JPH0764990B2 - フタロシアニン化合物の製造方法 - Google Patents
フタロシアニン化合物の製造方法Info
- Publication number
- JPH0764990B2 JPH0764990B2 JP2118573A JP11857390A JPH0764990B2 JP H0764990 B2 JPH0764990 B2 JP H0764990B2 JP 2118573 A JP2118573 A JP 2118573A JP 11857390 A JP11857390 A JP 11857390A JP H0764990 B2 JPH0764990 B2 JP H0764990B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- phthalocyanine compound
- acetic acid
- bromine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- -1 phthalocyanine compound Chemical class 0.000 title claims description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 7
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 5
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 12
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 12
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical group N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 6
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 5
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- SCZNXLWKYFICFV-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,7,8,9-octahydropyrido[1,2-b]diazepine Chemical compound C1CCCNN2CCCC=C21 SCZNXLWKYFICFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000453 2,2,2-trichloroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(Cl)(Cl)Cl 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- 125000003542 3-methylbutan-2-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910018085 Al-F Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018179 Al—F Inorganic materials 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N Iodochlorine Chemical compound ICl QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008449 SnF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940107816 ammonium iodide Drugs 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N dichlorosilicon Chemical compound Cl[Si]Cl BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M thallium(i) iodide Chemical compound [Tl]I CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、近赤外線吸収剤として有用なハロゲン化アル
コキシフタロシアニンの製造方法に関する。
コキシフタロシアニンの製造方法に関する。
〔従来の技術〕 ハロゲン化アルコキシフタロシアニンあるいはハロゲン
化アリールオキシフタロシアニンの製造方法としては、
特開昭61-197280号公報やJournal of Chemical Society
Perkin Transition I,2453〜2458頁（1988年）に既に
開示されておりり、前者はハロゲン化フタロシアニンを
脂肪族アルコールのアルカリ金属塩あるいは芳香族アル
コールのアルカリ金属塩等で置換して目的とするハロゲ
