「irradiation position」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a bonded part at the accurate position of resin members and to enable a partial change in bonding strength without performing the alteration of laser output, in a bonding method superposing the resin members one upon another to mutually bond them by the irradiation with laser beam.例文帳に追加

樹脂部材を重ね合わせて、レーザ光照射により互いに接合する接合方法において、樹脂部材の正確な位置に接合部を得ることができ、かつレーザ出力の変更等をすることなく接合強度の部分的な変化を可能とすることである。 - 特許庁

At a position immediately in front of the sheet material 2 that comes into contact with the outer peripheral surface of the roller 1, or immediately after it separates from the outer peripheral surface, a laser beam is applied from a laser beam irradiation source 7 of the non-contact thickness-measuring device 6 to the sheet material and measures the thickness.例文帳に追加

ローラ１の外周面にシート材料２が接触する直前または外周面から離れる直後の位置において、非接触型厚み測定装置６のレーザー光照射源７からレーザー光をシート材料に照射して厚みを測定する。 - 特許庁

When the kind of an optical disk is discriminated by a depth of a data recording layer from the surface which is irradiated with a light beam, the irradiation is performed while a focus position of the light beam is varied with a constant velocity in a direction of the depth from the surface of the optical disk.例文帳に追加

光ビームが照射される面の表面からデータ記録層までの深さに応じて光ディスクの種類を判別する場合、光ディスク表面から深さ方向の一方向に一定速度で光ビームのフォーカス位置が可変されながら照射される。 - 特許庁

Based on the measured results, the rotation angle of the cathode component 3 is led to the effect that the difference of the distance of each of the beam passing holes 8A, 8B to the beam irradiation face 1A becomes the smallest and the rotatinal position of the cathode component 3 is arranged in compliance with the extracted rotation angle.例文帳に追加

さらに、その測定結果に基づいて、各ビーム通過孔８Ａ，８Ｂとビーム出射面１Ａとの距離の差が最小となる陰極構体３の回転角度を抽出し、該抽出した回転角度に合わせて陰極構体３の回転位置を設定する。 - 特許庁

The laser light, emitted from the laser oscillator, passes through the lens array, such as cylindrical lens array and is divided into plurality, and the laser light after divided passes through an opening of a slit at a focus position, then, passes through a condenser lens, and is irradiated on an irradiation surface.例文帳に追加

レーザ発振器から射出されたレーザ光をシリンドリカルレンズアレイ等のレンズアレイを通過させて複数に分割し、分割後のレーザ光を焦点を結ぶ位置でスリットの開口を通過させ、その後更に集光レンズを通過させて照射面上に照射する。 - 特許庁

An ultrasonic oscillator is arranged in a prescribed position of a solution vessel for a chloride or the like, a mist of a solution generated by ultrasonic irradiation in the solution is guided into a corrosion test piece under a prescribed condition, and the deposit amount and the deposit shape are controlled thereby.例文帳に追加

超音波振動子を塩化物などの溶液槽に所定位置に配置し、溶液中での超音波照射により発生した溶液のミストを所定条件のもとに腐食試験片に導くことにより、付着量や付着形状の制御を行う。 - 特許庁

Furthermore, an inclination adjusting mechanism 35 is interposed between the other end 20b and the chassis and then the other end 20b is shifted in the direction of an arrow B by adjusting the tightening amount of a feed screw 36 thus adjusting the irradiation starting position of laser light to the sub-scanning direction (direction of an arrow b).例文帳に追加

また他端部２０ｂとシャーシとの間に傾き調整機構３５を介装し、送りねじ３６の締め込み量を調整して他端部２０ｂを矢印Ｂ方向に移動させ、レーザ光の照射開始位置を副走査方向（矢印ｂ方向）に調整する。 - 特許庁

The three-dimensionally designed shape data of the three-dimensional structure is used to seek a plurality of a two-dimensional shape data by a differential calculus using a CAD data, the working is carried out by controlling the irradiation position of the electrically-charged particle beam based on the plurality of the two-dimensional shape data.例文帳に追加

そして、３次元構造体の設計３次元形状データはＣＡＤデータを用い、微分によって複数の２次元形状データを求め、該複数の２次元形状データに基いて荷電粒子ビームの照射位置を制御して加工を実行する。 - 特許庁

