「layer-insulation」に関連した英語例文の一覧と使い方(76ページ目) - Weblio英語例文検索

Thereby, a space is formed between the adaptor 9 and the dome 5 and the space becomes a heat insulation layer, thus restraining a temperature drop for the adaptor 9 which is heated once.例文帳に追加

これにより、アダプター９とドーム５との間に空間が形成され、この空間が断熱層となって、一旦暖められたアダプター９の温度低下が抑えられる。 - 特許庁

The adhesive strength improvement film 15 is provided to strengthen adhesion between the upper surface of the sealing film 14 and the upper layer insulation film 21 covering the upper surface of sealing film 14.例文帳に追加

密着力向上膜１５は、封止膜１４の上面と該上面を覆っている上層絶縁膜２１との間の密着力を大きくするためのものである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a through-electrode and the through-electrode, by which oxidation in the case of forming an insulation layer is performed at a low temperature and in a short time.例文帳に追加

絶縁層を形成する際の酸化処理を低温かつ短時間で施すことができる貫通電極の製造方法及び貫通電極を提供する。 - 特許庁

To provide a high-reliability semiconductor device, wherein the exfoliation and destruction of an insulation film having a low dielectric constant of a semiconductor chip sealed by a resin-sealing layer is prevented.例文帳に追加

樹脂封止層で封止された半導体チップの低比誘電率絶縁膜の剥離および破壊を防止した高信頼性の半導体装置を提供する。 - 特許庁

An MRAM chip 100 is covered with an insulation layer 101 and further covered with a magnetic shield structure 102 except parts of electrode pads 103a and 103b becoming the interface with the outside (fig. (a)).例文帳に追加

MRAMチップ100は絶縁層101で覆われ、外部とのインターフェースとなる電極パッド103a,103bの部分を除き磁気遮蔽構造102で周囲を覆われた構造となっている（図（ａ））。 - 特許庁

A core wire 11, an insulation inner coating skin 12 and a shielding layer 13 are exposed in this order in an end of a shielded cable 10, and a connection terminal 2 is connected to a tip of the core wire 11.例文帳に追加

シールド線１０の端部に、芯線１１、絶縁内皮１２及びシールド層１３が順次露出し、芯線１１の先端部に接続端子２０が接続される。 - 特許庁

Since the mold releasing layer 204 is the coating film of the fluorine-based resin, the uniformity of gloss of image, the thermal insulation property, a nip with small variations in pressurizing force and durability over time can be obtained.例文帳に追加

離型層２０４がフッ素系樹脂の塗装膜であるので、画像光沢の均一性、断熱性、加圧力のバラツキが小さいニップ、経時での耐久性が得られる。 - 特許庁

The mount board 20 is in contact with the metallic mesh 14 of the main body 10 via an insulation layer 40, and the chassis 30 is directly in contact with the metallic mesh 14 of the main body 10.例文帳に追加

実装基板２０は絶縁層４０を介し本体１０の金属メッシュ１４に接しており、シャーシ３０は直接に本体１０の金属メッシュ１４に接している。 - 特許庁

As the resin composing the insulation layer 6, PPS (polyphenylene sulfide), fluororesins, PPSF (polyphenyl sulfone), PEEK (polyether ether ketone) or PPE (polyphenyl ether) is used.例文帳に追加

絶縁層６を構成する樹脂として、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド）、フッ素系樹脂、ＰＰＳＦ（ポリフェニルサルフォン）、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、またはＰＰＥ（ポリフェニルエーテル）を用いる。 - 特許庁

At least one of the upper substrate and the insulation layer is formed by crosslinking phenol novolac resin having a glycidyl ether function group in monomer repeating unit.例文帳に追加

上部基板及び絶縁層のうちの少なくとも１つは、モノマー繰り返し単位にグリシジルエーテル官能基を有するフェノールノボラック樹脂を架橋して形成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a water-containing/absorbent polymer-containing resin composition being environmentally friendly and capable of easily forming a foamed insulation body layer thin film with a low dielectric constant.例文帳に追加