ン化アルコキシフタロシアニンあるいはハロゲン化アリ
ールオキシフタロシアニンを製造する方法であり、後者
は、ジアルコキシジハロゲノフタロニトリルを閉環して
目的とするハロゲン化アルコキシフタロシアニンを製造
する方法である。
化アリールオキシフタロシアニンの製造方法としては、
特開昭61-197280号公報やJournal of Chemical Society
Perkin Transition I,2453〜2458頁（1988年）に既に
開示されておりり、前者はハロゲン化フタロシアニンを
脂肪族アルコールのアルカリ金属塩あるいは芳香族アル
コールのアルカリ金属塩等で置換して目的とするハロゲ
ン化アルコキシフタロシアニンあるいはハロゲン化アリ
ールオキシフタロシアニンを製造する方法であり、後者
は、ジアルコキシジハロゲノフタロニトリルを閉環して
目的とするハロゲン化アルコキシフタロシアニンを製造
する方法である。
近赤外線吸収剤、特に、追記型CD（CD-WO）の780nm用の
記録材料として有用なハロゲン化アルコキシフタロシア
ニンとしては、そのハロゲン化率が１〜４の範囲のもの
が好ましい。ハロゲン化率が５以上になると屈折率、反
射率の規格を満たすことができなくなる。上述の方法で
は、ハロゲン原子の導入量を制御することができず、CD
-WO用の近赤外線吸収剤としては未だ十分であるとは言
えなかった。
記録材料として有用なハロゲン化アルコキシフタロシア
ニンとしては、そのハロゲン化率が１〜４の範囲のもの
が好ましい。ハロゲン化率が５以上になると屈折率、反
射率の規格を満たすことができなくなる。上述の方法で
は、ハロゲン原子の導入量を制御することができず、CD
-WO用の近赤外線吸収剤としては未だ十分であるとは言
えなかった。
〔課題を解決するための手段〕 本発明者らは、前項の課題を解決すべく鋭意検討の結
果、酢酸中で、反応温度、溶媒量をコントロールするこ
とにより、アルコキシフタロシアニンよりハロゲン化率
の制御されたハロゲン化アルコキシフタロシアニンが得
られることを見いだし、本発明に到達した。
果、酢酸中で、反応温度、溶媒量をコントロールするこ
とにより、アルコキシフタロシアニンよりハロゲン化率
の制御されたハロゲン化アルコキシフタロシアニンが得
られることを見いだし、本発明に到達した。
即ち本発明は、下記一般式（Ｉ） 〔式（Ｉ）中、Ｒは、置換または未置換のアルキル基を
あらわし、Metは２個の水素原子、２価の金属原子、置
換３価金属原子、２置換４価金属原子を表わす。〕で示
されるフタロシアニン化合物を酢酸中、20〜90℃でハロ
ゲン化剤と反応させることを特徴とする、下式（II） 〔式（II）中、Ｒ及びMetは式（Ｉ）と同一の意味を表
し、Ｘは、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、ｎは１≦
ｎ≦４である。〕で示されるフタロシアニン化合物の製
造方法である。
あらわし、Metは２個の水素原子、２価の金属原子、置
換３価金属原子、２置換４価金属原子を表わす。〕で示
されるフタロシアニン化合物を酢酸中、20〜90℃でハロ
ゲン化剤と反応させることを特徴とする、下式（II） 〔式（II）中、Ｒ及びMetは式（Ｉ）と同一の意味を表
し、Ｘは、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、ｎは１≦
ｎ≦４である。〕で示されるフタロシアニン化合物の製
造方法である。
一般式（Ｉ）及び式（II）中、Ｒで示される置換または
未置換のアルキル基のとしては、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、iso−プロピル基、ｎ−ブチル基、iso
−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペ
ンチル基、iso−ペンチル基、neo−ペンチル基、1,2−
ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、1,3−ジメチル
ブチル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、1,4−
ジメチルペンチル基、２−メチル−１−iso−プロピル
プロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オ
クチル基、２−エチルヘキシル基、３−メチル−１−is
o−プロピルブチル基、ｎ−ノニル基、3,5,5−トリメチ
ルヘキシル基、３−メチル−１−iso−ブチルブチル
基、ｎ−デシル基などの炭化水素基、メトキシメチル
基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエ
チル基、ブトキシエチル基、メトキシエトキシエチル
基、エトキシエトキシエチル基、２−メトキシプロピル
基、２−エトキシプロピル基、2,3−ジメトキシプロピ
ル基、2,2−ジメトキシエチル基、２−メトキシブチル
基、１−メチル−２−メトキシエチル基、１−エチル−
２−エトキシエチル基、エトキシブチル基などのアルコ
キシアルキル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロ
キシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、６−ヒドロ
キシヘキシル基などのヒドロキシアルキル基、トリフル
オロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、ヘキサフ
ルオロ−iso−プロピル基、ペンタフルオロエチル基な
どのハロゲン化アルキル基などが挙げられる。
未置換のアルキル基のとしては、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、iso−プロピル基、ｎ−ブチル基、iso
−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペ
ンチル基、iso−ペンチル基、neo−ペンチル基、1,2−
ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、1,3−ジメチル
ブチル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、1,4−
ジメチルペンチル基、２−メチル−１−iso−プロピル
プロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オ
クチル基、２−エチルヘキシル基、３−メチル−１−is
o−プロピルブチル基、ｎ−ノニル基、3,5,5−トリメチ
ルヘキシル基、３−メチル−１−iso−ブチルブチル
基、ｎ−デシル基などの炭化水素基、メトキシメチル
基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエ
チル基、ブトキシエチル基、メトキシエトキシエチル
基、エトキシエトキシエチル基、２−メトキシプロピル
基、２−エトキシプロピル基、2,3−ジメトキシプロピ
ル基、2,2−ジメトキシエチル基、２−メトキシブチル
基、１−メチル−２−メトキシエチル基、１−エチル−
２−エトキシエチル基、エトキシブチル基などのアルコ
キシアルキル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロ
キシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、６−ヒドロ
キシヘキシル基などのヒドロキシアルキル基、トリフル
オロメチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、ヘキサフ
ルオロ−iso−プロピル基、ペンタフルオロエチル基な
どのハロゲン化アルキル基などが挙げられる。
又、Metで表わされる２価金属の例としては、Cu(II)，Z
n(II)，Fe(II)，Co(II)，Ni(II)，Ru(II)，Rh(II)，Pd
(II)，Pt(II)，Mn(II)，Mg(II)，Be(II)，Ca(II)，Ba
(II)，Cd(II)，Hg(II)，Sn(II)など、１置換３価金属の
例としては、Al-Cl,Al-Br,Al-F,Al-I,Ga-Cl,Ga-F,Ga-I,
Ga-Br,In-Cl,In-Br,In-I,In-F,Tl-Cl,Tl-Br,Tl-I,Tl-F,
Al-C6H5,Al-C64H4CH3,In-C6H5,In-C6H4CH3,In-C10H7,Mn
（OH）などが挙げられる。
n(II)，Fe(II)，Co(II)，Ni(II)，Ru(II)，Rh(II)，Pd
(II)，Pt(II)，Mn(II)，Mg(II)，Be(II)，Ca(II)，Ba
(II)，Cd(II)，Hg(II)，Sn(II)など、１置換３価金属の
例としては、Al-Cl,Al-Br,Al-F,Al-I,Ga-Cl,Ga-F,Ga-I,
Ga-Br,In-Cl,In-Br,In-I,In-F,Tl-Cl,Tl-Br,Tl-I,Tl-F,
Al-C6H5,Al-C64H4CH3,In-C6H5,In-C6H4CH3,In-C10H7,Mn
（OH）などが挙げられる。
２置換の４価金属の例としては、CrCl2,SiCl2,ScBr2,Si
F2,SiI2,ZrCl2,GeCl2,GeBr2,GeI2,GeF2,SnCl2,SnBr2,Sn
I2,SnF2,TiCl2,TiBr2,TiF2,Si(OH)2,Ge(OH)2,Zr(OH)2,M
n(OH)2,Sn(OH)2,TiR2,CrR2,SiR2,SnR2,GeR2［Ｒはアル
キル基、フェニル基、ナフチル基及びその誘導体を表わ
す］、Si（OR′）2,Sn（OR′）2,Ge（OR′）2,Ti（O
R′）2,Cr（OR′）2［Ｒ′はアルキル基、フェニル基、
ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコ
キシシリル基の誘導体を表わす］、Sn（SR″）2,Ge（S
R″）2［Ｒ″はアルキル基、フェニル基、ナフチル基及
びその誘導体を表わす］などが挙げられる。
F2,SiI2,ZrCl2,GeCl2,GeBr2,GeI2,GeF2,SnCl2,SnBr2,Sn
I2,SnF2,TiCl2,TiBr2,TiF2,Si(OH)2,Ge(OH)2,Zr(OH)2,M
n(OH)2,Sn(OH)2,TiR2,CrR2,SiR2,SnR2,GeR2［Ｒはアル
キル基、フェニル基、ナフチル基及びその誘導体を表わ