A detecting means (photodetection unit 73) to detect the intensity of laser light is placed, at a position where a hologram photosensitive body 50 as an object of exposure is disposed, and the irradiation state of the laser light is inspected based on the detection result by the detecting means.例文帳に追加

露光対象物であるホログラム感光体５０が配置される位置にレーザ光の光強度を検出する検出手段（光検出部７３）を配置し、当該検出手段による検出結果に基づいて、前記レーザ光の照射状態を検査する。 - 特許庁

This method is characteristic of the relative displacement of a convergent point by the convergent irradiation of the compound semiconductor glass and pulse laser having the compound semiconductor consisting of more than two kinds of element in an expected position of the glass continuously and cyclically.例文帳に追加

２種以上の元素からなる化合物半導体を、ガラスの所望する位置に、連続的および／または周期的に有する化合物半導体ガラス、および、パルスレーザを集光照射し集光点を相対移動することを特徴とする該ガラスの製造方法。 - 特許庁

An introducing conduit 14 which introduces a backup light source 60 to the position of a fluorescent material part 22 is provided to irradiate the fluorescent material part 22 with the light emitted from the backup light source 60 introduced by using the introducing conduit 14 via an irradiation window 61.例文帳に追加

蛍光体部２２の位置まで予備光源６０を導入可能な導入管路１４を設け、その導入管路１４を用いて導入された予備光源６０から射出された光を、照射窓６１を介して蛍光体部２２に照射できるようにする。 - 特許庁

An irradiation optical system 34 focuses the laser light L1 onto a focus position P on the surface of or inside the methane hydrate layer 95 to generate harmonic light L2 by a multiphoton process, and emits the generated harmonic light L2 onto the methane hydrate layer 95.例文帳に追加

照射光学系３４により、そのレーザ光Ｌ１をメタンハイドレート層９５の表面または内部の集光位置Ｐで集光することで多光子過程により高調波光Ｌ２を発生させ、その高調波光Ｌ２をメタンハイドレート層９５へ照射する。 - 特許庁

As the first and second alignment holes 14, 15 are disposed with the centers to be positioned on the scanning line S of the measurement light, misalignment of the irradiation position of the measurement light from the actual center positions of the alignment holes is detected to carry out alignment, according to deformation of the substrate 20.例文帳に追加

第１及び第２アライメント穴１４、１５は、中心が計測光の走査線Ｓ上に位置するように設けてあり、計測光の照射位置と各アライメント穴の実際の中心位置とのずれを検出して、基板２０の変形に応じたアライメントを行なう。 - 特許庁

The reading apparatus has a third light source for applying light crossing a sub-scanning direction in addition to first and second light sources 110, 120 for irradiating an irradiation position P with light along the sub-scanning direction (left direction in the figure).例文帳に追加

本発明に係る読取装置は、副走査方向（図において左方向）に沿った光を照射位置Ｐに照射する第１光源１１０及び第２光源１２０に加え、副走査方向に対して交差するような光を照射する第３光源を備える。 - 特許庁

The supporting means 11 is supported by a multi-articular robot 12 and shifts the semiconductor wafer W relatively so that the adhesive layer surface SA of the adhesive sheet S does not get out of the position of the focal axis P when the ultraviolet light irradiation means 13 is swung.例文帳に追加

支持手段１１は、多関節ロボット１２に支持され、紫外線照射手段１３が首振り動作したときに、接着シートＳの接着剤層面ＳＡが焦点軸Ｐの位置から外れることがないように、ウエハＷを相対的に変位させる。 - 特許庁

In the device, a mask layer 2 whose optical characteristics are reversibly changed by irradiation with light is provided in a flat surface including the light condensing position of a hemispherical lens 1, and the optical characteristics of a part mask layer 2 within a light spot are changed by laser beams when information is reproduced.例文帳に追加

半球レンズ１の光集光位置を含む平坦面に、光照射によって光学特性が可逆的に変化するマスク層２を設け、情報再生時にレーザ光で光スポット内の一部分のマスク層２の光学特性を変化させる装置構成とする。 - 特許庁

Shift detectors 204a and 204b for detecting the shift of an X-ray beam irradiation position are provided between an X-ray source 201 and a collimator 203, and a part of the channel of the X-ray detector 205 is utilized as a shift detection channel 205a.例文帳に追加