環境にやさしく、容易に低誘電率かつ薄膜な発泡絶縁体層を形成できる含水吸水性ポリマ含有樹脂組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide high-sensitivity thermosensitive recording paper which is formed of low-density paper used as a support for a thermosensitive color developing recording layer and shows excellent properties in terms of heat response, heat insulation and color development.例文帳に追加

低密度紙を感熱発色記録層の支持体に使用した熱応答性、断熱性及び発色性に優れた高感度の感熱記録紙を提供する。 - 特許庁

Then, a metal film 14 is so formed as to cover the surface of the interlayer insulation film 12, the internal walls of the interconnection trenches 13, and the lower layer interconnections 11 by sputtering, CVD, or the like.例文帳に追加

次に、スパッタ法、ＣＶＤ法などにより、層間絶縁膜１２の表面、配線溝１３の内壁及び下層配線１１を覆う金属膜１４を形成する。 - 特許庁

The LEDs 4 cause heat generation in carrying current, and the LEDs 4 are connected to the conductor pattern 8 and mounted on the insulation layer 7.例文帳に追加

ＬＥＤ４は通電中発熱を伴うものであって、このＬＥＤ４を導体パターン８に接続して絶縁層７上に実装したことを特徴としている。 - 特許庁

To provide a pressure wave generator the thermal insulation layer and the heater of which are hardly damaged due to a thermal stress in comparison with prior arts and to provide a method for fabricating the same.例文帳に追加

従来に比べて熱応力に起因した熱絶縁層及び発熱体の破損が生じにくい圧力波発生装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The resin insulation layer 108 exhibits a flat upper surface with upper surfaces of the respective metallic posts 109 exposed therein, and therefore mounting thereof as a semiconductor component member is facilitated.例文帳に追加

樹脂絶縁層１０８の上面は、金属ポスト１０９の上面が露出して平坦な状態とされ、半導体部品としての実装を容易にしている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring board which is free of corrosion of an internal-layer wiring conductor and has superior electric insulation reliability.例文帳に追加

内層配線導体に腐食が発生することがなく、かつ電気的な絶縁信頼性に優れる配線基板を得るこが可能な配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This electrical connecting structure for a connector of the cable 10 has a discharge function in a connector housing 1 for preventing partial discharge in a cable-insulation layer 15.例文帳に追加

ケーブル１０のコネクタへの電気接続構造であり、そのコネクタハウジング１内に、ケーブル絶縁層１５で部分放電が生じないようにする放電機能を持たせる。 - 特許庁

The high-frequency coaxial cable 10 is produced by surrounding a conductor 11 with a foam insulation layer 12 made of a foam from the resin composition.例文帳に追加

また、本発明に係る高周波同軸ケーブル１０は、導体１１の外周に、樹脂組成物の発泡体で構成される発泡絶縁層１２を設けたものである。 - 特許庁

The slope part 141a1 is formed by making the reflecting layer 141a partially override a projecting part 240a on a surface of the flattened insulation film 240.例文帳に追加

係る斜面部１４１ａ１は、前記平坦化絶縁膜２４０表面の凸状部２４０ａに反射層１４１ａが一部乗り上げることにより形成されている。 - 特許庁

The radiation detector provides a conductive layer 160 comprising a conductive member by corresponding to the rear side periphery of an end 140A of at least a bias electrode 140 of the other face 102B of an insulation substrate 102.例文帳に追加

絶縁性基板102の他方の面102Bの少なくともバイアス電極140の端部140Aの裏側周辺に対応して導電性部材によりなる導電層160が設ける。 - 特許庁

A conductor layer 34P on a core substrate 30 is formed to have a thickness of 30 μm, and a conductor circuit 58 on an interlayer resin insulation film 50 is formed to have a thickness of 15 μm.例文帳に追加

