「irradiation position」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

This reduces variations to a relatively small range in the constituent distribution of a laser weld part in the electrode axial direction (the weld-bead widthwise direction) if the irradiation position of a laser beam is shifted (varied) in the electrode axial direction among individual spark plugs.例文帳に追加

このことにより、スパークプラグ個体間で、レーザービームの照射位置が電極軸線方向にずれた（ばらついた）場合でも、レーザー溶接部の電極軸線方向（溶接ビード幅方向）における成分分布の変動幅が相対的に小さく抑えられる。 - 特許庁

The thickness of the range shifter is adjusted by moving the stairs-like range shifter 3 to A direction by a drive device, and the position in the depth direction in the irradiation range 7 inside the body 6 to be irradiated is determined from the thickness.例文帳に追加

駆動装置により階段状レンジシフタ３をＡ方向に移動させることにより、レンジシフタの厚さの調整を行われ、当該厚さに基づいて、被照射体６の内部の照射領域７での深さ方向の位置が決定される。 - 特許庁

A work W is moved by a loading table 2, and during the movement, the ON-OFF signal is given to a laser beam source 10 to perform the ON-OFF operation for spot irradiation when the work W is located at the position where an aperture of a desired diameter is formed.例文帳に追加

載置テーブル２によってワークＷを移動させ、その移動中において、所望の径の大きさの孔を形成可能な位置にワークＷがきたときにレーザ光源１０にオンオフ信号を与えてオンオフ動作させてスポット照射する構成である。 - 特許庁

When there is the atmospheric pressure fluctuation, an irradiation position of the electron beam on a sample under the atmospheric pressure fluctuation can be corrected if the amount of deflection of an electron beam is changed according to the amount of the atmospheric pressure fluctuation to offset the fluctuation of an image.例文帳に追加

大気圧の変動があれば、大気圧の変動量に応じて電子ビームの偏向量を像の変動を打ち消すように変化させれば、大気圧変動による電子ビームの試料上の照射位置の補正を行うことができる。 - 特許庁

A transmitting plate 27 and a light shielding plate 29 are arranged above a cavity 24 and an irradiation hole 29h for irradiating the inside of the cavity 24 with a laser beam is formed to penetrate on a position of the light shielding plate 29 opposed to each nozzle N.例文帳に追加

キャビティ２４の上側に、透過プレート２７と遮光プレート２９を配設して、各ノズルＮと相対向する遮光プレート２９の位置に、キャビティ２４内にレーザ光を照射可能にする照射孔２９ｈを貫通形成するようにした。 - 特許庁

To provide an X-ray diagnostic apparatus and its operating method, which is capable of quickly setting a compensation filter in an intended position and highly conveniently and safely setting an X-ray irradiation range and the compensation filter.例文帳に追加

補償フィルタを所望の位置に迅速に設定することができ、また、利便性・安全性の高いＸ線照射領域の設定及び補償フィルタの設定を可能ならしめるＸ線診断装置及びその作動方法を提供すること。 - 特許庁

The collimator lenses 6 and 7 are adjusted in three axis directions X, Y and Z while detecting the optical characteristic of a laser beam in a state in which the collimator lens 6 is held in order to adjust an irradiation position and a focusing, and then adhered and fixed to the adhered part 1e.例文帳に追加

コリメータレンズ６，７は照射位置やピントを調整するため、コリメータレンズ６を保持した状態でレーザ光の光学特性を検出しながらＸ，Ｙ，Ｚの３軸方向に調整を行い、接着部１ｅに接着固定される。 - 特許庁

When the gain of a servo signal for controlling the irradiation position of laser beams from a laser light source is automatically adjusted, an AGC circuit 29 sets the time constant of the automatic adjustment smaller than that of a normal case when the power of the laser beams is stepwise varied.例文帳に追加

ＡＧＣ回路２９は、レーザ光源によるレーザ光の照射位置を制御するサーボ信号のゲインを自動調整する際、レーザ光のレーザパワーがステップ状に変化するとき、自動調整の時定数を通常時よりも小さく設定する。 - 特許庁