Ｘ線源２０１とコリメータ２０３との間にＸ線ビームの照射位置のずれ（シフト）を検出するためのシフト検出器２０４ａ，２０４ｂを備えるとともに、Ｘ線検出器２０５の一部のチャネルをシフト検出チャネル２０５ａとして利用する。 - 特許庁

As the printing plate pattern drawn by the laser, a dot close pattern surrounded only by laser irradiation regions or by laser unirradiation regions is used and the dot close pattern is imaged by an image taking-in sensor 3 while using direct motivation mechanisms 6a, 6b which can move to a predetermined position.例文帳に追加

レーザで描画した刷版パターンとして、周囲をレーザ非照射のみまたは照射のみの領域で囲んだ網点閉パターンを用い、所定の位置に移動可能な直動機構６ａ、６ｂにより、画像取り込みセンサ３にて網点閉パターンを撮像する。 - 特許庁

The current density of an electron beam for charge neutralization and the irradiation position, range and intensity of the electron beam are varied in time series to achieve optimum conditions for each of a plurality of patterns different from each other in optimum conditions in charge neutralization and each defective part is irradiated.例文帳に追加

電荷中和の最適条件が異なる複数のパターンに対して、時系列的に電荷中和用の電子ビームの電流密度や照射位置・範囲・強度をそれぞれのパターンの最適条件になるように変化させて欠陥を含んだ個所に照射する。 - 特許庁

To provide an SEM type inspection device improved in image quality and defect detection sensitivity by reducing pixel displacement when a two-dimensional image is formed by displacement of an electron beam irradiation position by deflection circuit noise generated in a constituent element of a beam deflection control circuit.例文帳に追加

ビーム偏向制御回路の構成素子で発生する偏向回路雑音による電子ビーム照射位置のずれによる二次元画像化したときの画素ずれを低減して画質及び欠陥検出感度を向上させたＳＥＭ式検査装置を提供することにある。 - 特許庁

Then the region of interest (ROI) and its peripheral area AR are set up as an irradiation range RR, and a marker MP is arranged in the peripheral area by the operation of a marker transfer means 10 under the control of a marker position control means 24.例文帳に追加

すると、関心領域ＲＯＩおよびその周辺領域ＡＲが照射範囲ＲＲとして設定されるとともに、マーカー位置制御手段２４の制御に基づいて周辺領域にマーカーＭＰがマーカー移動手段１０の動作により配置される。 - 特許庁

A method includes a step of irradiating laser to a molding face including a bottom face of a cavity 12a of a molding die 12 with the laser being focused on the molding face, and forming a plurality of microscopic grooves 13 while moving the irradiation position so as to form a smooth surface including the microscopic grooves 13.例文帳に追加

モールド金型１２のキャビティ１２ａの底面を含む金型面にレーザー光をフォーカスしながら照射し、照射位置を移動しながら微細な溝１３を多数形成して当該多数の溝１３を含む滑面を形成する工程を含む。 - 特許庁

Tail lamps 5A, 5B are equipped with a transparent cylindrical body 11, and a dome shaped reflector 13 fixed in the cylindrical body 11, light emitted from a focal position of the reflector is reflected by the reflector 13 and irradiated toward the irradiation direction.例文帳に追加

テールランプ５Ａ、５Ｂは、透明の筒状体１１と、前記筒状体１１内に固定されたドーム状のリフレクタ１３と、を備えて、前記リフレクタの焦点位置から出射される光を前記リフレクタ１３で反射して照射方向に向けて照射する。 - 特許庁

An illumination device 40 includes: an optical element 50 including a hologram recording medium 55 that can reproduce an image 5 of a scattering plate 6; and an irradiation device 60 that irradiates the optical element with coherent light so as to scan the hologram recording medium with the coherent light and to allow the coherent light incident to each position of the hologram medium to reproduce an image at a position as overlapping with other coherent light.例文帳に追加

照明装置４０は、散乱板６の像５を再生し得るホログラム記録媒体５５を含む光学素子５０と、コヒーレント光がホログラム記録媒体上を走査し且つホログラム記録媒体の各位置に入射したコヒーレント光がそれぞれ重なる位置に像を再生するように、コヒーレント光を前記光学素子へ照射する照射装置６０と、を備える。 - 特許庁

