「irradiation position」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

Then an adhesive is arranged between the top panel of the head 15 and a surface A29-1 of the fixture 19 and the adhesive is hardened by irradiation with UV to form the adhering layer 27 while adjusting a position of the head 15 in a z-axis direction.例文帳に追加

次に、接着剤をヘッド１５の天面と固定具１９の面Ａ２９−１間に配して、ヘッド１５のＺ軸方向の位置を調整しつつ接着剤にＵＶ照射を行って硬化させ接着層２７を形成する。 - 特許庁

As for the radiograph reader, the drive of a sheet carrying means 9a for carrying a stimulable phosphor sheet 1 on which a radiograph is stimulably recorded to the irradiation position of the laser beam 11 is detected by a control means 30.例文帳に追加

放射線画像読取装置において、放射線画像が蓄積記録された蓄積性蛍光体シート１をレーザ光１１の照射位置に搬送するシート搬送手段９ａの駆動を制御手段３０において検出する。 - 特許庁

The device 10 for cleaning the machined workpiece W for the suspension of a disk device is provided with a workpiece support part 40 for supporting the workpiece W in a predetermined position, a laser irradiation device 41, and a laser beam control means 42.例文帳に追加

ディスク装置用サスペンションの加工されたワークＷをクリーニングするための装置１０であって、ワークＷを所定の位置に支持するためのワーク支持部４０と、レーザ照射装置４１と、レーザビーム制御手段４２などを備えている。 - 特許庁

To prevent reflected light incident on a sealing material from being disturbed, even if the sealing material shifts in position owing to variation in size and shape of an outline, and to prevent a liquid crystal panel from deviating, from an irradiation area due to vibration.例文帳に追加

画郭の大きさや形状の変化によりシール剤の位置が変化しても、シール剤に入射する反射光を妨げないようにし、また、振動等により液晶パネルが照射領域から外れてしまうことがないようにすること。 - 特許庁

The rib wafer 1 is held to a stage 20 by directing its back face side downward, an irradiation position 7 on the front face side of the rib wafer 1 on the inner peripheral side relative to the rib part 3 is irradiated with a laser beam 22 from a laser device 21 to cut the rib part 3.例文帳に追加

そして、リブウェハ１の裏面側を下にしてステージ２０に保持させて、リブウェハ１のおもて面側の、リブ部３より内周側の照射位置７に、レーザ装置２１からレーザ光２２を照射し、リブ部３を切断する。 - 特許庁

To provide a projection illumination fixture in which brightness on the an illuminated face can be kept by changing irradiation directions by changing the light-emitting center of a light source according to the distance between the fixture main body and the illuminated face and the position.例文帳に追加

器具本体と照射面までの距離や位置によって、光源の発光中心を変えて照射方向を変更することが可能であって、照射面の明るさを保つことができる投光形照明器具を提供する。 - 特許庁

The housing 2 is mounted to the back side of the driver's seat and at the center position in the vehicle width direction, and the irradiation range of the cold cathode tubes 5 and 6 is set under the lower edge of the vehicle windowpane on the back side of the driver's seat.例文帳に追加

ハウジング２は、運転席より後方であって車幅方向の中央位置に取り付けられ、冷陰極管５，６は、その照射範囲が、運転席より後方における車窓ガラスの下縁より下方に設定されている。 - 特許庁

The defect inspection apparatus 1, using the coordinate table 6a, irradiates the laser light 5a to the predetermined position of the sample 20, in the predetermined order and detects a signal caused by a temperature change ΔT generated by the irradiation to inspect a defect.例文帳に追加

欠陥検査装置１は、座標テーブル６ａを用い、レーザ光５ａを試料２０の所定位置に所定順序で照射し、照射によって生じる温度変化ΔＴに起因した信号を検出し、欠陥検査を行う。 - 特許庁

To provide a sample holding device capable of coping with both X-ray diffraction measurements of a transmission method or a reflection method, holding a plurality of samples, and arranging an optional portion of each held sample on an X-ray irradiation position.例文帳に追加

透過法と反射法、いずれのＸ線回折測定にも対応可能で、複数の試料を保持でき、しかも保持した各試料の任意の部位をＸ線照射位置へ配置することができる試料保持装置を提供する。 - 特許庁