コア基板３０上の導体層３４Ｐを厚さ３０μｍに形成し、層間樹脂絶縁層５０上の導体回路５８を１５μｍに形成する。 - 特許庁

A first insulation layer 108 formed of SiN is formed on a side surface of the emitter mesa part and a surface of a ledge structure 105a to cover them.例文帳に追加

エミッタメサの部分の側面およびレッジ構造部１０５ａの表面には、これらを被覆するように、ＳｉＮからなる第１絶縁層１０８が形成されている。 - 特許庁

Read wiring patterns R1 and R2, lines LA3, LA4, LB4, and LB5 of write wiring patterns W1 and W2, and a ground pattern GN are formed in parallel on the base insulation layer 41.例文帳に追加

ベース絶縁層４１上に、読取用配線パターンＲ１，Ｒ２、書込用配線パターンＷ１，Ｗ２の線路ＬＡ３，ＬＡ４，ＬＢ４，ＬＢ５、およびグランドパターンＧＮが並列に形成される。 - 特許庁

To provide a dielectric ceramic composition for improving insulation resistance and accelerated aging and an electronic component having the dielectric ceramic composition as a dielectric layer.例文帳に追加

絶縁抵抗および加速寿命の向上が可能な誘電体磁器組成物、およびこの誘電体磁器組成物を誘電体層として有する電子部品を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a spiral inductor in which an area of an insulation layer formed on a wiring board surface in the lower part thereof is defined.例文帳に追加

スパイラルインダクタを有する半導体装置において、その下部の配線基板の表面内に配設される絶縁層の配設面積を確定した半導体装置を提供する。 - 特許庁

Further, the exterior second display electrode 8a and the interior second display electrode 8b are formed to be overlapped on the other end portion of the gap electrode 5 through the insulation layer 6.例文帳に追加

また、外側第二表示電極８ａ及び内側第二表示電極８ｂは、絶縁膜６を介して隙間電極５の他の端部と重なるように形成する。 - 特許庁

Then, an insulation film 39 is grown on the mask 35a, a pattern-formed group III nitride lift-off layer 31a, and a pattern-formed group III nitride semiconductor region 33c.例文帳に追加

次いで、マスク３５ａ、パターン形成されたIII族窒化物リフトオフ層３１ａ及びパターン形成されたIII族窒化物半導体領域３３ｃ上に絶縁膜３９を成長する。 - 特許庁

The contact member 1 thus structured functions as a capacitor having the base member 2 and the contacting member 4 as parallel electrode plates and the insulation layer 3 as a dielectric.例文帳に追加

このように構成されたコンタクト部材１は、ベース部材２および接触部材４を平行な電極板とし、絶縁層３を誘電体とするコンデンサとして機能する。 - 特許庁

Therefore, the electrical insulation of the circuit layer 6 from the heat sink 12 can be improved, so that the semiconductor element 7 operates normally and stably even when it operates on a high voltage.例文帳に追加

このため、回路層６とヒートシンク１２間との電気的な絶縁性が高められるため、高電圧下で使用されても半導体素子は正常、安定して作動する。 - 特許庁

In the insulation film layer 110, an opening portion 142 for the waveguide 140 and an opening portion 152 for the hollow portion 150 are formed at positions corresponding to the charge generation portion 102.例文帳に追加

絶縁膜層１１０において、電荷生成部１０２と対応する位置に導波路１４０用の開口部１４２と中空部１５０用の開口部１５２を形成する。 - 特許庁

In addition, a form without constriction on the level of the three layer films is realized to suppress void occurred in the embedded insulation film formed in contact with the side wall.例文帳に追加

加えて、３層膜水準におけるくびれのない形状を実現し、側壁に接して埋め込み絶縁層を形成するときにその中のボイド発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a heat insulating cylindrical label capable of sufficiently ensuring the heat insulation by a fibrous sheet layer, and reliably reading a read symbol by a machine.例文帳に追加

断熱性を備えた筒状ラベルについて、繊維質シート層による断熱性を充分に確保することができ、且つ、読取記号を機械により確実に読み取れるようにする。 - 特許庁

To provide a sub carrier of an optical semiconductor device whereby a wiring conductor layer is formed from the top to the side of an insulation pedestal with enhanced reliability of electrical connection.例文帳に追加

電気的接続の信頼性を高くして絶縁基台の上面から側面にわたって配線導体層を形成した光半導体素子のサブキャリアを提供すること。 - 特許庁

An optically-transparent liner film 160 is formed on the insulation film layer 110, and an opening of the opening portion 152 is sealed with the liner film 160 in an airtight state.例文帳に追加

絶縁膜層１１０上に光透過性のライナー膜１６０を形成するとともに、ライナー膜１６０により開口部１５２の間口を空密状態で塞ぐ。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which enables the formation of a layer insulation film with a flat surface even if wet etching is carried out after CMP treatment.例文帳に追加

ＣＭＰ処理後にウェットエッチングを行っても平坦な表面を有する層間絶縁膜を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

By arranging the insulation layer 25 that is subjected to interlayer connection by the group of conductor bumps 22a, 22,... at the outermost side, the surface becomes smooth, thus obtaining a multilayer board with high wiring density.例文帳に追加

導体バンプ群２２，２２，…で層間接続する絶縁層２５を最外側に配設することにより、表面が平滑になり、配線密度の高い多層板が得られる。 - 特許庁

The insulation layer 3, a capacitor 8 and a measuring device 9 are arranged in series mutually between a cable conductor 2 of a CV cable 1 and a ground 7.例文帳に追加

上記ＣＶケーブル１のケーブル導体２と接地７との間に、上記絶縁層３とコンデンサ８と測定器９とが、互いに直列に配置された状態で存在する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which a low permittivity film exhibiting excellent bonding resistance in the assembling process and exhibiting excellent breakdown voltage between interconnect lines on the same layer is employed as an interlayer insulation film.例文帳に追加

組立工程でのボンディング耐性に優れ、また同層配線間耐圧に優れた、低誘電率膜を層間絶縁膜に用いた半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a display device capable of preventing a color from spreading in a region inside a spacer in a case where a transparent insulation layer is disposed inside the spacer.例文帳に追加

スペーサの内側に透明な絶縁層が配置される場合に、スペーサの内側の領域において色がにじむのを防止することが可能な表示装置を提供する。 - 特許庁

The semiconductor device having this structure can avoid opening defects in forming by photolithography by widening an area of the opening formed on the insulation layer.例文帳に追加

この構成の半導体装置によれば、絶縁層に形成される開口面積を大きくすることによって、フォトリソグラフィによる開口形成不良を回避することが可能となる。 - 特許庁

In the nonvolatile memory constituted by using a semiconductor thin film on a substrate 101 having an insulation film, the side end 110 of the active layer is formed into a taper shape.例文帳に追加

絶縁表面を有する基板１０１上の半導体薄膜を用いて構成された不揮発性メモリにおいて、活性層側端部１１０をテーパ形状に形成する。 - 特許庁

Furthermore, a manufacturing method for the high polymer EL element enabling high productivity and winding production is provided by forming the insulation protection layer by an application method.例文帳に追加

さらにはこの絶縁保護層を塗布法によって形成することで、生産性の高い巻き取り生産の可能な高分子ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive paste and laminated electronic components, and their manufacturing method, with which the deterioration of an insulation resistance can be suppressed, even when a dielectric layer is made thin.例文帳に追加

誘電体層を薄層化した場合でも絶縁抵抗の劣化を抑制できる導電性ペーストおよび積層型電子部品並びにその製法を提供する。 - 特許庁

Contact holes 120E and 120C are formed penetrating in a part of the area of the surface insulation film 108 so that the surface of the semiconductor layer may be exposed.例文帳に追加

表面絶縁膜１０８のうち一部の領域を、半導体層表面を露出させるように貫通してコンタクト穴１２０Ｅ，１２０Ｃが形成されている。 - 特許庁