハをメカニカルスキャン方向において複数の注入領域に分け、その注入領域ごとにビームスキャン速度を可変にし、それによってウエハ内のイオン注入量を制御する場合に、それぞれの注入領域のビームスキャン周波数とビームスキャン振幅を共に固定しながら注入領域ごとに目的のイオン注入量分布とイオン注入量とを実現する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the same capable of controlling a working shape with more high precision by reducing charge-up induced by positive ions and controlling ion energy distribution.例文帳に追加
イオンエネルギー分布の制御に加えて正イオンによるチャージアップの緩和を行うことで、加工形状の制御をさらに高精度に行うことができる半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
A first sample is irradiated with cesiums ion on the condition that an incidence angle is zero, and that an acceleration energy is 250 eV, and then secondary ions emitted by the first sample is subjected to a mass spectrometry, thereby measuring a distribution of an impurity element.例文帳に追加
入射角が0度、加速エネルギーが250eVの条件でセシウムイオンを第1の試料に照射し、第1の試料から放出される二次イオンを質量分析して不純物元素の分布を測定する。 - 特許庁
From the shape of a halo component 33 formed during deposition processing, such an ion beam irradiation profile (dose distribution) on a processing target as forms a sharp edge when the halo component 33 is removed is obtained.例文帳に追加
デポジション加工を行った際に形成されたハロー成分33の形状から、当該ハロー成分33を除去した時に急峻なエッジとなるような、加工目標のイオンビーム照射プロファイル(ドーズ分布)を得る。 - 特許庁
The asymmetrical energy distribution of ions from an ion source allows chromatic aberration to be reduced by filtering ions in the low energy beam tail without significantly reducing processing time.例文帳に追加
イオン源からのイオンの非対称エネルギー分布によって、処理時間をあまり短縮することなく、低エネルギー・ビーム・テール中のイオンをフィルタによって除去することによって色収差を低減させることが可能になる。 - 特許庁
To provide a lithium ion secondary battery which includes an electrode plate where conductive material distribution inside a cathode composite layer is made uniform and binding material does not cover the active substance.例文帳に追加
正極合材層の内部での導電材の分布の均一化が図られているとともに,結着材が活物質を覆っていない電極板を有するリチウムイオン二次電池およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To enhance convergency of a primary ion, and to reduce a work function on a sample surface to enhance a secondary ionization rate further, as to a method and an instrument for measuring a depth-directional element distribution.例文帳に追加
深さ方向元素分布測定方法及び深さ方向元素分布測定装置に関し、一次イオンの収束性を高めるともに、試料表面の仕事関数を低下させて負の二次イオン化率をさらに高める。 - 特許庁
To provide a method of forming a device isolation film in a semiconductor device in which a performance of a device is improved by making a constant ion concentration distribution of a region where ions for controlling a threshold voltage are implanted.例文帳に追加
しきい値電圧調節のためのイオンが注入された領域のイオン濃度分布を一定にして素子の性能を向上させることを可能にする半導体素子の素子分離膜製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an excellently productive manufacturing method for a polyolefin microporous film which has both a uniform thickness distribution and a low heat shrinking property and is suitably used for a separator for lithium ion secondary batteries, or the like.例文帳に追加
本発明は、リチウムイオン二次電池用等のセパレータとして好適に使用し得る、均一な厚み分布と低熱収縮性を併せ持ち、生産性にも優れたポリオレフィン微多孔膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
The n-type drain region 19 can be formed by As ion implantation and its impurity concentration distribution can be accurately controlled to suppress the variations in the saturation characteristic of the photodiode, improving the overflow drain function.例文帳に追加
N型ドレイン領域19はAsイオン注入で形成しその不純物濃度分布を高精度に制御できるので、フォトダイオードの飽和特性のばらつきを抑え、オーバーフロードレイン機能の向上を図れる。 - 特許庁