Only the cream solder 3 printed on a substrate 2 is irradiated with light while scanning the surface of the substrate 2 on the basis of the printing position data acquired by a printing position acquiring means of CAD data or the like before an electronic component is mounted on the substrate 2 and the inspection target intensity of infrared rays with a specific wave number reflected from the cream solder 3 by irradiation with light is detected.例文帳に追加

基板２への電子部品搭載前に、ＣＡＤデータ等の印刷位置取得手段で取得した印刷位置情報に基づいて、基板２上を走査しながら基板２上に印刷されたクリーム半田３に対してのみ光を照射し、この光の照射によってクリーム半田３から反射してくる特定波数の赤外線の検査対象強度を検出する。 - 特許庁

The electron beam lithography device 100 includes a first measuring instrument 4 which irradiates a mark formed on a substrate 6 with light and detects reflected light of the irradiation light to measures the position of the mark, a second measuring instrument 24 which detects a secondary electron generated from an electron beam irradiating the mark from an electron source through an electrooptical system to measure the position of the mark, and a controller 12.例文帳に追加

電子線描画装置１００は、基板６に形成されたマークに光を照射し、照射された光の反射光を検出して前記マークの位置を計測する第１計測器４と、電子源から電子光学系を介して前記マークに照射された電子線から発生する二次電子を検出して前記マークの位置を計測する第２計測器２４と、制御器１２と、を備える。 - 特許庁

The warning device 1 comprises: a person-position detection circuit 14 to detect an oncoming vehicle area in which an oncoming vehicle is present and a person; and a marking wave irradiation device 15 to irradiate laser beams to designate the person outside the oncoming vehicle area if the person is present in the oncoming vehicle area according to the result of detection by the person-position detection circuit 14.例文帳に追加

警報装置１に、対向車両が存在する対向車両領域、及び人物を検出する人物位置検出回路１４と、人物位置検出回路１４による検出結果に基づいて、人物が対向車両領域内に存在する場合に、人物を指定するレーザを対向車両領域の外に照射するマーキング波照射装置１５と、を備えさせた。 - 特許庁

This is a getter shield structure of an electron beam position detection device 31 that outputs electric signals corresponding to the irradiation of the electron beam eB installed in the cathode-ray tube, and comprises an index electrode 15 that is made of a conductive material and has an opening for detecting the electron beam position and a shied plate 17 that shields the electron beam eB transmitted from the opening.例文帳に追加

陰極線管内に設けられ電子ビームｅＢの入射に応じて電気的な信号を出力する電子ビーム位置検出装置３１のゲッタシールド構造であって、導電性材料からなり電子ビーム位置検出のための開口部を有するインデックス電極１５と、開口部から透過した電子ビームｅＢを遮蔽するシールド板１７とが備えられる。 - 特許庁

The position correction control circuit 72 corrects the irradiation position of an electron beam on the substrate W by deflecting the electron beam principally based on deviation information from which a rotary synchronous vibration component resulting from a rotation mechanism 32 constituting a rotary table unit 30, and a vibration component resulting from movement of a moving stage caused by a slide unit 33 are removed.例文帳に追加

位置補正制御回路７２は、主として回転テーブルユニット３０を構成する回転機構３２の駆動に起因する回転同期振動成分と、スライドユニット３３によって移動ステージが移動されることに起因する振動成分とが除去された偏差情報に基づいて電子線を偏向することによって、基板Ｗ上の電子線の照射位置の補正を行う。 - 特許庁

The exposure apparatus for executing exposure processing by using a substrate includes a stage moving in a predetermined space with a downflow supplied thereto while holding the substrate, an irradiation device for irradiating the stage with light for position detection, and a gas moving device for moving gas on a movement route of the stage to a position deviated from the light path in accordance with the movement of the stage.例文帳に追加

基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間を、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージに位置検出用の光を照射する照射装置と、前記ステージの移動に応じて前記ステージの移動経路上の気体を前記光の光路から外れた位置に移動させる気体移動装置とを備える。 - 特許庁

In welding the abutted part of steel sheets whose weld seam 10 is a curve, the butt welding method comprises a process for irradiating the abutted part by YAG laser and a gas metal arc welding process which is performed, after the irradiation process, in the manner that the aiming position 12 of the gas metal arc welding is on the tangential line 14 of the weld seam in the laser aiming position 13.例文帳に追加