After a drive stage 34 of an exposure stage 32 positions a substrate 51 with a photosensitive material at a first exposure position by moving a chuck stage 33, an irradiation optical system 40 irradiates the substrate 51 with exposure light through a mask 36.例文帳に追加

露光ステージ３２の駆動ステージ３４によりチャックステージ３３を移動させて感光材付き基板５１を第１の露光位置に位置付けた後、感光材付き基板５１へ向けて照射光学系４０によりマスク３６を介して露光光を照射する。 - 特許庁

To provide an X-ray imaging position setting means for subjects which enables the setting of sites of X-ray irradiation, namely, X-ray imaging target areas accurately without fail not depending on experiences and intuitions even when the sites are located inside the subjects.例文帳に追加

Ｘ線の照射部位、つまり、Ｘ線撮像目標領域が被写体内部にある場合にも、経験や勘によることなく、正確にかつ間違いなく、その位置設定をすることができる被写体のＸ線撮影位置設定手段を提供する。 - 特許庁

To provide an optical scanner by which the starting position of the scanning with respect to respective scanning light beams are accurately recognized even when the optoelectronic currents generated in a radiation detection device by irradiation of scanning light beams are weak and the scanning light beams are plural.例文帳に追加

走査光照射により発生する放射検出器の光電流が微量で、且つ、走査光が複数本になろうとも各々の走査光に対する走査開始位置を正確に把握することが可能な光走査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a uniform velocity gantry apparatus capable of being easily manufactured, having no need for readjustment of magnetic strength of magnets or beam guidance elements, high precision of the irradiation position of particle beams at all rotating position angles of the gantry apparatus, and a relatively light weight, and to provide a designing method for the gantry apparatus.例文帳に追加

アイソセンタ方式粒子ビーム誘導用等速ガントリー装置およびその設計方法に関し、設計が簡易で、磁石またはビーム誘導素子の磁界強度再調整が不要で、ガントリー装置の全回転位置角度で粒子ビームの高い照射位置精度を有し、比較的軽量の等速ガントリー装置およびガントリー装置の設計方法を提供する。 - 特許庁

Authenticity of a card is determined by use of first identification information formed on the front face side, and second identification information comprising a design formed on the rear side of a center position of a cross section in a position except the rear face, and second identification information allowing recognition on the rear face side by transmitting light by light irradiation from the front face side.例文帳に追加

表面側に形成された第１識別情報と、断面の中心位置よりも裏側であって裏面以外に形成される意匠からなる第２識別情報であって、表面側からの光照射による透過光により裏面側において認識可能な第２識別情報とを用いてカードの真贋の判定を行う。 - 特許庁

When specifying the position to be observed on a sample and applying electron beams for forming an image, based on the position information of a defect inspected and detected by other inspection device, observation of electrical defects that can be conducted with a potential contract by designating electron beam irradiation conditions, detectors, detection conditions, and the like, according to the types of defects to be observed.例文帳に追加

他の検査装置で検査され、検出された欠陥の位置情報をもとに、試料上の被観察位置を特定し、電子線を照射し画像を形成する際に、観察すべき欠陥の種類に応じて電子ビーム照射条件および検出器、検出条件等を指定することにより、電位コントラストで観察可能な電気的欠陥が可能になる。 - 特許庁

Since only the measurement points whose irradiation region is within partition regions of the substrate are selected by the controller, a multi-point focusing position detection system (40, 42) uses only the selected measurement points to make accurate measurement of the position (and the slope) in the optical axis direction of the partition regions, where a mask pattern is to be transferred.例文帳に追加

この場合、制御装置では、計測点の照射領域が区画領域からはみ出さない計測点のみを選択することができるので、多点焦点位置検出系（４０，４２）では選択された計測点のみを使用して、マスクパターンの転写対象の区画領域の光軸方向の位置（及び傾斜）を高精度に計測する。 - 特許庁

The positioning reference mark Q on the glass substrate A is detected through the glass substrate B by a CCD camera 12 installed inside a machining head 7, which is fed back to X axis stage and Y axis stage to carry out precise positioning for the necessary point, and then the alignment mark is machined by irradiation of the laser beam 5 at the position P overlapped with the position detection mark P.例文帳に追加