The method controls uniformity of plasma ion density distribution by controlling a distance to at least (a) the height of the ceiling electrode or (b) the height of the workpiece support electrode.例文帳に追加
この方法は、可変高さ端部接地環形要素と、(a)天井電極の高さ、又は(b)ワークピースサポート電極の高さのうち1つとの間の距離を制御することにより、プラズマイオン密度分布の均一性を制御する。 - 特許庁
To provide a multi-item ionic activity measuring instrument of high reliability capable of distribution-supplying surely and quickly a spotted sample or a reference liquid to an ion selective electrode, even when a position of a thin piece-like porous liquid distribution member is shifted slightly in the multi-item ionic activity measuring instrument.例文帳に追加
多項目イオン活量測定器具において、細片状多孔性液体分配部材の位置が若干ずれた場合でも、点着された試料液もしくは参照液のイオン選択電極への確実かつ迅速な分配供給が可能となる信頼性の高い多項目イオン活量測定器具を提供する。 - 特許庁
The ion implantation apparatus is provided with an infrared camera 36 for measuring a temperature distribution of a region including a slit 26 of an analytic slit plate 24 to output temperature data D representing the temperature distribution and a data processing unit 38 for processing the temperature data D from the infrared camera 36 to measure the size of the slit 26 of the analytic slit plate 24.例文帳に追加
分析スリット板24のスリット26を含む領域の温度分布を測定して当該温度分布を表す温度データDを出力する赤外線カメラ36と、この赤外線カメラ36からの温度データDを処理して、分析スリット板24のスリット26の寸法を測定するデータ処理装置38とを設けた。 - 特許庁
The reactor further comprises a controller programmed to change the relative output power levels of the first and second VHF power sources so as to: (a) increase the relative output power level of the first VHF power source when plasma ion distribution has a predominantly edge-high nonuniformity; and (b) increase the relative output power level of the second VHF power source when plasma ion distribution has a predominantly center-high nonuniformity.例文帳に追加
リアクタは、第1及び第2のVHF電源の相対的な出力電力レベルを変更して、(a)プラズマイオン分布が、主に、端部が高い不均一性を有するときは、第1のVHF電源の相対的な出力電力レベルを増大し、(b)プラズマイオン分布が、主に、中心が高い不均一性を有するときは、第2のVHF電源の相対的な出力電力レベルを増大するようプログラムされた制御器を更に含む。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a positive active material of a lithium ion battery, capable of obtaining a LiFePO_4 fine particle with a narrow particle size distribution, by controlling freely a primary particle size when generating the LiFePO_4 fine particle, and capable of enhancing an initial discharge capacity and load characteristic, and to provide the positive active material for the lithium ion battery.例文帳に追加
LiFePO_4微粒子生成時の1次粒子径を自在に制御することにより、粒度分布の狭いLiFePO_4微粒子を得ることができ、初期の放電容量及び負荷特性を向上させることのできるリチウムイオン電池用正極活物質の製造方法及びリチウムイオン電池用正極活物質を提供する。 - 特許庁
This gas diffusion electrode adjacent to an ion exchange film is manufactured by using a coating liquid composed of dispersion liquid including a catalyst and a fluorine-containing ion exchange resin, further including at least one of alcohol, ether, dialkylsulfoxide and water as a dispersion medium, and including 30 vol.% or more of particles of 1.0 μm or less in a distribution of grain size.例文帳に追加
触媒と含フッ素イオン交換樹脂とを含み、分散媒としてアルコール、エーテル、ジアルキルスルホキシド及び水からなる群から選ばれる一種以上を含み、かつ粒径分布において1.0μm以下の粒子の割合が30体積%以上である分散液からなる塗工液を用い、イオン交換膜に隣接するガス拡散電極を作製する。 - 特許庁