溶接線１０が曲線となる薄鋼板の突合わせ部を溶接する際に、突合わせ部にＹＡＧレーザーを照射する工程と、この照射工程後に、ガスメタルアーク溶接の狙い位置１２がレーザーの狙い位置１３における溶接線の接線１４上にあるように、ガスメタルアーク溶接を行う工程とを備えたことを特徴とする突合わせ溶接方法。 - 特許庁

The laser irradiation device has a laser and two or more mirrors which have concave surfaces and make the energy density of laser light emitted by the laser uniform in one direction; and the focus position of a 1st mirror is between the 1st mirror and irradiated surface and the focus position of a 2nd mirror is not between the 2nd mirror and irradiated surface, but behind the irradiated surface.例文帳に追加

レーザと、凹面を有し、かつ、前記レーザから射出されるレーザ光のエネルギー密度を一方向において均一化する２つ以上のミラーと、を有するレーザ照射装置であって、 第１のミラーの焦点位置は、該第１のミラーと照射面の間にあり、第２のミラーの焦点位置は、該第２のミラーと前記照射面の間になく、該照射面の後方にあることを特徴としている。 - 特許庁

With fluorescence emitted from this sample, a photomultiplier tube 24 is irradiated via the objective lens 16, the dichromic mirror 14, a spectroscopic filter 18, a condensing lens 20 and a pinhole slit 22, and the existence or absence of fluorescent materials in the well 4 located in the irradiation position A and the concentrations are measured.例文帳に追加

試料から発光された蛍光を対物レンズ１６、ダイクロイックミラー１４、分光フィルター１８、集光レンズ２０及びピンホールスリット２２を介して光電子増倍管２４へ照射して、照射位置Ａに位置されたウェル４内の蛍光物質の有無及び濃度を測定する。 - 特許庁

By adjusting the attitude of a slit for irradiating the substrate W with light, an irradiation area LA being formed at a position of the major surface of the substrate W is shaped into rectangular having the longitudinal direction in the tangential direction of the rotational orbit of the substrate W.例文帳に追加

基板Ｗへの光照射を行うための照射スリットの姿勢を調整することによって、基板Ｗの主面高さ位置に形成される照射領域ＬＡの形状を基板Ｗの回転軌道の接線方向を長手方向とした長方形としている。 - 特許庁

An irradiation position on a substrate 9 is moved to scan with a light beam from a light beam exiting unit 411 by a stage moving mechanism 31 and a head unit moving mechanism 32 so as to draw the expanded drawing pattern including the information pattern on a resist for forming a wiring pattern on the substrate 9.例文帳に追加

そして、ステージ移動機構３１およびヘッドユニット移動機構３２により光ビーム出射部４１１からの光ビームの基板９上における照射位置が走査され、情報パターンを含む拡張描画パターンが基板９上の配線パターン形成用のレジストに描画される。 - 特許庁

The exposure device includes an immersion unit which forms an immersed region of liquid on a body disposed at a position which can be irradiated with the exposure light, and a first irradiation unit which irradiates the liquid with first light optically captures foreign matter in the liquid with light pressure of the first light.例文帳に追加

露光装置は、露光光が照射可能な位置に配置された物体上に液体の液浸領域を形成する液浸装置と、液体に第１光を照射し、第１光の光圧によって液体中の異物を光学的に捕捉する第１照射装置とを備えている。 - 特許庁

In this slice sample fixing method, deposition by focused ion beam irradiation is applied to a predetermined position of the slice sample placed on the sample base or the fixing base such as a mesh while gas is jetted by means of a gas gun, and consequently, the slice sample is fixed to the fixing base.例文帳に追加

本発明の薄片試料の固定方法は試料台若しくはメッシュなどの固定台上に載置された薄片試料の所定個所に、ガス銃によってガスを噴射しつつ集束イオンビームを照射するデポジションを施し、これによって、前記固定台に薄片試料を固定するようにした。 - 特許庁

Even when the irradiation position of the light to be detected to the scale plate 11 is deviated from a reference, the encoder 1 can accurately detect an absolute angle by calculating a deviation amount between the relative angle at the detection of an angle and the reference relative angle as correction amount α°.例文帳に追加

