(湯之上 隆:技術経営コンサルタント、微細加工研究所所長) 中国がEUVの試作機を開発 ロイターは2025年12月18日、中国がEUV(Extreme Ultraviolet:極端紫外線)による露光装置の試作機を開発したと報じた(「中国の半導体版『マンハッタン計画』、最先端チップ製造へ試作機完成」)。この開発の中心には、ファーウェイの存在があるとみられている。現在、EUV露光装置の量産機を出荷しているメーカーは、オランダのASMLのみである。 同記事によれば、ファーウェイは古い世代のEUV露光装置を入手し、それをリバースエンジニアリング(製品を分解し、構造や製造方法を解析する手法)することで、独自のEUV試作機を製造したという。その過程では、元ASMLの技術者を高年俸で雇用していたとも伝えられている。 7nm以降の先端ロジック半導体の製造には、現在ではEUV露光装置の適用が不可欠となってい