「Process Inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a refrigerator easy to assemble, and having high serviceability so that an inspection and repairing in a manufacturing process and a test in service and the inspection can be easily performed.例文帳に追加

組立が容易であるとともに、製造工程における点検や修理・サービス，点検における検査なども容易に行うことができるようにサービス性の高い冷蔵庫を提供する。 - 特許庁

To provide a surface inspection device for performing stable inspection with respect to fluctuations, such as fluttering or skews, caused during feed process, even if high-speed feed devices are combined.例文帳に追加

高速な搬送装置と組み合わせても、その搬送過程で生じるバタツキやスキューといった変動に対して安定した検査を行う表面検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an inspection method for an electronic equipment capable of recording operation condition information without depending on visual observation, even when a communication cable is not connected to the electronic equipment, in an inspection process for the electronic equipment.例文帳に追加

電子機器の検査工程において、電子機器に通信ケーブルを接続しなくとも、目視に依らず動作状態情報の記録が可能である電子機器の検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask for inspection of an exposure apparatus, with which the state of an optical system in an exposure apparatus can be measured, and to provide a method for manufacturing a mask for inspection of an exposure apparatus with an efficient manufacturing process.例文帳に追加

露光装置の光学系の状態を測定可能な露光装置検査用マスク、及び製造プロセスを効率化させた露光装置検査用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical inspection apparatus capable of identifying a defect of optical characteristics, removing foreign matters from a panel surface during an inspection process, and supplying power to a panel being inspected.例文帳に追加

光学特徴の欠陥を識別でき、かつ検査工程においてパネル表面の異物を除去でき、また検査中のパネルに電力が供給できる光学検査装置を提供すること。 - 特許庁

Then, in the reassembling process, a shutter speed inspection is executed as the actuation inspection of lens and shutter units, so that the function of the driving system of the film unit with the lens is inspected altother.例文帳に追加

また、再組立工程において、レンズ・シャッタユニットの作動検査としてのシャッタ速度検査を行うことによって、レンズ付きフィルムユニットの駆動系の機能を一括して検査する。 - 特許庁

To provide a control method and its device for products after cutting process which can reduce works of operators and to improve inspection jobs when the products become suspense products by inspection.例文帳に追加

検査によって製品が保留品となったときの作業者の手間を軽減できて、検査の際の作業効率を向上できる切断加工後の製品の管理方法及びその装置を得る。 - 特許庁

Then, an inspection facilities relevant to spoken voice input from a microphone 7a is identified by voice identification process based on voice data corresponding to narrowed down inspection facilities.例文帳に追加

そして、マイク７ａから入力された発話音声に該当する検査設備が、絞り込まれた検査設備に対応する音声データに基づいて音声認識処理されて特定される。 - 特許庁

When the order of the inspection product Q is a divisor of the order (1) and the loop is repeated as many times as the safe variable (s), inspection success is outputted and the process is ended.例文帳に追加

検査積Ｑの位数が位数ｑの約数であり、且つ、安全変数ｓの回数だけループを繰り返していれば、検査合格の旨を出力して処理を終了する。 - 特許庁

Loss time data are calculated thereafter based on the generated original data, inspection time data and index time data (53), and inspection process data are generated using the calculated data, and stored (54).例文帳に追加

次に、生成された原始データと検査時間データ及びインデックス時間データに基づいて損失時間データを算出し（５３）、算出されたデータを検査工程データを生成し格納する（５４）。 - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection apparatus for inspecting defective discharge of an ink solution due to a surplus discharge or an insufficient discharge, in an ink-jet process for manufacturing a color filter.例文帳に追加

インクジェット方式のカラーフィルタ製造工程における、インク液の吐出過剰や吐出不足による吐出不良を検査する検査方法及び検査装置の提供である。 - 特許庁

To provide a charged particle beam application inspection device and an inspection method capable of realizing a charge control technology having more excellent uniformity than hitherto, and having excellent inspection accuracy and length measurement accuracy, concerning the inspection method and the device using the charged particle beam for defect inspection at an optional part on an unfinished semiconductor wafer in a semiconductor device manufacturing process.例文帳に追加

半導体装置製造過程での未完成な半導体ウェハ上の任意の部分における欠陥検査のための、荷電粒子ビームを使用した検査方法および装置に関し、従来よりも均一性に優れた帯電制御技術を実現し、検査精度、測長精度に優れた荷電粒子線応用検査装置、検査方法を提供する。 - 特許庁