加工ヘッド７内部に設けたＣＣＤカメラ１２によりガラス基板Ｂを透過してガラス基板Ａの位置参照マークＱを検出し、これをＸ軸ステージおよびＹ軸ステージにフィードバックして必要な場所で精密な位置決め行ない、レーザビーム５の照射により位置検出マークＰと重なる位置Ｐにアライメントマークを加工する。 - 特許庁

In this method, a position of the recording layer 12 is measured in the thickness direction by a distance sensor 34 and the reproducing light is obtained from the interference fringes by irradiation with the reading light OB while a position of the holographic recording medium or the optical system is controlled so that a relative positional relation of the recording layer 12 and the reading light OB in the thickness direction is specified.例文帳に追加

この方法では、距離センサ３４により、記録層１２の位置を厚み方向について測定し、記録層１２と読出光ＯＢの厚み方向についての相対的な位置関係が一定になるように、ホログラフィック記録媒体の位置または光学系を制御しつつ、読出光ＯＢを照射して干渉縞から再生光を得る。 - 特許庁

A computation processing part 61 computes the center brightness position of the diffraction light detected in each of the relative distances, optical axes of the diffraction lights incident into the photoreception elements 1, 2 are found respectively based on the center brightness positions, and the position and attitude of the measuring face 4 are calculated based on the two obtained optical axes and an irradiation (emission) axis of the light source 3.例文帳に追加

演算処理部６１では、各相対距離において検出された回折光の輝度中心位置を演算し、その輝度中心位置に基づいて受光素子１，２に入射する回折光の光軸をそれぞれ求め、得られた２つの光軸と光源３の照射光軸とに基づいて、測定面４の位置および姿勢を算出する。 - 特許庁

Authenticity of a card is determined by use of first identification information formed on the front face side, and second identification information comprising a design formed on the front side of a center position of a cross section in a position except the front face, and second identification information allowing recognition on the front face side by transmitting light by light irradiation from the rear face side.例文帳に追加

表面側に形成された第１識別情報と、断面の中心位置よりも表側であって表面以外に形成される意匠からなる第２識別情報であって、裏面側からの光照射による透過光により表面側において認識可能な第２識別情報とを用いてカードの真贋の判定を行う。 - 特許庁

This device predicts the focal point of X rays based on the temperature of an X-ray tube 20 before the start of scanning and conditions for scanning to be implemented when a subject is scanned with an X-ray irradiation/detection device, and adjusts the position of a collimator 22 or X-ray detector 24 to irradiate X rays on a home position of the X-ray detector 24.例文帳に追加

Ｘ線照射・検出装置により被検体をスキャンするに当たり、スキャン開始前のＸ線管２０の温度およびこれから行おうとするスキャン条件に基づきＸ線焦点の位置を予測し、Ｘ線がＸ線検出器２４の定位置に照射するようにコリメータ２２またはＸ線検出器２４の位置を調節する。 - 特許庁

By controlling irradiation condition of primary electron beams 108 in which pre-charge is carried out according to conditions of the testpieces, the charge amount at the observation position is controlled by confirming that the charge amount at the observation position has become to have the desired amount from that of secondary electron signal detected by using an energy light filter 101b and two electron detectors 102a, 102b.例文帳に追加

試料の状態にあわせてプリチャージを行う一次電子線１０８の照射条件を制御し、エネルギーフィルタ１０１ｂと２つの電子検出器１０２ａ，１０２ｂを用いて検出される二次電子信号量から観察箇所が所望の帯電量になったことを確認し、観察箇所の帯電量を制御する。 - 特許庁

The exhaust gas cleaning system includes: exhaust gas cleaning catalyst; an oxide generating heat by light; and light irradiation means, wherein in the vicinity of the exhaust gas cleaning catalyst or a position in contact with the exhaust gas cleaning catalyst, pyrogenic oxide is disposed, and the pyrogenic oxide is irradiated with light from the light irradiation means, so as to increase the temperature of the exhaust gas cleaning catalyst by the pyrogenic oxide.例文帳に追加

