Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
To establish a mass production technology of a zinc oxide film by an electrolytic deposition method, which is a technology for lowering cost, and provide a method for forming the zinc oxide film, which reduces an amount of the film deposited on the back face and is superior in performance and adhesiveness to the substrate.例文帳に追加
低コスト化技術である酸化亜鉛膜の電解析出法による量産化技術を確立し、裏面への膜付着量を低減した高性能かつ基板密着性に優れた酸化亜鉛膜の形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate for a magnetic recording medium suitable for vertical magnetic recording which obviates the degradation in productivity and does not give rise to a problem of corrosion of a ground surface film even if an existing deposition apparatus is used as well as a magnetic recording medium and magnetic recorder using the same.例文帳に追加
既存の成膜装置を用いても生産性が低下せず、また下地膜の腐食の問題が生じない垂直磁気記録に適した磁気記録媒体用基板、ならびにそれを用いた磁気記録媒体および磁気記録装置を提供する。 - 特許庁
A recording track T1 formed by vapor deposition of a spiral magnetic body is formed on the front face of a magnetic recording medium, and a recording track T0 which is spiral in the same direction as the recording track T1 on the front face is formed on the rear face as shown by a dotted line.例文帳に追加
磁気記録媒体は、渦巻状の磁性体を蒸着した記録トラックT_1 と、裏面にも点線で示すように表面方向から見て表面の記録トラックT_1と同一方向で渦巻状とされた記録トラックT_0 が形成されている。 - 特許庁
The method includes a step of, flowing a plurality of reaction gases consisting of SiH4, N2, NH3 and N2O in identical point of time without the bypass of SiH4 gas, and a step of carrying out a vapor deposition of a PE-SiON film material by turning on the HF-RF power in the chamber.例文帳に追加
SiH_4ガスのバイパスなしにSiH_4、N_2、NH_3、N_2Oの複数の反応ガスを同一時点でチャンバ内にフローさせる段階と、前記チャンバにHF−RFパワーをターンオンさせてPE−SiON膜質蒸着をなす段階と、を含む。 - 特許庁
To provide a semiconductor manufacturing apparatus which utilizes plasma and is adaptable to plasma etching, physical or chemical vapor deposition, photoresist stripping and the like to be used for semiconductor wafers, flat-panel displays, printed circuit boards, and a variety of thin-film work processes.例文帳に追加
半導体ウェーハ、平板画面、印刷回路基板及び多様な薄膜加工工程で使用されるプラズマエッチングと物理的または化学的蒸気蒸着法、フォトレジストストリッピング等に適用されるプラズマを利用した半導体製造装置を提供する 。 - 特許庁
To provide conditions to form a high-performance stain proof layer having durability being at a practically sufficient level for producing a fluorine-containing organic silicon compound so as to mainly impart a stain-proof function in a dry process such as vapor deposition.例文帳に追加
蒸着等の乾式プロセスで主に防汚機能を付加するフッ素含有有機ケイ素化合物を形成する場合に、実用上満足できるレベルの耐久性を持つ高性能の防汚層を形成するための条件を提供する。 - 特許庁
To provide a coating device capable of suppressing the film deposition rate on a small diameter tool without impairing the cleaning effect and performing the simultaneous treatment with a large diameter tool in a small diameter tool requesting a thin film small in difference between the dimensions before and after the coating.例文帳に追加
コーティング前寸法と後寸法の差が小さい薄膜が要求される小径工具において、クリーニングの効果を損なうことなく、小径工具への成膜速度を抑制し、大径工具との同時処理を可能とするコーティング装置を提供。 - 特許庁
To provide a film deposition method where power by the fed high frequency power can be sufficiently consumed at a plasma side, thus a dense silicon nitride film having reduced N-H bonds and having high gas barrier properties can be formed, and to provide a gas barrier film.例文帳に追加
供給した高周波電力によるパワーを十分にプラズマ側で消費することができ、これによりN−H結合が少なく、緻密でガスバリア性の高い窒化珪素膜を成膜する成膜方法およびガスバリアフィルムを提供する。 - 特許庁