To easily acquire a necessary magnetic flux density distribution required for obtaining necessary ions, in an electron cyclotron ion source which is constituted of a conduction tube to introduce a gas medium, a waveguide for injecting high frequency waves to excite the gas medium, a vacuum vessel with an ion extraction unit, and permanent magnets for impressing a magnetic field to the vacuum vessel.例文帳に追加
ガス媒質を導入する導管、ガス媒質を励振するための高周波を注入する導波管、イオンの抽出部を有する真空容器、及び真空容器に磁場を印加するための永久磁石からなる電子サイクロトロンイオン源において、所要のイオンを得るのに必要な磁束密度分布を容易に得られるようにすること。 - 特許庁
The amplitude of a current which flows instantaneously through electrodes by a micro-short circuit of the lithium ion secondary battery, or the frequency distribution of the duration thereof, is calculated, and the quality is sorted automatically, according to a prescribed standard set beforehand.例文帳に追加
リチウムイオン二次電池のマイクロショートによって電極間に瞬時的に流れる電流の大きさまたはその持続時間の度数分布を算出して、予め設定された所定の基準をもって良否を自動的に選別する。 - 特許庁
To provide a novel ion implantation method in which a variety of patterns of implantation amount distribution can be made inexpensively and an uneven implantation such that implantation distributions between each implantation regions become continuous and smooth can be performed.例文帳に追加
安価で、注入量分布のパターンに多様性を持たせることができ、各注入領域間の注入分布が連続的でスムーズになるような不均一注入を行うことができる新規なイオン注入方法を提供する。 - 特許庁
This will enable the plasma distribution uniformity to be secured and the gas inflow from the plasma processing space into the plasma generation space to be stopped, and the forthright speed of the ion species to be independently controlled, moreover satisfactory controllability for the plasma component ratio.例文帳に追加
プラズマ分布の均一性確保とプラズマ処理空間からプラズマ発生空間へのガス流入阻止の両立が図れるうえ、プラズマ成分比率の制御性がよいことに加えて、イオン種の直進速度も独立に制御可能となる。 - 特許庁
To provide an electromagnetic field forming device for space capable of easily adjusting strength and weakness or the like of potential and electromagnetic field, capable of giving displacement in the ion balance of the air in a certain target closed space, or promoting uneven distribution of negative ions.例文帳に追加
空間用電磁場形成装置であって、電位・電磁場の強弱等の調節が容易にでき、目的とする一定の閉鎖空間における空気中のイオンバランスに変位を与え、あるいはマイナスイオンの偏在を促進させる。 - 特許庁
The use of the printed matter employing the negative ion-generating ink as such a single item or a book or its part improves health and environment, thereby promoting the marketing, distribution and lending of various printed matter.例文帳に追加
そのような各種印刷物や、本や本の一部としてマイナスイオン発生インクで印刷した物を使用していることで、健康、環境の改善を図り、また、そのことで各種印刷物の販売・配布・貸与の促進を図る方法である。 - 特許庁
The oxygen ion-implanted silicon substrate has preferably a void defect or COP crystal defect density of ≥1×10^5 cm^-3, and a maximum frequency of ≤0.12 μm in the crystal defect size distribution.例文帳に追加
酸素イオンが注入されるシリコン基板は、ボイド欠陥又はCOPからなる結晶欠陥密度が1×10^5cm^-3以上でありかつ結晶欠陥のサイズ分布の最大頻度が0.12μm以下であることが好ましい。 - 特許庁
The vacuum container for the beam deflection electromagnet comprises the distribution ion pump 1 keeping vacuum inside the container 2 and the absorber 8 receiving radiated light and protecting the generation of the high-temperature part inside the container caused by the irradiation of radiated light.例文帳に追加
容器2内部を真空に保つための分布イオンポンプ1と、放射光の照射により容器内に高温部が発生するのを防ぐよう放射光を受光するアブソーバ8とを有するビーム偏向電磁石用真空容器である。 - 特許庁
In the bar type static eliminator provided with a plurality of discharge needles arranged so as to alternately irradiate positive and negative ions by way of positions, impression voltage on the discharge needles at both ends is made lower than that on the discharge needle at the center to improve an ion balance distribution.例文帳に追加