排ガス浄化触媒と、光により発熱する酸化物と、光照射手段とを有し、排ガス浄化触媒の近傍又は上記排ガス浄化触媒に接触する位置に、光発熱性酸化物を配設し、光照射手段から上記光発熱性酸化物に光を照射し、該光発熱性酸化物の発熱により該排ガス浄化触媒を昇温させうる排ガス浄化システムである。 - 特許庁

A laser irradiation method using a laser irradiation apparatus includes: a laser oscillator; a linear optical system for changing a laser beam oscillated from the laser oscillator to a linear beam; and a stage on which a substrate to be irradiated with the linear beam is placed wherein the stage deforms the surface profile of the substrate to follow up the focal position of the linear beam checked by a profiler, and has a supporting means.例文帳に追加

レーザ発振器と、前記レーザ発振器から発振したレーザビームを線状ビームに変える線状光学系と、前記線状ビームが照射される基板を設置するステージと、前記ステージは、ビームプロファイラで調べられた前記線状ビームの焦点位置に沿うように前記基板の表面形状を変形させ、かつ、支持手段を有することを特徴とするレーザ照射装置を用いたレーザ照射方法に関する。 - 特許庁

To provide an X-ray analyzer capable of adjusting the irradiation direction and detection direction of X rays with respect to a position to be measured with high precision in a case that the composition substance of a measuring target is measured and enhanced in weight reduction to be made excellent in portability.例文帳に追加

測定対象の組成物質の測定を行う場合に、被測定位置に対するエックス線の照射方向と検出方向を高精度に調整することができ、しかも軽量化を向上させて可搬性に優れたエックス線分析装置を提供する。 - 特許庁

According to the position of the displaced part 6116 and tilting in the displaced part 6116, an irradiation area 6114 of a line symmetrical shape is set with a straight line connecting a center axis J1 with the displaced part as a symmetrical axis in the bottom surface side of the base 611.例文帳に追加

そして、変位部位６１１６の位置と、変位部位６１１６における傾きに応じて、ベース部６１１の底面側に、中心軸Ｊ１と変位部位とを結ぶ直線を対称軸として線対称な形状の照射領域６１１４が設定される。 - 特許庁

Then a light radiation force of continuous wave laser beam LB2 is applied to the adherents H separated from the surface of the object W by irradiation of the pulse laser beam LB1 for guiding the adherents H to a position where the flow of ambient gas effectively acts.例文帳に追加

そして、パルスレーザ光ＬＢ１の照射により被処理体Ｗの表面から離脱した付着物Ｈに対し、連続波レーザ光ＬＢ２による光放射圧を与えて、雰囲気ガスの流れが有効に作用する位置まで付着物Ｈを誘導する。 - 特許庁

This makes it possible to arrange the UV irradiating unit 6 at the position which is close to the bonding portion and does not interfere with the mounting head 13, to improve efficiency in irradiation with the ultraviolet rays, to make the mounting apparatus compact and to save energy.例文帳に追加

これにより、ＵＶ照射装置６を実装ヘッド１３との位置的な干渉を避けて接着部と近接した位置に配置することができ、紫外線照射の効率を向上させるとともに、実装装置のコンパクト化・省エネルギー化を図ることができる。 - 特許庁

To execute ion beam machining by allowing a reference object to be always recognized in process of the machining to carry out accurate drift correction even when a minute hole or a minute pattern is used as the reference object in correcting the drift of an irradiation position of an ion beam using the reference object.例文帳に追加

参照対象を用いてイオンビームの照射位置のドリフトを補正する際に、参照対象として微細穴や微細パターンを用いた場合でも、加工途中で参照対象を常に認識できるようにし、高精度のドリフト補正をし、イオンビーム加工を行なう。 - 特許庁

The light shielding layer BM is an insulator which is provided on a position corresponding to a separation region between the second and third electrodes 24 of a surface on the side of the light emitting layer 26 of the first electrode 22, shields the irradiation light IL and the reflected light RL, and has an opening.例文帳に追加