The deposition amount of the toner on a printing medium is specified to 0.1 mg/cm^2 to 0.4 mg/cm^2 at the image density ID of 1.4 by controlling the concentration of a pigment 83 in the toner 81 to 10 wt.% to 20 wt.%.例文帳に追加
トナー81中の顔料83の濃度を10重量%以上20重量%以下にすることで、画像濃度IDが1.4となる場合の印字媒体上の付着量が0.1mg/cm^2以上0.4mg/cm^2以下とする。 - 特許庁
The film forming method using the atomic layer deposition (ALD) method is characterized in that a liquid raw material composed of an organic metal compound is directly jetted into a film forming chamber 2 holding a substrate W therein by a liquid raw material jetting valve 41.例文帳に追加
原子層成長(ALD)法を用いた成膜方法であって、基板Wを内部に保持する成膜室2内に、有機金属化合物からなる液体原料を液体原料噴射弁41により直接噴射することを特徴とする。 - 特許庁
By performing reduction of an oxide film of a surface of the target material 8 and removing deposition film attached to a wall and a member of the vacuum chamber with the active species, oxygen amount during sputter film depositing is reduced and the high quality silicon thin film is formed.例文帳に追加
この活性種を用いて、ターゲット材料8表面の酸化膜の還元や真空チャンバ壁及び部材についた堆積膜の除去を行うことで、スパッタ成膜中の酸素量を低減させ、高品質なシリコン薄膜を形成する。 - 特許庁
To provide a method for forming an oxide superconductive film, which forms a thick oxide-superconductive film with high superconducting characteristics by improving a film-forming rate, in the method for forming the oxide superconductive film with the use of a laser vapor-deposition process.例文帳に追加
レーザー蒸着法を用いる酸化物超電導膜の成膜方法において、成膜速度を向上させて、高超電導特性の酸化物超電導膜の厚膜を成膜できる酸化物超電導膜の成膜方法の提供を課題とする。 - 特許庁
In a step of forming the intermediate electrode 40, (a) a first metal film 41 is formed above the ferroelectric film 30 by sputtering method, and (b) a second metal film 46 is formed above the first metal film 41 by vacuum deposition method.例文帳に追加
中間電極40の形成工程で、(a)強誘電体膜30の上方に、スパッタ法によって第1の金属膜41を形成し、(b)第1の金属膜41の上方に、蒸着法によって第2の金属膜46を形成する。 - 特許庁
To provide a dielectric barrier discharge lamp device, a dielectric barrier discharge lamp lighting device using the same and a ultraviolet irradiation device that can suppress the deposition of ion into a irradiated matter without causing the increase of irradiation non-uniform for the irradiated matter.例文帳に追加
被照射物に対する照射むらの増大を来すことなく、被照射物へのイオン付着を抑制できる誘電体バリヤ放電ランプ装置、これを用いた誘電体バリヤ放電ランプ点灯装置および紫外線照射装置を提供すること。 - 特許庁
The invention refers to a copy protection paper which is constructed by overlaying a printing undercoat layer 50 having printability quality on top of an aluminum vapor deposition sheet 30 which vapor deposits aluminum on a PET film 10 and wavy lines 51 are formed in printing on the printing undercoat layer 50.例文帳に追加
PETフィルム10にアルミニウムを蒸着してなるアルミ蒸着シート30に、印刷適性を有する印刷下地層50を重ね合わせてなるコピー防止用紙であって、印刷下地層50には波線51が印刷により形成されている。 - 特許庁
To provide a case for evaporation diffusion process for reducing generation of deposition between an R-T-B system sintered magnet and a support, and a method for manufacturing the R-T-B system sintered magnet using the case for evaporation diffusion process.例文帳に追加
R−T−B系焼結磁石と支持体との溶着の発生を減少させる蒸着拡散処理用ケース及びその蒸着拡散処置用ケースを用いたR−T−B系焼結磁石の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The magnesium oxide sintered compact for deposition obtained by forming and baking magnesium oxide powder particles contains 10-1,000 ppm Al, 10-1,000 ppm Ca, 10-500 ppm Fe, 1-200 ppm Cr, 1-100 ppm Mn and 1-100 ppm V and has a relative density of 90.0% or more.例文帳に追加