す］、Si（OR′）2,Sn（OR′）2,Ge（OR′）2,Ti（O
R′）2,Cr（OR′）2［Ｒ′はアルキル基、フェニル基、
ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコ
キシシリル基の誘導体を表わす］、Sn（SR″）2,Ge（S
R″）2［Ｒ″はアルキル基、フェニル基、ナフチル基及
びその誘導体を表わす］などが挙げられる。
オキシ金属の例としては、VO,MnO,TiOなどが挙げられ
る。
る。
式（Ｉ）で示されるアルコキシフタロシアニン化合物の
合成法としては、下式（III）又は（IV） で示される化合物の１〜４種を混合して、例えば1,8−
ジアザビシクロ［5.4.0］−７−ウンデセン（DBU）の存
在下にブタノール中で加熱下反応することにより得るこ
とができる。
合成法としては、下式（III）又は（IV） で示される化合物の１〜４種を混合して、例えば1,8−
ジアザビシクロ［5.4.0］−７−ウンデセン（DBU）の存
在下にブタノール中で加熱下反応することにより得るこ
とができる。
本発明に使用できるハロゲン化剤としては、塩素、臭
素、ヨウ素、塩化スルフリル、塩化チオニル、一塩化ヨ
ウ素、４級アンモニウムクロリド、４級アンモニウムブ
ロミド、４級アンモニウムヨウダイド、次亜塩素酸ｔ−
ブチル、３ヨウ化カリウムなどが好ましい。また、必要
に応じて酸化剤、鉄粉などの触媒を用いても良い。ハロ
ゲン化剤の量としては、原料である式（Ｉ）のフタロシ
アニンに対して、１〜６モル比が好ましい。
素、ヨウ素、塩化スルフリル、塩化チオニル、一塩化ヨ
ウ素、４級アンモニウムクロリド、４級アンモニウムブ
ロミド、４級アンモニウムヨウダイド、次亜塩素酸ｔ−
ブチル、３ヨウ化カリウムなどが好ましい。また、必要
に応じて酸化剤、鉄粉などの触媒を用いても良い。ハロ
ゲン化剤の量としては、原料である式（Ｉ）のフタロシ
アニンに対して、１〜６モル比が好ましい。
酢酸溶媒の量としては、原料のフタロシアニンに対して
５〜500重量倍、好ましくは10〜200重量倍であり、その
量は必要とするハロゲン化率（式（II）中のｎが１〜
４）により適宜調整される。
５〜500重量倍、好ましくは10〜200重量倍であり、その
量は必要とするハロゲン化率（式（II）中のｎが１〜
４）により適宜調整される。
反応温度としては、20〜90℃、好ましくは40〜70℃であ
る。反応温度が20℃よりも低いと反応がうまく進行せ
ず、また90℃を越えるとハロゲン化率を制御することが
困難となる。
る。反応温度が20℃よりも低いと反応がうまく進行せ
ず、また90℃を越えるとハロゲン化率を制御することが
困難となる。
本発明においては、反応温度、溶媒量を調節し、生成す
るハロゲン化アルコキシフタロシアニンを反応系より反
応・析出せしめるものである。
るハロゲン化アルコキシフタロシアニンを反応系より反
応・析出せしめるものである。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明の実施の態様はこれにより限定されるものではない。
明の実施の態様はこれにより限定されるものではない。
実施例１ パラジウム テトラα−（1,3−ジメチルブチルオキ
シ）フタロシアニン15gを酢酸375mlに装入し、45℃に昇
温して溶解させた。次に臭素19gを滴下し、50℃で１時
間撹拌した。反応液を40℃に降温し、析出した結晶をろ
別した。得られた結晶をメタノール200mlで３回スラッ
ジし、減圧乾燥した。収量は17.7gであった。
シ）フタロシアニン15gを酢酸375mlに装入し、45℃に昇
温して溶解させた。次に臭素19gを滴下し、50℃で１時
間撹拌した。反応液を40℃に降温し、析出した結晶をろ
別した。得られた結晶をメタノール200mlで３回スラッ
ジし、減圧乾燥した。収量は17.7gであった。
元素分析により、臭素の置換数は３個であることが判明
した。
した。
元素分析：C56H61N8O4Br3Pd Ｃ Ｈ Ｎ Br 理論値（％） 53.54 4.89 8.92 19.08 分析値（％） 52.97 4.77 8.71 19.32 実施例２ パラジウム テトラα−（1,3−ジメチルブチルオキ
シ）フタロシアニン10gを酢酸150mlに装入し、40℃に昇
温して溶解させた。次に臭素6gを滴下し、40℃で30分間
撹拌した。そのままの温度で析出した結晶をろ別した。
得られた結晶をメタノール100mlで３回スラッジし、減
圧乾燥した。収量は11gであった。
シ）フタロシアニン10gを酢酸150mlに装入し、40℃に昇
温して溶解させた。次に臭素6gを滴下し、40℃で30分間
撹拌した。そのままの温度で析出した結晶をろ別した。
得られた結晶をメタノール100mlで３回スラッジし、減
圧乾燥した。収量は11gであった。
元素分析により、臭素の置換数は２個であることが判明
した。
した。
元素分析：C56H62N8O4Br2Pd Ｃ Ｈ Ｎ Br 理論値（％） 57.13 5.31 9.52 13.57 分析値（％） 56.67 5.50 9.39 13.80 実施例３ パラジウム テトラα−（１−iso−プロピル−２−メ
チルブチルオキシ）フタロシアニン10gを酢酸400mlに装