The inspection method of the semiconductor wafer includes a process of preparing the wafer with a chip region formed which will become a semiconductor chip, a first probe inspection to inspect the wafer by probing, a process of pressing an electrode of the wafer by a pressurization member having a flat plane, and a second probe inspection to inspect the wafer by probing.例文帳に追加

半導体ウェハの検査方法は、 半導体チップとなるチップ領域が形成されたウェハを準備する工程と、 前記ウェハをプロービングによって検査する第１プローブ検査と、 平坦面を有する加圧部材によって、前記ウェハの電極を押圧する工程と、 前記ウェハをプロービングによって検査する第２プローブ検査と、を含む。 - 特許庁

In a secondary discrimination process, light having a specific wavelength is irradiated toward the inspection object 1, while conveying the inspection object 1 passing through the primary discrimination process, and existence of a failure is discriminated again relative to the inspection object 1 on which the ink 2 is visualized by receiving irradiation of the light having the specific wavelength.例文帳に追加

二次判別工程では、一次判別工程を経た検査対象物１を搬送しながらこの検査対象物１へ向けて特定波長の光を照射するとともに、特定波長の光を照射を受けて上記インク２が可視化している検査対象物１について、不良の有無を再度判別する。 - 特許庁

Facility identification information D1 for specifying a facility wherein production lots are processed in a plurality of processes, and characteristic inspection information D2 showing an inspection result of each the production lot obtained in a characteristic inspection process after completion of the process are associated and are set as a unit processing information U.例文帳に追加

各製造ロット毎に、複数の工程でそれぞれその製造ロットが処理を受けた設備を特定する設備識別情報Ｄ１と、それらの工程終了後の特性検査工程で得られたその製造ロットの検査結果を表す特性検査情報Ｄ２とを関連付けて単位加工情報Ｕとする。 - 特許庁

In the product inspection process S300, the optical property of the light diffusion plate molded by the product molding process is measured using the inspection device, and the optical property of the light diffusion plate is evaluated on the basis of the measurement result and the evaluation criterion.例文帳に追加

製品検査工程Ｓ３００では、製品成形工程により成形された光拡散板の光学特性を前記検査装置を用いて測定し、その測定結果および前記評価基準に基づいて、光拡散板の光学特性を評価する。 - 特許庁

To provide a laminated chip package having a structure that facilitates an inspection process for contact resistance and enables the inspection process to be efficiently carried out, to provide a semiconductor substrate for manufacturing the laminated chip package, and to provide a method of manufacturing the laminated chip package.例文帳に追加

接触抵抗の検査工程を簡略化し、検査工程を効率的に行える構造を備えた積層チップパッケージおよびその積層チップパッケージを製造するための半導体基板並びに積層チップパッケージの製造方法を提供する。 - 特許庁

The discoloration inspection apparatus comprises an illuminating means 1 for applying white light to a workpiece 7, an image pickup means 2 consisting of a color television, a determining process part 3 consisting of a computer, an output part 4 consisting of a CRT outputting the result of an inspection process, and the like.例文帳に追加

ワーク７に白色光を照射する照明手段１、カラーテレビからなる撮像手段２、コンピュータからなる判定処理部３、検査処理結果を出力するＣＲＴなどからなる出力部４などから変色検査装置を構成する。 - 特許庁

A pressing load is loaded onto the plurality of portions of the surface of a side opposite to the wafer side of a pressing component, when a plurality of probes provided in a thin film are pressed, using the pressing component in a probe inspection process and/or a burn-in inspection process.例文帳に追加

プローブ検査工程および／またはバーンイン検査工程において、押圧部材を用いて薄膜に設けられた複数のプローブをウェーハに押圧する時には押圧部材のウェーハ側とは反対側の面の複数の箇所に押圧荷重を負荷させる。 - 特許庁

A test lot P is selected from a batch A which finished a process 2, an epitaxial growth process and the test lot P is subjected to a process 3 to a final inspection process precedent to other lots of the batch A, and a finished product of a semiconductor laser device is manufactured.例文帳に追加

エピタキシャル成長工程である工程２を終えたバッチＡから、先行ロットＰを選択し、この先行ロットＰを、バッチＡの他のロットに先行して工程３から最終検査工程までを進ませて、半導体レーザ装置の完成品を製作する。 - 特許庁