The position on the mask is heated at each line strength by an irradiation projector containing a radiation device 300 located outside a lithography beam path, and the heating of the masks generates a distortion in a mask pattern by local thermal expansion.例文帳に追加

マスク上の位置はリソグラフィービーム経路の外に配置された放射線装置３００を含む照射投光器によりそれぞれの線強度で加熱され、マスクの加熱は局部熱膨張によりマスクパターンに歪みを発生する。 - 特許庁

Thereafter, the resulting glass layer (103) is irradiated with a laser beam along the scheduled region R for fusion bonding with the laser absorption part (108a) taken as the irradiation initiation position, whereby the glass layer (103) is fused and fixed on a glass member (104).例文帳に追加

そして、レーザ光吸収部１０８ａを照射開始位置として溶着予定領域Ｒに沿ってレーザ光を照射してガラス層１０３を溶融させてガラス部材１０４にガラス層１０３を定着させる。 - 特許庁

To provide a light irradiation device capable of positioning a long rod-type lamp against a mirror at a predetermined position and supporting the lamp without giving a load on a specific site such as a sealed part or the like and moreover capable of easily fixing and removing the lamp.例文帳に追加

長い棒状ランプをミラーに対して設定された位置に位置決めして、シール部等の特定の部位に荷重を掛けることなく支持することができ、また、ランプの取り付け取り外しが容易な光照射器を提供すること。 - 特許庁

Consequently, as compared with a conventional method by which the laser beam is emitted aiming the edge of a metallic material, the laser beam 34 is emitted in an emitting position easily because the irradiation region is recognized clearly by a worker.例文帳に追加

そのため、金属材の縁を狙ってレーザビームを照射する従来の方法に比べて、作業者が照射領域を明確に把握することができるので、照射位置にレーザビーム３４を容易に照射することができる。 - 特許庁

The joining member is irradiated with the laser beam so that an incident direction of the laser beam at an irradiation position on the joining member does not include components toward the interior of the frame member while the laser beam moves relative to the temporary assembly.例文帳に追加

レーザ光は仮組み構造に対して相対移動させるとともに、接合部材の照射位置におけるレーザ光の入射方向が枠部材の内側を向く成分を持たないように接合部材にレーザ光を照射する。 - 特許庁

At each moving position of the irradiation spot Q where the variation of the light receiving amount is large at the time of performing the sampling mode, the lowering of the precision of measurement caused by the tracking delay of the feed back control is inhibited by lowering the moving speed of the XY stage 14.例文帳に追加

サンプリングモード実行時において受光量変化が大きかった照射スポットＱの各移動位置では、ＸＹステージ１４の移動速度を下げてフィーバック制御の追従遅れによる測定精度の低下を抑制する。 - 特許庁

An adjustment mechanism capable of adjusting an irradiation direction to an optimal position in accordance with the shape of a book is used so that the illumination light may not enter into eyes of a reader by arranging a light shielding cover, and reading comfort and alleviation of eye fatigue can be attained.例文帳に追加

照明光は書物の形状に合わせて照射方向を最適位置に調整可能な調整機構を用い、照明光は読者の目に入らないよう遮光カバーを設け、読書の快適性と目の疲労を軽減する。 - 特許庁

When a main CPU that is an exposure control means cooperates with a photometric/distance measuring CPU to designate a consecutive shot mode, the liquid crystal shutter is moved to an operation position to control the irradiation of object light to a CCD in consecutive shots.例文帳に追加

露出制御手段であるメインＣＰＵと測光・測距ＣＰＵとが連携して、連写モードが指定されたときには、液晶シャッタを作用位置に移動させ連写時のＣＣＤへの被写体光の照射を制御する。 - 特許庁

A slit plate 30 having a slit width D depending upon the size of an assumed monitoring area is disposed in a designated position in front of a scanning mirror 12, and the irradiation range of the scan beam BM1 from the scanning mirror 12 is limited to the slit width D.例文帳に追加