酸化マグネシウム粉末粒子を成形焼成した酸化マグネシウム焼結体であって、前記焼結体が、Alを10〜1000ppm、Caを10〜1000ppm、Feを10〜500ppm、Crを1〜200ppm、Mnを1〜100ppm、Vを1〜100ppmの範囲で含み、相対密度が90.0%以上である蒸着材用酸化マグネシウム焼結体である。 - 特許庁
By using the apparatus 2, when the liquid surface 7a of the tank liquid 7 is changed by means of the liquid surface changing means 4, the tank liquid 7 is brought into contact with the contact member 8 and the deposition 9 is deposited on the contact member 8 in the sludge storage tank 3.例文帳に追加
この装置2によれば、汚泥貯留槽3において、液面変動手段4により槽内液7の液面7aが変動されると、槽内液7が接触部材8に接触し、接触部材8に付着物9が堆積する。 - 特許庁
There is provided a method and system for controlled thermal injury of human superficial tissue based on the ability to controllably create thermal lesions of variable shape, size, and depth via precise spatial and temporal control of acoustic energy deposition.例文帳に追加
音響エネルギー付与の精密な空間的および時間的制御を介して様々な形態、大きさ、および深度の熱損傷を制御可能に生じさせる能力に基づく、ヒト表面組織の制御された熱傷のための方法およびシステム。 - 特許庁
From the image of the position of a rise in the pushing resistance, the cause for the rise is determined to be carbon deposition, wall damage, the property of the fed coal, or the state of carbonization, and whether or not the oven wall requires repair is judged.例文帳に追加
押出抵抗の上昇位置の映像から押出抵抗の上昇原因をカーボン付着、炉壁損傷、装入炭の性状あるいは乾留状況のいずれに起因するものであるかを決定し、炉壁補修の要否を判定する。 - 特許庁
To provide a supercharging pressure variable turbocharger inhibiting deposition of foreign matter in clearances between rotary shafts of nozzle vanes and inner peripheral walls of support holes supporting the rotary shafts and satisfactorily maintaining a supercharging pressure varying function of the turbocharger for a long time.例文帳に追加
ノズルベーンの回動軸とこれを支持する支持孔の内周壁との隙間に異物が堆積するのを抑制し、ターボチャージャの過給圧変更機能を長期間に亘って良好に維持することの可能な過給圧可変式ターボチャージャを提供する。 - 特許庁
To provide ink for inkjet in which the deposition and solidification of a coloring material are hardly caused even when the ink is left for a long period and which is excellent in not only stability of the ink, but also intermittent-delivery stability in diversified environment such as low temperature-low humidity environment and high-temperature and high-humidity environment.例文帳に追加
インクを長期間放置しても色材の析出や固化が起こりにくくインクの安定性に優れ、しかも、低温低湿及び高温低湿などの多様な環境での間欠吐出安定性にも優れたインクジェット用インクの提供。 - 特許庁
The method for manufacturing the catalyst for synthesizing isobutylene includes a process of chemical gas phase vapor deposition of at least one kind of element selected from the group consisting of tin, germanium, indium, gallium and lead on MFI structure zeolite containing platinum.例文帳に追加
白金を含有するMFI構造ゼオライトに対して、スズ、ゲルマニウム、インジウム、ガリウムおよび鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を化学気相蒸着させる工程を含む前記イソブチレン合成用触媒の製造方法。 - 特許庁
To provide a method for producing laurolactam from cyclododecanone oxime by a Beckmann rearrangement reaction using a catalyst in a nonpolar solvent, where deposition of the catalyst, a catalyst decomposition product or the like is not caused.例文帳に追加
非極性溶媒中でシクロドデカノンオキシムからラウロラクタムを触媒を用いてベックマン転位反応により製造する方法において、触媒や触媒分解物などの析出が起こらないラウロラクタムの製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
The method for restoring or regenerating the article comprises a step of utilizing the first cathode 104 to deposit a layer of the first deposition material onto the residual substrate and a subsequent step of utilizing the second cathode to apply the environmental coating.例文帳に追加