To provide a reflection type mask blank and a reflection type mask for EUV exposure, and a method of manufacturing the same enabling defect inspection without removing a hard mask layer in a process inspection after the etching of an absorbing material layer and also enabling easier defect repair without any complicated process even if a black defect is found in the process inspection.例文帳に追加

本発明は、吸収体層のエッチング後の工程検査で、ハードマスク層を除去することなく欠陥検査することを可能にし、さらに、この工程検査で黒欠陥が見つかった場合でも、複雑な工程を要することなく、容易に欠陥修正が可能なＥＵＶ露光用の反射型マスクブランクス、反射型マスク、およびその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The maintenance method for the heat exchange plates of the plate-type heat exchanger includesan inspection process by using a leak tester for inspecting the existence of a penetration defect generated by damage in the heat exchange plates of the plate-type heat exchanger by using the leak tester; and the flaw inspection process for pinpointing the penetration defect, when the penetration defect is found by the inspection process using the leak tester.例文帳に追加

リークテスターを使用してプレート式熱交換器の熱交換板に損傷により生じた貫通欠陥部の有無を検査するリークテスター検査工程と、上記リークテスター検査工程により貫通欠陥部が発見された場合に、貫通欠陥部を特定する探傷検査工程とを有することを特徴とするプレート式熱交換器の熱交換板のメンテナンス方法。 - 特許庁

A change instruction part 15 judges whether or not an inspection result shown by inspection information stored in an inspection information storage part 12 satisfies predetermined judgment conditions for judging the necessity of the change of an observation process which should be selected as an observation object.例文帳に追加

変更指示部１５は、検査情報記憶部１２によって記憶される検査情報が示す検査結果が、観測対象にすべき観測工程の変更要否を判定するための予め定める判定条件を満たしているか否かを判定する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer having a rewiring structure in which burn-in inspection can be carried out collectively under wafer state including a semiconductor chip judged rejective in electrical characteristics inspection, and to provide its production process and inspection method.例文帳に追加

再配線構造を有する半導体ウェハを、電気特性検査にて不良と判定された半導体チップを含むウェハ状態で一括してバーンイン検査を行うことのできる半導体ウェハとその製造方法ならびに検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an analytical inspection device capable of reducing the possibility of generating contamination between inspections of samples, and free from the requirement of securing a proper alignment of an illumination source and/or a detecting optics with the sample under inspection, during an inspection process.例文帳に追加

試料の検査と検査の間に汚染が生じる可能性が低く、照明源及び／又は検出用オプティクスの被検下にある試料との適正なアライメントを保証することが、検査プロセス中に要求されない分析検査デバイスを提供する。 - 特許庁

In the inspection process, it is easily and inexpensively understood that the depth of the non-through hole 21 is within an allowable range Tt if the transmission light exists only at the first inspection section and there is no transmission light at the second inspection section C2.例文帳に追加

そして、検査工程では、第一検査部Ｃ１にだけ透過光があって第二検査部Ｃ２には透過光がないことを確認すれば、非貫通孔２１の深さが許容範囲Ｔｔに収まっていることが容易かつ安価に分かる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device including an inspection process which relaxes the limitations of probe contact in probe inspection so that each chips of the semiconductor devices being in a state as a wafer can be suitably functionalized and integrated and can obtain an efficient inspection.例文帳に追加

ウェハ状態の半導体装置の各チップの高機能化、高集積化に適合できるように、プローブ検査時の針立ての制約を緩和し、かつ効率的な検査を実現できる検査工程を含む半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this correction process, inspection windows are set based on the inspection data in the bare-board image, the image in an inspection window W4 which is to serve as the standard for other windows to refer to is threshold processed, and then lands 35 in the binary image are sensed.例文帳に追加

この修正処理では、ベアボードの画像上に前記検査データに基づく検査用ウィンドウを設定した後、他のウィンドウの設定基準となる検査用ウィンドウＷ４内の画像を２値化し、この２値画像上のランド３５を検出する。 - 特許庁

This alarm 1 detecting abnormality generation in a monitoring area to issue an alarm has: an inspection switch 5 operated for starting up prescribed inspection operation in the alarm 1; and an inspection processing part for performing a prescribed process for executing the inspection operation and prescribed operation except the inspection operation according to a method of operation when the inspection switch 5 is operated.例文帳に追加