遮光層ＢＭは、第１電極２２の発光層２６側の表面のうち第２，第３電極２４間の離間領域に対応する位置に設けられ、照射光ＩＬと反射光ＲＬを遮光すると共に開口部が形成された絶縁体である。 - 特許庁

The light irradiation part 37 is irradiated with light from an LED 33, and its position in a direction (x) is changed with the movement of a collimator lens 6, so that the quantity of the light from the LED 33 passing through a slit 38 is adjusted in accordance with the positional change.例文帳に追加

光照射部３７には、ＬＥＤ３３からの光が照射されるとともにコリメータレンズ６の移動とともにｘ方向における位置が変化し、このような位置変化に従ってスリット３８を通過するＬＥＤ３３からの光の量を調整する。 - 特許庁

By arranging a shading plate 5 with through-holes 5a formed at the position corresponding to a plurality of LED lamps 1 in front of a base board 2 for mounting lamps, the base board 2 is prevented from direct irradiation of sun light, and an effect of reflection light is reduced.例文帳に追加

複数のＬＥＤランプ１に対応する位置に貫通穴５ａが形成されてなる遮光板５を、ランプ実装用の基板２の前方に配置することで、太陽光が基板２に直接当たることを防止して反射光の影響を軽減する。 - 特許庁

Thus, the easily handled attachment is jointly used to transfer the position information of the outside flange of the rail above the rail, whereby even if irradiation of slit light and imaging are not performed both inside and outside of the rail, a desired rail section image can be obtained.例文帳に追加

このように取扱の楽な添具を併用してレールの外側顎の位置情報がレールより上にも転写されるようにしたことにより、スリット光の照射やその撮像をレールの内外双方から行わなくても所望のレール断面像が求まる。 - 特許庁

After completing the first welding for emitting electron beam over the whole periphery of the abutting part of the rotor shaft 2 of the turbocharger 1 and the turbine blade wheel 4 once, the second welding for emitting the electron beam is carried out over the whole periphery again by displacing the beam irradiation position.例文帳に追加

ターボチャージャ１のロータ軸２とタービン翼車４の突き合わせ部分を１度全周に亘って電子ビームを照射する第１の溶接を終えた後に、ビーム照射位置を変位させて再度全周に亘って電子ビームを照射する第２の溶接を行う。 - 特許庁

To provide a dental assistant cart which enables a shadowless light to be attached to the assistant cart and enables a shadowless light irradiation position to be adjusted by the movement of the assistant cart, and prevents the shadowless light from being rocked by the movement of a patient by avoiding mechanical connection of the shadowless light to a treatment seat.例文帳に追加

無影灯をアシスタントカートに取り付けて、該無影灯の照射位置をアシスタントカートの移動により調整可能とし、更には、治療椅子に無影灯が機械的に繋がっていないようにして、患者が動くことによって無影灯が揺れるようなことをなくす。 - 特許庁

In the inkjet recording method and the inkjet recording apparatus, using a photo-setting ink, light is pre-applied to a predetermined position of a material to be recorded; and recording is done by making the photo-setting ink reach a light irradiation part and curing the photo-setting ink, while surface properties are uniformly clarified.例文帳に追加

光硬化インクを用いたインクジェット記録方法およびインクジェット記録装置で、被記録材料の所定の位置にあらかじめ光照射を行い、表面性を均一に清浄化しながら、光照射部に光硬化インクを着弾し、硬化させ記録する。 - 特許庁

To provide drift correction method and apparatus in FIB (Focused Ion Beam) automatic processing, which can make accurate correction for rotation even if the rotation happens in an irradiation position of a test piece.例文帳に追加

本発明はＦＩＢ自動加工時のドリフト補正方法及び装置に関し、試料照射位置に回転が生じた場合でもこの回転の補正を正確に行なうことができるＦＩＢ自動加工時のドリフト補正方法及び装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

The exposure device EX includes: a first member 2 which is movable on a first surface containing an irradiation position of exposure light and holds a substrate P in a releasable state; and a second member 7 which is movable on the first surface and holds a maintenance unit 6 in a releasable state.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、露光光の照射位置を含む第１面上を移動可能であり、基板Ｐをリリース可能に保持する第１部材２と、第１面上を移動可能であり、メンテナンスユニット６をリリース可能に支持する第２部材７とを備えている。 - 特許庁