そこで、エンコーダ１では、角度検出時の相対角度と基準相対角度とのずれ量を補正量α°として算出することにより、スケール板１１に対する被検出光の照射位置が基準からずれた場合でも、絶対角度を精度良く検出することができる。 - 特許庁

A pointer irradiation position P by the laser pointer 17 on the presentation image G is detected from image data in a projection range 12 photographed by a camera section in a state where the image data G for presentation output from a note PC is projected and displayed on the screen 12 by the projector.例文帳に追加

ノートＰＣから出力したプレゼンテーション用画像データ（Ｇ）をプロジェクタによりスクリーン１２に投影表示させた状態で、カメラ部により撮影された投影範囲（１２）の画像データからプレゼン画像（Ｇ）上でのレーザポインタ１７によるポインタ照射位置Ｐを検出する。 - 特許庁

A subject body 6 is irradiated with light emitted from a light source 1 from a light irradiation position 5 and light emitted through the subject body 6 is detected in photodetectors 10a and 10b via two optical fibers 7a and 7b for photodetection arranged at two different parts on the subject body 6.例文帳に追加

光源１から発せられる光を光照射位置５より被検体６に照射させ、被検体６を通過して出射する光を、被検体６上の異なる２箇所に配置する２本の光検出用光ファイバー７ａ，７ｂを介して光検出器１０ａ，１０ｂで検出する。 - 特許庁

Further, an anisotropy magnetic field profile which shows a distribution of the anisotropy magnetic field for a position of a direction along the track when the anisotropy magnetic field of a part of the recording layer is reduced by irradiation of the light from the waveguide traverses this projecting region of the write magnetic field profile.例文帳に追加

また、導波路から出た光の照射によって記録層の一部分の磁気異方性磁界が低下する際の、トラックに沿った方向の位置に関する異方性磁界の分布である異方性磁界プロファイルが、書き込み磁界プロファイルのこの突出部分を横切っている。 - 特許庁

This optical pickup device 201 changes an applied voltage to a liquid crystal lens 40 to fix a focal length of the liquid crystal lens 40 with UV irradiation after modification of its focal position, according to an optical element, a laser light source, a photodetector, etc. of the optical pickup device.例文帳に追加

本発明の光ピックアップ装置２０１は、光ピックアップ装置の光学部品、レーザ光源、受光素子等の位置ずれに応じて、液晶レンズ４０への印加電圧を変えてその焦点位置を変更後、紫外線照射により液晶レンズ４０の焦点距離を固定する。 - 特許庁

On the other hand, an electrostatic latent image is formed on the peripheral surface of an image carrier 8 by the uniform electrification with an electrifier 9 and the irradiation with image light by means of a image writing device 10 and, on the position where the particle layer is opposed to the image carrier, the particles are transitted to a latent image, which is visualized.例文帳に追加

一方像担持体８の周面上には、帯電装置９による一様帯電、像書き込み装置１０による像光の照射によって静電潜像が形成され、上記粒子層が像担持体と対向する位置で、粒子が潜像に転移し、潜像が可視化される。 - 特許庁

The digital printer (imaging apparatus) is provided with LED arrays capable of separately and independently setting a quantity of light at a plurality of points along a horizontal scanning direction at the downstream side of a primary charger in the periphery of the photoreceptor 11 and at the same time at the upstream side of a laser irradiation position.例文帳に追加

デジタルプリンタ装置（画像形成装置）は、その感光体１１周辺において１次帯電器の下流側且つレーザ照射位置の上流側で、主走査方向に沿った複数箇所に個々に独立して光量を設定することが可能なＬＥＤアレイを備える。 - 特許庁

With the laser optical unit 16 rotated around the first axis of the base 11 by the movable placing part 13, the laser optical unit 16 can be positioned at the irradiation position in the manner that a circular arc is drawn with a face parallel to the reference face R of the base 11 against the object 17.例文帳に追加

可動載置部１３によって基台１１の第１の軸周りにレーザ光学ユニット１６を回転させると、物体１７に対して基台１１の基準面Ｒと平行する面で円弧を描くように被照射位置ｐにレーザ光学ユニット１６を位置合わせすることができる。 - 特許庁