+と−のイオンを位置的に交互に放射するように配置された複数の放電針を有するバータイプ除電器において、両端の放電針への印加電圧を中央の放電針への印加電圧より低くして、イオンバランス分布を良くする。 - 特許庁
In the ion exchange film-calalytic electrode joined body used in the electrochemical type hydrogen gas sensor, one having no pore, each of which has a pore size measured by a mercury prosimeter method of 100-1,000 nm in the pore distribution of a gas sensing electrode, is used.例文帳に追加
電気化学式水素ガスセンサで用いるイオン交換膜−触媒電極接合体において、ガス検知電極の細孔分布が、水銀ポロシメーター法により測定される孔径で100〜1000nmの範囲にある細孔を有さないものを用いる。 - 特許庁
In accordance with a processing program which is created by using the current density distribution measured in this way for detecting the unit removing profile of the ion beams 3, the optical element material 5 is irradiated with the ions beams 3 together with the electron beams 8 to perform profiling.例文帳に追加
このように測定された電流密度分布によってイオンビーム3の単位除去形状を検知し、作成された加工プログラムに従って、イオンビーム3を電子ビーム8とともに光学素子材料5に照射し、形状加工を行う。 - 特許庁
The method further comprises a step for controlling the plasma ion density distribution by regulating the ratio of RF parameters at the frequencies f1 and f2, wherein the RF parameter is one of RF power, RF voltage and RF current.例文帳に追加
この方法は、f1周波数でのRFパラメータ対f2周波数でのRFパラメータの比を調整して、プラズマイオン密度分布を制御する工程であって、RFパラメータが、RF電力、RF電圧又はRF電流のうち1つである工程を含む。 - 特許庁
Among composite polymer matrices, a polymer matrix with a smaller pore size contains a lithium single-ion conducting inorganic filler, thereby, ionic conductivity is enhanced, and the distribution uniformity of the impregnated electrolyte solution and maintenance characteristics are improved.例文帳に追加
複合高分子マトリックスのうち、さらに小さなポアサイズを有する高分子マトリックスには、リチウム単イオン伝導無機添加剤が導入されてイオン伝導度を向上させ、含浸された電解液の分布均一化及び維持特性を向上させる。 - 特許庁
To provide a technique for feeding back damage distribution computation owing to ion radiation in a real pattern and process such as 100 nm scale to the process development of a device within realistic computation time such as several hours or several days.例文帳に追加
本発明は、100nmスケールという実パターンおよび実プロセスにおけるイオン照射によるダメージ分布計算を数時間、数日間といった現実的な計算時間内でデバイスのプロセス開発にフィードバックする手法を提供することを可能にする。 - 特許庁
To provide a secondary ion mass spectrometry for easily and quantitatively measuring concentration distribution of an element to be analyzed of a measuring sample whose base material has two components, a standard sample used for it, and a method of manufacturing the standard sample.例文帳に追加
母材が二成分である測定試料の被分析元素の濃度分布を容易且つ定量的に測定できる二次イオン質量分析方法、これに用いる標準試料、及びその標準試料の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
The powder for coating with metallic luster consists of spherical or granular particles 10-200 nm in mean size with uniform individual particle size, i.e. with sharp size distribution, at least whose surface is formed of a noble metal or alloy thereof produced by depositing metal element ions including noble metal ions through reducing these ions by the reducing action in oxidizing trivalent Ti ion to tetravalent Ti ion.例文帳に追加
金属光沢塗料用粉末は、貴金属のイオンを含む金属元素のイオンを、3価のTiイオンが4価に酸化する際の還元作用によって還元することで析出させた貴金属やその合金にて少なくともその表面を形成した、平均粒径が10〜200nmの範囲内で、かつ個々の粒径が揃っており粒度分布がシャープな、球状または粒状の粉末である。 - 特許庁
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