A characteristic X-ray emitted from the micro area 3 on the sample 2 in response to irradiation with an electron beam 1 is efficiently collected by the X-ray lens 10 to be guided to a position distant from the sample 2, and is emitted to be converged in the focal point F4.例文帳に追加

電子線１の照射に応じて試料２上の微小領域３から放出された固有Ｘ線はＸ線レンズ１０で効率良く収集されて試料２から離れた位置まで案内され、焦点Ｆ４に収束するように出射される。 - 特許庁

The range of radiography is determined for the long radiography of the subject when the lifting device is at a reference height position, and the range of radiography is divided into a plurality of sections to determine a plurality of irradiation fields for the radiography.例文帳に追加

昇降装置が基準高さ位置のときの被験者を長尺撮影する際に撮影範囲を決定し、その撮影範囲を複数に分割して撮影する際の複数の照射野領域を決定し、この照射野領域の最適化が必要か否かを判断する。 - 特許庁

Consequently, variation in irradiation position of an electron beam based on a vibration transmitted from the outside of an apparatus, e.g., from the floor surface on which an electron beam lithography apparatus 100 is mounted, can be corrected efficiently and thereby the substrate W can be patterned precisely.例文帳に追加

これにより、電子線描画装置１００が載置された床面など、装置の外部から伝わる振動に基づく電子線の照射位置の変動分を効率的に補正することができ、結果的に、基板Ｗに精度よくパターンを描画することが可能となる。 - 特許庁

This makes it possible to easily address even a case where a mark showing a different content needs to be formed in the same position in a front lens 12 according to the direction of a light fixture, as a light fixture certification mark M1, by properly control laser irradiation.例文帳に追加

これにより灯具認証マークＭ１のように灯具の向先に応じて前面レンズ１２の同一位置に表示内容の異なるマークの形成が必要な場合にもレーザ光の照射制御を適当に行うことにより容易に対応可能とする。 - 特許庁

In the ultrasonic flaw detection method by the water immersion method, an ultrasonic sensor and a laser are mounted on a drive part driven by remote operation, and a specimen is irradiated with a visible laser beam from the laser to get the irradiation position of the visible laser beam photographed by a camera to perform flaw detection.例文帳に追加

水浸法による超音波探傷方法において、遠隔操作によって駆動する駆動部に超音波センサとレーザを搭載させ、レーザから被検体へ可視レーザ光線を照射し、カメラにて可視レーザ光線の照射位置を撮影して探傷を行う。 - 特許庁

An ultraviolet irradiation device 1 is used which includes a thermometer 100 provided on an outer periphery inside a lamp housing 4 and at a position where the lamp housing 4 and a cylinder 3 through which water to be treated 2 flows intersect with each other so as to be along a flow of the water to be treated 2.例文帳に追加

ランプハウジング４の内側の外周部であって、ランプハウジングと被処理水２が流れるシリンダー３とが交差する位置に被処理水２の流れに沿うように設けられた温度計１００とを備えている紫外線照射装置１を用いる。 - 特許庁

In the case of controlling the galvanoscanner for scanning an irradiation position of a laser beam by driving a mirror 22 by a motor 20, a command torque and an actual torque are computed respectively and variation between the torques is found from their difference to correct a current command value supplied to the motor 20.例文帳に追加

モータ２０によりミラー２２を駆動して、レーザ光線の照射位置を走査するためのガルバノスキャナの制御に際して、指令トルクと実際のトルクをそれぞれ演算し、その差からトルクの変動を求めて、モータ２０に与える電流指令値を補正する。 - 特許庁

When information is to be recorded in the information recording region 7 of the recording medium, the irradiation position 101 of the information light and the referential light for recording is moved for a prescribed period to follow up the one information recording region 7 which moves.例文帳に追加

記録媒体の情報記録領域７に情報を記録する際には、所定の期間、移動する１つの情報記録領域７に情報光および記録用参照光の照射位置１０１が追従するように、照射位置１０１が移動される。 - 特許庁