物品を修復又は再生する方法は、残存基板上に第一の堆積材料の層を堆積させるために第一の陰極104を利用する段階と、その後、環境皮膜を付与するために第二の陰極を利用する段階と含む。 - 特許庁
An electrically conductive material such as copper is alloyed with a dopant such as phosphorus, boron, indium, tin, beryllium or their combination to improve the uniformity of the deposition of the doped layer onto the surface of the substrate and also to reduce the oxidation of the electrically conductive material.例文帳に追加
銅のような導電性材料を、燐、ホウ素、インジウム、錫、ベリリウムまたはそれらの組合せのようなドーパントと合金にし、基板表面上へのドープ済みの層の堆積均一性を改善し、且つ導電性材料の酸化を減少させる。 - 特許庁
In the method of depositing the gas barrier film, when a silicon nitride film is formed on a substrate as a gas barrier layer using capacitively coupled chemical vapor deposition, silane gas and ammonia gas are used as a gas material, and nitrogen gas is used as a discharge gas.例文帳に追加
本発明のガスバリア膜の成膜方法は、容量結合型CVD法を用いて窒化シリコン膜を基板にガスバリア膜として成膜するに際し、原料ガスとして、シランガスおよびアンモニアガスを用い、放電ガスとして、窒素ガスを用いる。 - 特許庁
To provide a group IV metal precursor having excellent volatility and thermal properties and chemical stability to hydrolysis, and suitable for the chemical vapor deposition for a multicomponent metal oxide thin film containing a group IV metal such as titanium in particular.例文帳に追加
優秀な揮発性と熱的特性を示し、加水分解に対する化学的安定性が卓越して特にチタニウムのようなIV族金属を含む多成分系金属酸化物薄膜の蒸着に適するIV族金属前駆体を提供する。 - 特許庁
To provide an oxygen gas barrier molding by imparting to the synthetic resin molding, oxygen gas barrier performance comparable to the silica film by the vapor deposition in the low temperature treatment and the short time processing, without using an expensive vacuum device by using a silazane compound.例文帳に追加
シラザン化合物を用いることで高価な真空装置を使用せず、低温処理ができ且つ短時間の処理で、蒸着法によるシリカ膜に匹敵する酸素ガスバリア性能を、合成樹脂成形体に付与させた酸素ガスバリア成形体を提供する。 - 特許庁
The aqueous dispersion gives a laminated film which has good oxygen barrier property and high adhesivity to polyolefin-based materials by coating on the vapor deposition layer surface of a plastic film on a substrate.例文帳に追加
この水性分散液は、基材上にセラミックの蒸着層を有するプラスチックフィルムの蒸着層面にコーティングされることによって、酸素バリア性に優れると共に、ポリオレフィン系の材料に対して優れた接着性を有する積層フィルムとなる。 - 特許庁
In the thin film deposition method, the dew point of an atmosphere coming to contact with an alkali metal, an inorganic solid electrolyte or their raw materials is controlled to -40°C.例文帳に追加
リチウム金属薄膜または無機固体電解質薄膜積を製造する方法が提供され、該方法は、薄膜製造工程においてアルカリ金属または無機固体電解質もしくはその原料と接触する雰囲気の露点を−40℃とすることを特徴とする。 - 特許庁
A method of manufacturing a silicon thin film comprises the steps of arranging a substrate 1 in a chamber 10, and forming a silicon thin film on the substrate 1 by performing ion beam deposition under a condition of 250°C or less temperature.例文帳に追加
本発明のシリコン薄膜の製造方法は、基板1をチャンバ10内に配置するステップと、イオンビーム蒸着を250℃以下の温度条件で行うことによって前記基板1上にシリコン薄膜を形成するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁
The gas barrier laminate comprises a polyamide film formed by a vapor depositing synthetic method and the gas barrier thin film made of the metal or the metal compound formed by a physical vapor deposition method, sequentially formed on a resin film base.例文帳に追加
樹脂フィルム基材上に、蒸着合成法によりポリアミド膜が、物理蒸着法により金属又は金属化合物からなるガスバリア性薄膜が、順次形成されてなることを特徴とするガスバリア性積層体を提供するものである。 - 特許庁
This electrode material of a lithium secondary battery is characterized in that a carbon fiber prepared by a vapor phase deposition method with multiple carbon network layers each forming a bottomless cup shape stacked and with the end faces of the carbon network layers exposed.例文帳に追加
本発明に係るリチウム二次電池の電極材では、底の無いカップ形状をなす炭素網層が多数積層した、気相成長法による炭素繊維であって、炭素網層の端面が露出している炭素繊維からなることを特徴とする。 - 特許庁
To provide an electrolyte that has superior performance, which is proper in reversible deposition and dissolution of lithium, and is especially excellent in ionic conductivity, charge and discharge characteristics and electric chemical stability, being useful for a lithium secondary cell, and the lithium secondary cell.例文帳に追加
リチウムの可逆的析出溶解が良好で電解質としての性能に優れ、特にイオン伝導性や充放電特性、電気化学安定性に優れるリチウム二次電池に有用な電解質、更にはリチウム二次電池を提供すること。 - 特許庁
To provide a pretreatment agent of electroless metal plating, which has excellent removing performance relative to catalyst residue and prevents a bridge phenomena caused by the electroless plating deposition from occurring between patterns, and to provide a method for manufacturing a circuit substrate using the same.例文帳に追加
触媒残渣に対する除去性能に優れるため、パターン間の無電解メッキの析出によるブリッジ現象を防止することができる、無電解金属メッキの前処理剤およびこれを用いた回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The first single crystal semiconductor layer is epitaxially grown to form a second single crystal semiconductor layer with the plasma chemical vapor deposition method using the silane system gas and hydrogen of 50 times or more in the flow rate ratio for the silane system gas as the raw material gas.例文帳に追加
シラン系ガスとシラン系ガスに対して流量比で50倍以上の水素とを原料ガスとして、プラズマ化学気相成長法により第1単結晶半導体層をエピタキシャル成長させて第2単結晶半導体層を形成する。 - 特許庁
By moving the target material at the prescribed patterns while invariably maintaining the optical path of the laser beam, the plume 228 having fixed properties is stably generated with high reproducibility, and uniform film deposition is made possible.例文帳に追加
本発明によれば、レーザビームの光学的経路を不変に維持しつつ、ターゲット材料を所定のパターンで動かすことで、一定の性質を有するプルーム228を再現性良く安定的に発生させ、均質な成膜を行うことが可能になる。 - 特許庁
Copper deposition is electrodeposited by immersing a substrate into an electrodeposition bath having a copper ion concentration between 0.5 mmol l^-1 and 50 mmol l^-1 and an acid concentration between 0.05% and 10% per volume of the electrodeposition bath.例文帳に追加
0.5mmol・l^−1と50mmol・l^−1との間に含まれる銅イオン濃度と、電着浴の体積あたり0.05%と10%との間に含まれる酸濃度とを有する電着浴中に基板を浸責し、銅の堆積物を電着する。 - 特許庁
To realize a ferroelectric capacitor including a strontium bismuth tantalate film having high remnant polarization density even with a thickness of 100 nm or thinner by the MOCVD (Metalorganic Chemical Vapor Deposition) method, especially the ferroelectric capacitor having a three-dimensional structure.例文帳に追加
MOCVD法により、100nm以下の膜厚においても高い残留分極密度を有するタンタル酸ストロンチウムビスマス膜を備えた強誘電体キャパシタ、特に立体的な構造を有する強誘電体キャパシタを実現できるようにする。 - 特許庁
To provide a field-emission electron source and a manufacturing method of its carbon nanotube, that can reduce work function on the nanotube surface and increase emission current, by causing vapor-deposition of lithium on the carbon nanotube and using it as a cathode.例文帳に追加
カーボンナノチューブにリチウムを蒸着させ陰極として用いることにより、ナノチューブ表面の仕事関数を下げ、放出電流の増大を図ることができる電界放出型電子源及びそのカーボンナノチューブの製造方法を提供する。 - 特許庁
The flexible substrate 11 consists of polymeric material such as polyimide or polyethylene terephthalate, and the layer 13 which consists of vinylidene fluoride (VDF) oligomer is provided, and up and down side of the VDF oligomer layer 13, the flexible electrodes 12 and 14 formed by Al deposition membranes are provided.例文帳に追加
ポリイミドやポリエチレンテレフタラート等の高分子材料から成る可撓性のある基板11とフッ化ビニリデン(VDF)オリゴマーから成る層13を設け、VDFオリゴマー層13の上下にAlの蒸着膜等から成る可撓性のある電極12及び14を設ける。 - 特許庁
According to the procedure, the silicon carbide semiconductor device having an ohmic electrode providing a satisfactory contact with interconnections with a deposition of carbon atom on the surface layer of electrodes and the formation of the Schottky contact by the Si and the SiC suppressed can be acquired.例文帳に追加
以上により、電極の表面層への炭素原子の析出や、SiとSiCとによるショットキー接触の形成が抑制された、配線との良好な密着性を示すオーミック電極を有する炭化珪素半導体装置を得ることができる。 - 特許庁
To provide a cylinder injection and spark ignition type internal combustion engine capable of accurately calculating a fuel deposition amount in a combustion chamber and correcting a fuel injection amount irrespective of differences of fuel injection and ignition timing in the same operation mode.例文帳に追加
同一運転モードでの燃料噴射および点火タイミングの相違に関わらず、燃焼室内での燃料付着量を正確に算出して燃料噴射量を補正できる筒内噴射型火花点火式内燃機関を提供する。 - 特許庁
To provide a method for dissolving or disrupting pre-formed or pre-deposited amyloid fibrils and/or inhibiting amyloid formation, deposition, accumulation, or persistence in Alzheimer's disease, prion diseases and/or other amyloidoses in a mammalian subject.例文帳に追加
哺乳類被検体中のアルツハイマー病、プリオン病、及び/又は他のアミロイド症における前形成した又は前沈着したアミロイド線維を溶解し又は破壊し、並びに/又はアミロイド形成、沈着、蓄積、又は残留を阻害する方法が開示される。 - 特許庁
When the oxide single crystal is langasite, the initial crystal zone of langasite approaches the stoichiometric composition of langasite by applying a magnetic field or an electric field to promote deposition of the initial crystal of langasite, and thereby, crystallization of langasite can be easily performed.例文帳に追加
酸化物単結晶がランガサイトである場合、磁場や電場を印加すると、ランガサイトの初晶域がランガサイトの化学量論組成に近づき、ランガサイトの初晶が析出するのが促進されるので、ランガサイトの結晶化を容易に行うことが可能となる。 - 特許庁
The method for manufacturing a photomask material includes processes of producing plasma delivering powder containing silicon dioxide to the plasma to produce silica particles and depositing the silica particles on the deposition face to form the quartz glass.例文帳に追加
石英ガラスの作成方法において:プラズマを発生させ;二酸化ケイ素を含有する粉末をプラズマに送り込んで、シリカ粒子をつくり、前記シリカ粒子を堆積面に堆積させて、ガラスを形成する;各工程を含むフォトマスク材を製造する方法。 - 特許庁
To provide a method of preparing a bisphenol A having a satisfactory quality usable for manufacturing a high quality polycarbonate resin, from a bisphenol A inferior in quality which is precipitated by acid deposition from a reaction waste water, in the manufacture of a polycarbonate resin.例文帳に追加
ポリカーボネート樹脂の製造における反応排水中から酸析によって沈殿させた品質に劣るビスフェノールAから、高品質のポリカーボネート樹脂の製造に使用できるような十分満足のいく品質のビスフェノールAを得る方法を提供する。 - 特許庁
By forming an electric field in an electrolyte layer consisting of an electrolytic solution containing metal ions at least, a predetermined image is displayed through a deposition process in which the metal ions in the electrolyte layer are deposited as polygon metal particles.例文帳に追加
少なくとも金属イオンを含む電解液からなる電解液層に電界を形成することにより、前記電解液層中の前記金属イオンを多角形金属粒子として析出させる析出工程を経て所定の画像を表示する。 - 特許庁
To provide a method for washing an electroless gold-plating tank without using a cyanogen-containing alkaline gold-syneresis liquid, whereby loss of gold due to deposition on the electroless gold-plating tank is reduced and continuous electroless gold plating treatment can be repeated.例文帳に追加
シアンを含有したアルカリ性金剥離液を使用することなく、無電解金めっき槽への金析出ロスを低減し、繰り返し連続処理可能な無電解金めっき処理を行うことが可能な無電解金めっき槽の洗浄方法を提供する。 - 特許庁
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