D/Pとは 意味・読み方・使い方
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「D/P」を含む例文一覧
該当件数 : 50件
The shadow (D-P-S) processing procedure may comprise: a (D-P-S) generation process, a (D-P-S) evaluation process, and a (D-P-S) transportation process.例文帳に追加
前記D-P-S処理手順は、(D-P-S)生成工程、(D-P-S)評価工程、及び(D-P-S)搬送工程を有して良い。 - 特許庁
Code Listing2.7: Recommended defaults cvs -qdiff -u -b -Bcheckout -Pupdate -d -P発音を聞く 例文帳に追加
コード表示2.7:オススメのデフォルト - Gentoo Linux
D/P CREATININE MARKER, METHOD OF DETERMINING D/P CREATININE AND APPLICATION THEREOF例文帳に追加
D/Pクレアチニンマーカー、D/Pクレアチニン決定方法およびその用途 - 特許庁
A formation method of self-aligned double pattern is capable of providing a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) processing.例文帳に追加
本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)処理を用いた基板処理方法を供することができる。 - 特許庁
A formation method of self-aligned double pattern of the present invention is capable of providing a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) processing.例文帳に追加
本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)処理を用いた基板処理方法を供することができる。 - 特許庁
The correction pulse count value is determined on the basis of W=((f+b)/d)+p-1.例文帳に追加
補正パルスカウント値WをW=((f+b)/d)+p−1として求める。 - 特許庁
To provide a formation method of self-aligned double pattern capable of improving a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) procedure and a subsystem.例文帳に追加
本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)手順及びサブシステムを用いた基板処理方法の改善を目的とする。 - 特許庁
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遺伝子名称シソーラスでの「D/P」の意味 |
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Dp
fly | 遺伝子名 | Dp |
同義語(エイリアス) | l(2)vr10; CG4654; lethal(2)49Fk; Transcription factor dp; vr10; 49Fk; DP1; DP transcription factor; l(2)49Fk; DmDP; E2F/Dp; DDP1; dDP1; dDP; dDp | |
SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:Q24318 | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:36461 | |
その他のDBのID | FlyBase:FBgn0011763 |
fly | 遺伝子名 | dp |
同義語(エイリアス) | CG31967; CR33195; CG33000; CT35799; CG31727; CG31965; CG31726; CG15637; CG33086; BcDNA:SD02173; fibrillin-like; CG31966; Dp; olv | |
SWISS-PROTのID | --- | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:318824 | |
その他のDBのID | FlyBase:FBgn0053196 |
mouse | 遺伝子名 | DP |
同義語(エイリアス) | PGD; Prostanoid DP receptor; Ptgdr; PGD receptor; prostaglandin D receptor; Prostaglandin D2 receptor | |
SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:P70263 | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:19214 | |
その他のDBのID | MGI:102966 |
mouse | 遺伝子名 | dp |
同義語(エイリアス) | dilution-Peru | |
SWISS-PROTのID | --- | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:13450 | |
その他のDBのID | MGI:94915 |
mouse | 遺伝子名 | DP |
同義語(エイリアス) | AA407887; AW109828; AA407888; 5730453H04Rik; Dsp; 2300002E22Rik; desmoplakin | |
SWISS-PROTのID | --- | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:109620 | |
その他のDBのID | MGI:109611 |
本文中に表示されているデータベースの説明
Weblio例文辞書での「D/P」に類似した例文 |
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d.p
a follower
uj
a subordinate branch of any organisation
体育をやる.
C
d.p.
体育をやる.
がってんだ.
C
a follower
オオハシカッコウ
a subordinate branch of any organisation
yes
dp
体育をやる.
夕ぐれどき
gò [g
uj
C
かま
めし
SOHLA
a follower
a cough
「D/P」を含む例文一覧
該当件数 : 50件
A deposit center 1 gives encryption keys e, d, p, to a master terminal 3.例文帳に追加
供託センター1は暗号鍵e,d,pを親端末機3へ与える。 - 特許庁
The (D-P-S) generation process may comprise: a deposition process, an activation process, a deprotection process, a sidewall angle (SWA) correction process, and a double patterning (DP) developing process.例文帳に追加
前記(D-P-S)生成工程は、堆積工程、活性化工程、脱保護工程、側壁角(SWA)訂正工程、及び二重パターニング(DP)現像工程を有して良い。 - 特許庁
Each of seats D, P, RR and RL is provided with separate voice information output sections 202 and 204.例文帳に追加
各座席(D,P,RR,RL)に個別音声情報出力部202,204を設ける。 - 特許庁
A particle diameter ratio D(P)/D(N) of a mean primary particle diameter D(P) of the positive electrode active material and a mean primary particle diameter D(N) of the negative electrode active material is adjusted within a range of 0.8-1.2.例文帳に追加
正極活物質の平均一次粒子径D(P)と負極活物質の平均一次粒子径D(N)との粒子径比D(P)/D(N)が0.8〜1.2の範囲に調整されている。 - 特許庁
A ratio (D/P) of depth D of each of recesses of a transfer mold to a pitch P of the recesses is in a range of 0.05 to 0.45.例文帳に追加
転写型の凹部の深さDとピッチPとの比率D/Pは、0.05〜0.45である。 - 特許庁
Piercing pieces insertion grooves 16X, 16Y are formed on the base plate 10 at corresponding positions to the flat conductors A to D, and P to Q.例文帳に追加
ベースプレート10にはフラット導体A〜D、P〜Qに対応する位置に突き刺し片挿入溝16X、16Yを形成する。 - 特許庁
When a release request (D→N, D→P select) has been made to a second clutch 7, a control mode of a motor/generator 5 is shifted from torque control to rotational speed control after the second clutch 7 is determined to be free of pressure oil.例文帳に追加
第2クラッチ7に対して解放要求(D→N,D→Pセレクト)がなされた場合、第2クラッチ7の油圧が抜けていると判定された後にモータ/ジェネレータ5の制御モードをトルク制御から回転数制御に切り替える。 - 特許庁
The second emission surface 122 satisfies a relation of 0.2<cosθ_1*cos^2θ_2<0.98 in a region of d/p<0.4.例文帳に追加
第2出射面122は、d/p<0.4の領域では、0.2<cosθ_1・cos^2θ_2<0.98を満足する。 - 特許庁
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