監視領域における異常発生を検出して警報を行う警報器１であって、当該警報器１における所定の点検動作を起動するために操作される点検スイッチ５と、この点検スイッチ５が操作された場合、当該操作の方法に応じて、点検動作と、当該点検動作以外の所定の動作とを実行するための所定の処理を行う点検処理部とを備える。 - 特許庁

Then, the film forming process is inspected by the film inspection part 215 on the basis of the evaluation score of the substrate and the separation degree.例文帳に追加

そして、工程検査部２１５により、基板の評価点および乖離度に基づいて膜形成工程の検査が行われる。 - 特許庁

When the repair is required in the inspection process, a repair number (repair ID) is written in addition to the product ID.例文帳に追加

そして、検査工程で、修理が必要となった場合は、上記製品ＩＤに加えて修理番号（修理ＩＤ）が書き込まれる。 - 特許庁

To reduce cost of a product by performing inspection of the defect in a pixel in the process of manufacture, in a light emission device.例文帳に追加

発光装置において、画素における不良の検査を作製工程の途中で行うことで、製品の低コスト化を図る。 - 特許庁

To perform a highly accurate factor analysis of fault occurrence even in a production process where a sufficient number of sets of inspection data can not be obtained.例文帳に追加

検査データ数を十分に得られない生産工程の場合でも高精度な不良発生の要因分析を行う。 - 特許庁

To rapidly improve the inspection accuracy when defective appearance is inspected in a manufacturing process of a PTP sheet.例文帳に追加

ＰＴＰシートの製造過程における外観不良を検査するに際し、検査精度の飛躍的な向上を図ることを可能とする。 - 特許庁

To provide a method of surface inspection for inspecting the surface of an inspecting object by a simple process in a short time.例文帳に追加

単純な手順で短時間に検査対象物の表面を検査することができる表面検査方法を提供する。 - 特許庁

To detect defects on a wafer in situ during a manufacturing process without providing a particle irradiation means or the like exclusive for inspection.例文帳に追加

ウエハ上の欠陥等を検査専用の粒子照射手段等を設けることなく製造プロセス中にインサイチュで検出する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit and an inspection method for properly and easily performing debugging in a manufacturing process or the like.例文帳に追加

本発明は、製作過程等におけるデバッグを適切かつ容易に行う半導体集積回路及び検査方法に関する。 - 特許庁

To obtain an inspection method in which surface defects of a metal band conveyed on a production line containing a hot rolling process is detected with high accuracy.例文帳に追加

熱間圧延工程を含む製造ライン上を搬送される金属帯の表面欠陥を高い精度で検出する。 - 特許庁

An inspection map is prepared by performing a defect detection process 32 to the surface of the substrate, and a data base 34a is provided.例文帳に追加

基板表面に対して欠陥検出プロセス３２を行って検査マップを製作し、またデータベース３４ａを提供する。 - 特許庁

To perform an open loop test of a PLL circuit and a closed loop test including a lock-up time in the same inspection process.例文帳に追加

ＰＬＬ回路の開ループテストおよびロックアップタイムを含めた閉ループテストを同一の検査工程で実施できるようにすること。 - 特許庁

To manufacture a standard sample used in the calibration or inspection of a scanning probe microscope in a short time by a simple process.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡の校正または点検に用いる標準試料を簡単な工程により短時間で製作する。 - 特許庁

Thereby, time to perform reticle inspection, reticle cleaning, etc. in a light exposure process can be made after the fact.例文帳に追加

これにより、露光工程においてレチクル検査やレチクル洗浄等を実施するための期間を事後的に創出することができる。 - 特許庁

To provide a testing process of a semiconductor device capable of confirming degradation of the semiconductor device after inspection.例文帳に追加

本発明は検査後の半導体装置の劣化を確認できる半導体装置の試験方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Image data obtained by imaging the reproduced model defect by an imaging means of the inspection device are acquired in an image processing process.例文帳に追加

撮像工程において、再現されたモデル欠陥を検査装置の撮像手段によって撮像した撮像データを取得する。 - 特許庁

To find out a temporarily emphasized part formed during a transfer and development simulation process of the image of an inspection object sample.例文帳に追加

検査対象試料の画像の転写・現像シミュレーション処理の過程で生じる一時的な強調部分を見出すこと。 - 特許庁