入し、40℃に昇温して溶解させた。次に臭素16gを滴下
し、70℃で５時間撹拌した。反応液を40℃に降温し析出
した結晶をろ別した。得られた結晶をメタノール100ml
で３回スラッジし、減圧乾燥した。収量は12.3gであっ
た。
チルブチルオキシ）フタロシアニン10gを酢酸400mlに装
入し、40℃に昇温して溶解させた。次に臭素16gを滴下
し、70℃で５時間撹拌した。反応液を40℃に降温し析出
した結晶をろ別した。得られた結晶をメタノール100ml
で３回スラッジし、減圧乾燥した。収量は12.3gであっ
た。
元素分析により、臭素の置換数は４個であることが判明
した。
した。
元素分析：C60H68N8O4Br4Pd Ｃ Ｈ Ｎ Br 理論値（％） 51.80 4.93 8.05 23.97 分析値（％） 51.69 5.18 8.19 23.22 実施例４ パラジウム テトラα−（２−エチルヘキシルオキシ）
フタロシアニン2gを酢酸400mlに装入し、40℃に昇温し
て溶解させた。次に臭素5gを滴下し、50℃で１時間撹拌
した。反応液を40℃に降温し析出した結晶をろ別した。
得られた結晶をメタノール30mlで３回スラッジし、減圧
乾燥した。収量は2.2gであった。
フタロシアニン2gを酢酸400mlに装入し、40℃に昇温し
て溶解させた。次に臭素5gを滴下し、50℃で１時間撹拌
した。反応液を40℃に降温し析出した結晶をろ別した。
得られた結晶をメタノール30mlで３回スラッジし、減圧
乾燥した。収量は2.2gであった。
元素分析の結果、得られたものは臭素置換数２個と３個
の中間の値を示し、臭素２個置換と３個置換のフタロシ
アニンの混合物であることが判明した。
の中間の値を示し、臭素２個置換と３個置換のフタロシ
アニンの混合物であることが判明した。
元素分析： Ｃ Ｈ Ｎ Br
理論値（％）ｎ＝２ 59.60 6.10 8.69 12.
39 理論値（％）ｎ＝３ 56.17 5.67 8.19 17.
52 分析値（％） 57.89 5.90 8.44 14.
96 実施例５ ジクロロシリコン テトラα−（２−エチルヘキシルオ
キシ）フタロシアニン5gを酢酸100mlに装入し、40℃に
昇温して溶解させた。次に臭素5gを滴下し、50℃で１時
間撹拌した。反応液を40℃に降温し析出した結晶をろ別
した。得られた結晶をメタノール100mlで３回スラッジ
し、減圧乾燥した。収量は5.2gであった。
理論値（％）ｎ＝２ 59.60 6.10 8.69 12.
39 理論値（％）ｎ＝３ 56.17 5.67 8.19 17.
52 分析値（％） 57.89 5.90 8.44 14.
96 実施例５ ジクロロシリコン テトラα−（２−エチルヘキシルオ
キシ）フタロシアニン5gを酢酸100mlに装入し、40℃に
昇温して溶解させた。次に臭素5gを滴下し、50℃で１時
間撹拌した。反応液を40℃に降温し析出した結晶をろ別
した。得られた結晶をメタノール100mlで３回スラッジ
し、減圧乾燥した。収量は5.2gであった。
元素分析により、臭素の置換数は３個であることが判明
した。
した。
元素分析：C64H77N8O4Br3Cl2Si Ｃ Ｈ Ｎ Br Cl 理論値（％） 56.48 5.70 8.23 17.61 5.21 分析値（％） 57.03 5.81 8.35 17.00 5.40 実施例６ パラジウム テトラα−（1,3−ジメチルブチルオキ
シ）フタロシアニン2gを酢酸40mlに装入し、35℃に昇温
して溶解させた。次に塩化スルフリル2gを滴下し、50℃
で1.5時間撹拌した。反応液を35℃に降温し、析出した
結晶をろ別した。得られた結晶を水50mlで２回洗浄し、
メタノール50mlで３回スラッジし、減圧乾燥した。収量
は2.1gであった。
シ）フタロシアニン2gを酢酸40mlに装入し、35℃に昇温
して溶解させた。次に塩化スルフリル2gを滴下し、50℃
で1.5時間撹拌した。反応液を35℃に降温し、析出した
結晶をろ別した。得られた結晶を水50mlで２回洗浄し、
メタノール50mlで３回スラッジし、減圧乾燥した。収量
は2.1gであった。
元素分析により、塩素の置換数は４個であることが判明
した。
した。
元素分析：C56H60N8O4Cl4Pd Ｃ Ｈ Ｎ Cl 理論値（％） 58.11 5.23 9.68 12.25 分析値（％） 57.78 5.03 9.61 12.63 〔発明の効果〕 本発明により、アルコキシフタロシアニンにハロゲン原
子の導入量を制御して置換することが可能となった。
子の導入量を制御して置換することが可能となった。
Claims (3)
- 【請求項１】下記一般式（Ｉ） 〔式（Ｉ）中、Ｒは、置換または未置換のアルキル基を
あらわし、Metは２個の水素原子、２価の金属原子、置
換３価金属原子、２置換４価金属原子を表わす。〕で示
されるフタロシアニン化合物を酢酸中、20〜90℃でハロ
ゲン化剤と反応させることを特徴とする、下式（II） 〔式（II）中、Ｒ及びMetは式（Ｉ）と同一の意味を表
し、Ｘは、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、ｎは１≦
ｎ≦４である。〕で示されるフタロシアニン化合物の製
造方法。 - 【請求項２】酢酸の使用量が式（Ｉ）のフタロシアニン