想定される監視領域の大きさに応じたスリット幅Ｄを有するスリット板３０を、走査ミラー１２前方の所定位置に配置し、走査ミラー１２からの走査ビームＢＭ１の照射範囲を、スリット幅Ｄに限定する。 - 特許庁

On the other hard, the rotation of an imaging ultrasonic probe 22 is controlled by a probe rotating mechanism part 15 to collect the ultrasonic image data of a cross section of the subject 1 including the irradiation position to display the same on a display part 16.例文帳に追加

一方、イメージング用超音波プローブ２２をプローブ回転機構部１５によって回転制御することによって、前記照射位置を含む被検体１の断面の超音波画像データを収集し表示部１６にて表示する。 - 特許庁

In the scanning, the galvano mirror is displaced in accordance with a change in the feeding speed of the paper to move the irradiation position of the laser beam in a direction parallel to the paper feeding direction, thereby the perforations are formed in the width direction of the paper.例文帳に追加

スキャンに際しては紙の送り速度の変化量に応じてガルバノミラーを変位させてレーザ光の照射位置を、紙の送り方向と平行な方向に移動させることにより、紙の幅方向にミシン目を形成できるようにした。 - 特許庁

To enable a display medium which changes gradation in accordance with irradiation of light and application of voltage to radiate light having an energy amount equal to or more than a predetermined amount to any position where the gradation is changed.例文帳に追加

光の照射及び電圧の印加に応じて階調を変化させる表示媒体に、階調を変化させるべき位置のいずれに対しても、あらかじめ決められた量以上のエネルギー量の光を照射できるようにすること。 - 特許庁

Then, the test substance is analyzed by using fluorescence generated when the position of irradiation RR with the excitation light L on the test region TR as determined on the basis of the plurality of adjustment fluorescence signals AFS is irradiated with the excitation light L.例文帳に追加

そして、複数の調整用蛍光信号ＡＦＳに基づいて決定されたテスト領域ＴＲに対する励起光Ｌの照射位置ＲＲに励起光Ｌを照射した際の蛍光を用いて被検物質の分析を行う。 - 特許庁

The bar code reader includes a second unit 40 reading the one-dimensional bar code 810 by the scanning by laser light 700; and a first unit 30, moving an irradiation position of the laser light 700 perpendicular wit respect to a direction of the scanning.例文帳に追加

レーザ光７００による走査によって１次元バーコード８１０を読み取る第２ユニット４０と、レーザ光７００の照射位置を走査の方向に対して垂直となる方向に移動させる第１ユニット３０とを備える。 - 特許庁

Irradiation of laser beams LB is applied from the upper part of the corresponding position to the small diameter holes 1b in the joint piece part 2b of the tab terminal 2 piled up on the tab terminal joint piece part 1a to joint them.例文帳に追加

タブ端子接合片部１ａの上側に重合配置されるタブ端子２の接合片部２ｂにおける小径孔１ｂの対応位置上方からのレーザビームＬＢ照射によるレーザ溶接により互いに接合される。 - 特許庁

The apparatus of measuring neutron intensity distribution combines a scintillator 3 for generating fluorescence by neutron irradiation and a position detection photomultiplier 4 of a structure taking out output signals Vx1, Vx2, Vy1 and Vy2 from both ends of respective X and Y directions.例文帳に追加

中性子照射により蛍光を発生するシンチレータ３と、ＸＹ方向のそれぞれの両端から出力信号Ｖｘ１、Ｖｘ２、Ｖｙ１、Ｖｙ２を取り出す構造の位置検出型光電子増倍管４とを組合わせる。 - 特許庁

Also, the stairs-like range shifter 3 constituted in a stairs-shape for controlling the position in the depth direction in the irradiation range 7 inside the body 6 to be irradiated by passing the deflected charged particle beam 2 is disposed.例文帳に追加

また、偏向された荷電粒子ビーム２を通過させることにより、被照射体６の内部の照射領域７での深さ方向の位置を制御する階段状に構成された階段状レンジシフタ３が設けられている。 - 特許庁

Welding is performed while the arc torch 6 is inclined to have an angle of advance with respect to the welding direction, and the arc targeting position 8 on the surface of the work 1 is before the laser beam irradiation point 7 in the welding method.例文帳に追加

このとき、アークトーチ６を溶接方向に対して前進角をもつように傾け、更に被溶接材１の表面におけるアークねらい位置８がレーザ光照射点７よりも溶接方向前方になるようにして溶接する。 - 特許庁

To provide an electron beam apparatus immediately detecting an error in position of an electron beam generated during lithography of a sample and a failure in characteristics such as an electron beam irradiation amount, and a device manufacturing method using the electron beam apparatus.例文帳に追加

試料の描画中に発生する電子ビームの位置異常、電子ビーム照射量等の特性の異常の発生を即座に検出できる電子ビーム装置及びその電子ビーム装置を用いるデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

A testing substrate 91 formed with no resist film is mounted on a stage 10, pulse lights PL are emitted from optical heads 32a, 32d, 32g, and projection images SPI thereof are photographed by irradiation position measuring cameras 51, 52, 53.例文帳に追加

レジスト膜が形成されていない試験用基板９１をステージ１０上に載置し、光学ヘッド３２ａ，３２ｄ，３２ｇからパルス光ＰＬを照射するとともに、その投影像ＳＰＩを照射位置計測カメラ５１，５２，５３により撮影する。 - 特許庁

More specifically, the control unit 50 specifies what position on the paper passes through an irradiation range of a laser beam source 66a based on detection timing by the sensor 66c and conveying speed of the paper by a paper conveying device 66b.例文帳に追加

より具体的には、制御部５０は、センサ６６ｃによる検出タイミングと用紙搬送装置６６ｂが用紙を搬送する速度とに基づいて、レーザ光源６６ａの照射範囲を用紙上のどの位置が通過しているかを特定する。 - 特許庁

Namely, the electron beams are deflected, based on the deviation information removing the frequency component which is low, correlated with the secondary electronic signal of components of the deviation information, thereby correcting the irradiation position of the electron beams on the substrate W.例文帳に追加

すなわち、偏差情報の成分のうちの２次電子信号と相関の低い周波数成分が除去された偏差情報に基づいて電子線を偏向することにより、基板Ｗ上の電子線の照射位置の補正を行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer manufacturing method that forms a modified part by generating a multiphoton absorption process only at a prescribed depth position of a semiconductor wafer by laser beam irradiation in a short period of time so as to utilize the modified part as a gettering sink.例文帳に追加

レーザビームの短時間の照射により半導体ウェーハの所定の深さ位置のみに多光子吸収過程を生じさせて改質部分を形成し、ゲッタリングシンクとして活用する半導体ウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

An optical path length variable means 8 varies the optical path length of a measuring optical path, and an optical path formation part 5 multiplexes reflected light from a reference mirror with reflected light from an irradiation position of an irradiated measuring object, and outputs the multiplexed light.例文帳に追加

光路長可変手段８が測定光路の光路長を可変させて、光路形成部５が、参照鏡からの反射光と照射された被測定物の照射位置からの反射光とを合波して出力する。 - 特許庁

The unit requires no adjustment and is left as non-adjusting, while adjusting the irradiation position or the inclination of the scanning line as required by making it possible to select the fixed positioning pin provided in an optical box or the adjustment pin of another material.例文帳に追加

光学箱に設けた固定式の位置決めピンと、別部材の調整ピンのどちらか一方を選択可能にすることにより、無調整で済むユニットは無調整とし、必要に応じて照射位置・傾きを調整する。 - 特許庁

To solve the problem wherein inspection of a sample easy to charge with high sensitivity/high stability is difficult since continuous irradiation thereof with electron beam causes drifting of the position or focal point of an electron beam image by change with time of the charged potential.例文帳に追加

帯電が蓄積しやすい試料に対して電子線を照射し続けると、帯電電位が経時変化することにより電子線画像の位置や焦点がドリフトするため、高感度・高安定での検査が困難である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an ink ejection head in which half-curing or curing of the position of a nozzle formation layer used as a nozzle hole is prevented, and which can prevent the generating of an inferior good in an ultraviolet irradiation process of photolithography.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法の紫外線照射工程において、ノズル孔となる位置のノズル形成層の半硬化又は硬化を防止し、不良品の発生を防止することができるインク吐出ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

The deviation of an irradiation spot of the charged beam 6 due to an incline deflection is corrected and controlled by the observation position, feeding back an input value as well as an incline angle of the defector 32 for observing inclination to an input value of the scan deflector 26.例文帳に追加

傾斜偏向による荷電ビーム６の照射位置のずれは、傾斜観察用偏向器３２への入力値および傾斜角度を走査偏向器２６の入力値にフィードバックすることにより観察位置を補正制御する。 - 特許庁

To provide a method of measuring micro displacement for measuring the micro displacement highly precisely by controlling the position of irradiation on the emitting side for an object of measurement and determining only the presence/absence of the reflected light on the light receiving side.例文帳に追加

測定対象物に対して投光側で照射位置を制御するようにし、受光側では反射光の有無のみを判断して微小変位量を精度高く測定するようにした微小変位の測定方法を提供すること。 - 特許庁

During the X-ray CT, the pivot control section controls the pivot moving mechanism to move the pivot 32 to a position intersecting the irradiation direction of a cone beam X-ray 12 and in a direction different from the pivot 32.例文帳に追加

そして、旋回軸制御部は、Ｘ線ＣＴ撮影をする間に、旋回軸移動機構を制御して、旋回軸３２の位置を、コーンビームＸ線１２の照射方向と交差し、且つ旋回軸３２の方向と異なる方向に移動させる。 - 特許庁

Accordingly, between the upstream side of the galvano scanner and the surface of the workpiece, the optical axis of the laser beam and the optical axis for the distance detection coincide with each other, so that a distance to the irradiation position of the laser beam can be always accurately detected.例文帳に追加

こうすれば、ガルバノスキャナの上流側から被加工対象物の表面までの間では、レーザ光の光軸と、距離検出用の光軸とが一致するので、常に正確に、レーザ光の照射位置までの距離を検出できる。 - 特許庁

When the display element of the liquid crystal panel 180 is rewritten, a backlight controller 116 restricts irradiation by a light source corresponding to the position of the display element, out of one or more light sources included in a backlight 190, for a fixed time.例文帳に追加

そして液晶パネル１８０の表示素子が書き換えられる場合、バックライト制御部１１６は、バックライト１９０が備える１以上の光源のうち、当該表示素子の位置に対応する光源の照射を一定時間制限する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining apparatus that can perform stable laser oscillation by suppressing variation in output and in pointing position caused by instability of laser oscillation which is caused during machining by intermittent irradiation with high-output laser beam.例文帳に追加

断続的に高出力のレーザを照射して加工を行う際に生じる、レーザ発振の不安定さに起因する出力変動やポインティング位置の変動を抑制して、安定したレーザ発振を行えるレーザ装置を提供する。 - 特許庁

A sample image including the appearance of the sample is displayed on a display device of a control computer of the charged particle beam device, and an irradiation position of the charged particle beams, and the track of observation/working operation are superimposed and displayed on this sample image.例文帳に追加

荷電粒子線装置の制御用コンピュータの表示装置に試料の外観を含む試料画像を表示し、この試料画像に荷電粒子線の照射位置、及び観察・加工操作の軌跡を重畳して表示する。 - 特許庁

The plurality of laser beams R simultaneously emitted from the irradiation surface 21a of the laser irradiator 21 are condensed so that a condensing point (focal point) may be in a position which is tens of micrometers deep from the one surface 2a of the single crystal wafer 2.例文帳に追加

レーザ照射体２１の照射面２１ａから同時に出射された複数本のレーザビームＲは、集光点（焦点）が単結晶ウェーハ２の一面２ａから数十μｍ程度深い位置になるように集光される。 - 特許庁

To easily visually discriminate the displacement of a laser light irradiation position with respect to a sealing plug, that is, the displacement of a welding spot by devising the sealing plug for sealing an electrolyte pouring hole of a sealed battery.例文帳に追加

密閉型電池の電解液注入孔を封止する封止栓に工夫を凝らすことにより、該封止栓に対するレーザー光の照射位置の位置ズレ、すなわち溶接個所の位置ズレを目視にて簡単に判別できるようにする。 - 特許庁