化合物に対して10〜200重量倍である請求項１記載の製
造方法。 - 【請求項３】ハロゲン化剤の使用量が式（Ｉ）のフタロ
シアニン化合物に対して１〜６モル比である請求項２記
載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2118573A JPH0764990B2 (ja) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | フタロシアニン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2118573A JPH0764990B2 (ja) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | フタロシアニン化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0415263A JPH0415263A (ja) | 1992-01-20 |
| JPH0764990B2 true JPH0764990B2 (ja) | 1995-07-12 |
Family
ID=14739943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2118573A Expired - Lifetime JPH0764990B2 (ja) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | フタロシアニン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0764990B2 (ja) |
-
1990
- 1990-05-10 JP JP2118573A patent/JPH0764990B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0415263A (ja) | 1992-01-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0492508B1 (en) | Method for preparing alkoxyphthalocyanine | |
| CN1680380B (zh) | 制造含有卤素的酞菁化合物的方法 | |
| JPH11349588A (ja) | フタロシアニン誘導体の製造方法 | |
| JPH0749534B2 (ja) | フタロシアニン化合物の製造方法 | |
| JP2000063691A (ja) | フタロシアニン化合物およびこれを用いてなる近赤外吸収色素 | |
| JPH0749533B2 (ja) | フタロシアニン化合物の製造方法 | |
| JPH0764990B2 (ja) | フタロシアニン化合物の製造方法 | |
| JPH0749531B2 (ja) | フタロシアニン化合物の製造方法 | |
| JP2006321925A (ja) | テトラアザポルフィリン化合物の製造方法 | |
| JP4259849B2 (ja) | イミノメチル置換フタロシアニン化合物、及びこれを用いるメタロセン置換フタロシアニン化合物の製造方法 | |
| JP2698067B2 (ja) | フタロシアニン化合物及びその製造方法 | |
| JPH0331247A (ja) | フタロシアニン化合物およびその中間体 | |
| JP3964106B2 (ja) | 有機金属錯体および赤外線吸収色素 | |
| JPH0426349B2 (ja) | ||
| JP2527281B2 (ja) | アルコキシフタロシアニンの製造方法 | |
| JPH0586300A (ja) | ナフタロシアニン化合物の製造方法 | |
| JPH0730080B2 (ja) | フタロシアニン誘導体 | |
| EP0799831A1 (de) | IR-absorbierende Phthalocyanine | |
| JP4437637B2 (ja) | フタロシアニン類の製造方法 | |
| JPH11310583A (ja) | 近赤外線吸収化合物の製造方法 | |
| JPH07103318B2 (ja) | 新規フタロシアニン化合物およびその製造方法 | |
| JPH1088017A (ja) | ナフタロシアニン化合物の製造方法 | |
| JPH08225752A (ja) | 近赤外線吸収化合物およびその製造方法 | |
| JPH0753831B2 (ja) | ナフタロシアニン類の製造方法 | |
| JPH1180574A (ja) | テトラアザポルフィリン化合物及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080712 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090712 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100712 Year of fee payment: 15 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |