「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(281ページ目) - Weblio英語例文検索

A shield for the cathode clips to improve the uniformity of the deposition formed on the flexible substrate and a seal to allow the transportation of the lower clips into and out of the electroplating cell while reducing leakage of fluid from the cell are also provided.例文帳に追加

基体に形成されるデポジションの均一性を向上させる、カソードクリップに関するシールド、及び電気めっきセル内又は外への下側クリップの移動を許容するとともに、セルから漏れる流体を減少させるシールもまた開示される。 - 特許庁

In the radiation image conversion panel which has a phosphor layer made by a gas phase deposition method, the phosphor layer consists of a lower layer which has a spherical crystal structure and an upper layer which has a columnar crystal structure.例文帳に追加

気相堆積法により形成された蛍光体層を有する放射線像変換パネルにおいて、該蛍光体層が、球状結晶構造を有する下層と柱状結晶構造を有する上層とから構成されている放射線像変換パネル。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a nonmagnetic Co-Cr alloy thin film having hexagonal close-packed(hcp) structure by which an tough (10.0) texture can be spontaneously induced by adding a specified element even in the case of vapor deposition onto an amorphous substrate.例文帳に追加

六方最密（ｈｃｐ）構造を有する非磁性ＣｏＣｒ系合金薄膜において、特定の元素を添加することにより非晶質基板上に蒸着させる時においても自発的に強い（１０．０）集合組織を誘導する製造方法。 - 特許庁

A vapor deposition film formed on the inside wall of a neck part 10 prevents local increase in potential in the inside wall of the neck part 10 and in an insulating support body 6 because of secondary electron emission avalanche suppressing effect, so that electrical discharge inside the neck part 10 is prevented.例文帳に追加

ネック部１０の内壁に形成された蒸着膜は、２次電子放出なだれ抑制効果により、ネック部１０の内壁および絶縁支持体６の部分的な電位上昇を阻止し、ネック部１０内における放電を防止する。 - 特許庁

The clamper 5 includes a fixing piece 6 and a movable piece 7 and has a roughened surface layer 8 for enhancing a friction force with respect to the vapor deposition mask 1 formed on at least one side of a gripping part with the thermal spray of a material having high hardness such as tungsten carbide.例文帳に追加

クランパー５は、固定片６と可動片７からなり、少なくとも一方の把持部には、蒸着マスク１に対する摩擦力を向上させるための粗面層８が、タングステンカーバイドなどの高硬度な材質の溶射によって形成される。 - 特許庁

To enable prevention of damage due to MAP (magnesium ammonium phosphate) scale deposition in a digestion tank or a digested sludge transfer pipe, and improvement of phosphorus recovery rate in the subsequent phosphorus recovery process by controlling a pH value during digestion treatment.例文帳に追加

消化処理におけるｐＨ値を制御することによって、消化槽あるいは消化汚泥移送管のＭＡＰスケール析出による被害をこうむることなく、また、後段のりん回収工程におけるりん回収率を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a deposition-preventive cover which is high in the adhesion to an unnecessary deposit within a substance generation apparatus and facilitates maintenance, the substance generation apparatus which generates a uniform and homogeneous product of high purity and a uniform and homogeneous treated object of high purity.例文帳に追加

物質生成装置内の不要な堆積物との密着性が高くメンテナンスの容易な防着カバー、高純度で均一且つ均質な生成物を生成する物質生成装置、及び高純度で均一且つ均質な被処理物を提供する。 - 特許庁

To obtain an additive for cement which reduces deposition of a cement composition onto a bucket, a hopper, or the like used for transport at application of the cement composition, improves workability of the cement composition and reduces industrial wastes such as washing waste water and sludge.例文帳に追加

セメント組成物の施工時の移送に用いるバケットやホッパー等への付着分を低下させ、セメント組成物の作業性を向上させるとともに産業廃棄物である洗浄廃水やスラッジを低減するセメント用添加剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a printing ink containing a resin component with its glass transition point limited within a predetermined range, thus ensuring print pattern coating film to be prevented from dust deposition after its drying and enabling the electrical conductivity of electrodes using the ink to be kept well after baking the print pattern coating film.例文帳に追加

樹脂成分のガラス転移点を所定の範囲内に限定することにより、印刷パターンの塗膜の乾燥後にゴミが付着するのを防止し、これにより印刷パターンの塗膜の焼成後の電極の導電性を良好に保つ。 - 特許庁

The mask body is positioned with respect to the component such that the body is configured to reduce deposition of a coating to a portion of the component adjacent the extension during application of the coating to at least a portion of the extension.例文帳に追加

マスク本体は、延出部の少なくとも一部に被膜を施す間に、マスク本体が延出部に隣接する構成部材の一部に被膜が堆積するのを容易に低減するように構成されるように、構成部材に対して位置付けられている。 - 特許庁

Ta is deposited on a crystal face of an n-type silicon carbide epitaxial film, in which an inclined angle from a (000-1) C face is in a range of 0-10°, so as to form the Schottky electrode by executing heat treatment to it in a temperature range of 300-1,200°C after the deposition.例文帳に追加

（０００−１）Ｃ面からの傾斜角が０°〜１０°の範囲にあるｎ型の炭化珪素エピタキシャル膜の結晶面にＴａを堆積した後、３００℃〜１２００℃の温度範囲で熱処理することによりショットキー電極を形成する。 - 特許庁

In the film deposition method, a vacuum tank 11, a hollow cathode type electron gun 20, and a plurality of hearths 31, 31 ... to store metallic materials M1, M2, ... are assembled to each other, and the metallic materials M1, M2, ... are simultaneously evaporated by successively applying the anode voltage to each hearth 31.例文帳に追加

真空槽１１と、ホローカソード形の電子銃２０と、金属材料Ｍ1 、Ｍ2 …を収納する複数のハース３１、３１…とを組み合わせ、各ハース３１に陽極電圧を順次印加して金属材料Ｍ1 、Ｍ2 …を同時に蒸発させる。 - 特許庁

The resistance and the transmittance of the first transparent film substrate 6 and the second transparent film substrate 9 are measured, and the evaporation quantity of a vapor deposition raw material 22 and the quantity of gaseous oxygen to be fed from a first oxygen nozzle 18 and a second oxygen nozzle 19 are controlled.例文帳に追加

第１の透明フィルム基板６及び第２の透明フィルム基板９の抵抗値と透過率を測定し、蒸着原料２２の蒸発量、第１酸素ノズル１８および第２酸素ノズル１９から供給する酸素ガス量を制御する。 - 特許庁

The vacuum deposition apparatus uses two or more evaporation sources, and further, correspondingly to the two or more evaporation sources, to a substrate held by a substrate holder, has hot walls in which at least the lower edge parts are located at the outside of the evaporation source.例文帳に追加

複数の蒸発源を用いると共に、この蒸発源の２以上に対応して、基板ホルダに保持された基板に対して、少なくとも下端部が前記蒸発源よりも外側に位置するホットウォールを有することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

In the surface treatment, a thin film may be formed on the surface by a sputtering or chemical vapor deposition method(CVD method) or a fine roughness may be formed on the surface by a wet etching method or a wet etching method after the thin film is formed.例文帳に追加

この表面処理はスパッタリングまたは化学蒸着法（ＣＶＤ法）によって表面に薄膜を形成しても良いし、表面に湿式エッチングまたは上記の薄膜形成後の湿式エッチングの方法で微細な粗さを形成しても良い。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition apparatus which can prevent magnetic fluid seals installed on the rotary shaft 6 of a substrate rotator 2 from being heated, thereby preventing vacuum leakage of a vacuum chamber without impairing airtightness of the magnetic fluid seals.例文帳に追加

基板回転装置２の回転軸６に設けられる磁性流体シールが加熱されることを防ぎ、該磁性流体シールの気密性を損なうことなく、真空チャンバの真空漏れを防止することができる真空成膜装置を提供することである。 - 特許庁

To provide an observatory apparatus having a camera to observe the condition of a target inside a vacuum container in a hot vacuum vapor deposition apparatus which is also applicable to the large vacuum container, capable of continuously operating for a long time by reducing the leakage of vapor.例文帳に追加

高温真空蒸着装置における真空容器内部のターゲットの状態を観測するカメラを備えた観測装置において、大型の真空容器に対しても適用可能で、かつ、蒸気漏洩を低減し長時間連続運転を可能とする。 - 特許庁

To provide a printed matter with metallic feeling in which a laminate comprising a metal foil or a metal deposition layer of aluminum or the like has metallic feeling and further high design property which is excellent in design, as a material for a soft package or the like.例文帳に追加

軟包装等の材料として、アルミニウム等の金属箔あるいは金属蒸着層を含む構成の積層体にメタリック感を生かしさらにデザイン的に優れた意匠性の高いメタリック感のある印刷物を提供することにある。 - 特許庁

To provide the structure of a flexible optical disk in which a recording film is deposited by a vacuum process, capable of suppressing the temperature increase of a film surface as much as possible while securing necessary rigidity during recording film deposition, and its manufacturing method.例文帳に追加

真空プロセスで記録膜を形成するフレキシブル光ディスクについて、必要な剛性を確保しつつ、記録膜成膜中のフィルム表面の温度上昇を可及的に抑制できる光ディスクの構造及びその製造方法を工夫すること。 - 特許庁

When the processing transits to step S17 as a result of decision processing of steps S10-S16 in the routine of ink deposition suppression processing, a CPU drives an elevator to release sealing of the nozzle forming face in a recording head by a cap.例文帳に追加

そして、ＣＰＵは、インク堆積抑制処理ルーチンのうちステップＳ１０〜Ｓ１６までの判定処理の結果、その処理がステップＳ１７に移行した場合に、昇降装置を駆動させてキャップによる記録ヘッドのノズル形成面の封止を解除する。 - 特許庁

A collector metal thin film 10, an emitter metal thin film 11 and a base metal thin film 12 formed by a deposition method or a plating method, and thin plate lead terminals 4, 5, 6 stuck on these metal thin plates are provided on an insulation layer 3.例文帳に追加

絶縁層３上に蒸着法又はメッキ法により形成したコレクタ用メタル薄膜１０、エミッタ用メタル薄膜１１およびベース用メタル薄膜１２と、これら各メタル薄膜に貼り付けた薄板のリード端子４，５，６とを備えたものである。 - 特許庁

To provide an electrochemical display device which can reduce the electric power consumption required for display in a display element of an electric deposition type and can shorten the time required for display and a driving method for the same.例文帳に追加

電気析出型の表示素子において、表示に要する消費電力を小さくすることが可能であり、表示に要する時間を短縮することが可能な電気化学表示装置およびその駆動方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a liquid level detector for vehicles for preventing a decrease in liquid level detection precision by avoiding the adhesion and deposition of foreign matters in a liquid to the surface of a reflection wall for obstructing a decrease in reflection efficiency in ultrasonic waves on the reflection wall.例文帳に追加

反射壁表面への液体中の異物の付着、堆積を抑制し反射壁における超音波の反射効率の低下を阻止して、液面検出精度の低下を防止可能な車両用液面検出装置を提供する。 - 特許庁

To secure measuring precision for a heating resistor type air flow measuring instrument, to reduce a characteristic variation caused by deposition of dust, in particular, to restrain the characteristic variation to the minimum even in case of a nano-particle size of soot (carbon).例文帳に追加

発熱抵抗体式空気流量測定装置の計測精度の確保と塵付着による特性変化量の低減が目的であり、特にナノ粒子径の煤（カーボン）に対しても特性変化量を最小限に抑える事を目的とする。 - 特許庁

To provide a linear guide device of such a type that a cage is longer than a slider and rolling elements are not circulated, wherein the rolling elements can be stably held in the cage by preventing the deposition of foreign matters such as dust on the rolling elements in parts of the cage deviating from the slider.例文帳に追加

保持器がスライダより長く、転動体が循環しないタイプのリニアガイド装置において、保持器のスライダから外れた部分で、転動体にゴミなどの異物が付着することを防止し、転動体が保持器に安定的に保持されるようにする。 - 特許庁

To provide a method for extending the life of a quartz oscillator used for a quartz-type thickness tester, in a thin-film-forming apparatus which employs the thickness tester to control a film thickness and a deposition rate, and to enable continuous film-forming over a long time.例文帳に追加

水晶式膜厚計により膜厚制御および成膜速度制御を行う薄膜形成装置において、この膜厚計に用いられる水晶振動子を長寿命化する方法を提供し、長時間にわたる連続成膜を可能にする。 - 特許庁

To provide a method for processing a photosensitive lithographic printing plate and to provide a developer solution for a photosensitive lithographic printing plate so as to decrease sludge accumulating in a developing tank in long-term processing and to decrease the workload of cleaning and deposition of dirt on a plate material.例文帳に追加

長期間処理をした場合に現像槽にたまるスラッジヘドロを低減し清掃作業の負担、版材の汚れ付着を減らす感光性平版印刷版の処理方法及び感光性平版印刷版の現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a pressure sensor capable of preventing blocking of a pressure introduction hole of the pressure sensor caused by deposition of dust by EGR gas, soot dust by exhaust gas or the like on the periphery of the pressure introduction hole entrance of the pressure sensor.例文帳に追加

ＥＧＲガスによる煤塵，排気ガスによる煤塵等が圧力センサの圧力導入孔入り口付近に堆積することによって、圧力センサの圧力導入孔が塞がれることを防止した圧力センサを提供することにある。 - 特許庁

The method of refining copper includes a temperature control step of controlling the temperature of slag (70) in a blast furnace for producing mat (60) and the slag (70) to be 20-40°C higher than the deposition temperature of magnetite in the slag (70).例文帳に追加

銅の製錬方法は、マット（６０）およびスラグ（７０）を生成するための溶鉱炉において、スラグ（７０）の温度を、スラグ（７０）におけるマグネタイト析出温度よりも２０℃〜４０℃高く制御する温度制御工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

As an uniform deposition, the thickness of the liquid-deposited layer of the component elements of the compound can be controlled from 70% to 130% for the mean thickness, and the mean thickness of the liquid-deposited layer can be controlled from 1.0 nm to 100 nm.例文帳に追加

均一な付着としては、化合物の構成元素からなる液体の付着層の厚さがその平均厚さに対して７０％〜１３０％の範囲内とすることができ、付着層の平均厚さは１．０ｎｍ〜１００μｍとすることができる。 - 特許庁

The compound semiconductor crystal growing device 40 is provided with a planetary type substrate rotating mechanism and forms the compound semiconductor layer on a substrate W held by means of a susceptor 52 which is rotated by means of the rotating mechanism by vapor growth or vapor deposition.例文帳に追加

本化合物半導体結晶成長装置４０は、プラネタリー型の基板回転機構を備え、基板回転機構によって回転するサセプタ５２に保持された基板Ｗ上に化合物半導体層を気相成長又は蒸着させる。 - 特許庁

To provide a semiconductor processing apparatus and a diagnostic method for the semiconductor processing apparatus capable of diagnosing a defect of reassembling of a process chamber after wet cleaning or a state of the process chamber such as deposition of reaction products and shaved components.例文帳に追加

ウエットクリーニング後の処理室再組み立ての不都合、あるいは反応生成物の堆積、部品の削れ等の処理室の状況を診断することのできる半導体処理装置及び半導体処理装置の診断方法を提供する。 - 特許庁

When the laser beam machining is performed on the glass substrate conveyed from the film deposition apparatus, the glass substrate is subjected to an alignment treatment, and thereafter, the glass substrate is held at both sides along the conveying direction and moved while being air-lifted.例文帳に追加

これらの成膜装置から搬送されてくるガラス基板に対してレーザ加工を行なう場合、ガラス基板に対してアライメント処理を行い、その後にガラス基板を搬送方向に沿った両辺で保持してエア浮上させながら移動させている。 - 特許庁

A method of forming the conductive thin film on a semiconductor having either p-type or n-type conductivity, in which an intense plasma irradiation is performed when starting deposition onto the semiconductor, can also be employed.例文帳に追加

また、p型またはn型の導電型を有する半導体上に導電性薄膜を形成する方法において、半導体上への成膜開始時点に、強度にプラズマ照射を行うことを特徴とする導電性薄膜の形成方法も採用できる。 - 特許庁

To provide a continuous electrolytic plating apparatus and a continuous electrolytic plating method in which the occurrence of projection in a metal layer is suppressed in the deposition of the metal layer on a long substrate such as resin film with a metal thin film by continuous electrolytic plating.例文帳に追加

金属薄膜付樹脂フィルムなどの長尺基板上に連続電解めっきにより金属層を成膜する際に、金属層での突起の発生を抑制することができる連続電解めっき装置及び連続電解めっき方法を提供する。 - 特許庁

A substrate W is stored inside a treatment vessel 1, film deposition raw material comprising cobalt amidinate or nickel amidinate and a reducing agent comprising carboxylic acid are introduced in a gaseous phase state into the treatment vessel state so as to deposit a Co film or an Ni film on the substrate.例文帳に追加

処理容器１内に基板Ｗを収容し、処理容器内にコバルトアミジネートまたはニッケルアミジネートを含む成膜原料とカルボン酸を含む還元剤とを気相状態で導入して、基板上にＣｏ膜またはＮｉ膜を成膜する。 - 特許庁

An organic EL element substrate 10 includes a substrate 11 on which a first electrode layer 14 is formed, an organic EL coating layer 21 formed on the first electrode layer 14, and an organic EL vapor deposition layer 25 formed on the organic EL coating layer 21.例文帳に追加

有機ＥＬ素子基板１０は、第１電極層１４が形成された基板１１と、第１電極層１４上に設けられた有機ＥＬ塗布層２１と、有機ＥＬ塗布層２１上に設けられた有機ＥＬ蒸着層２５とを備えている。 - 特許庁

In the method for manufacturing the hard carbon film, when depositing the hard carbon film containing the metal element and nitrogen, the deposition condition is controlled using a processing method such as an ion-plating method, a sputtering method, a plasma processing method and an ion implanting method.例文帳に追加

金属元素及び窒素を含有した硬質炭素膜を形成する際に、イオンプレーティング法、スパッタリング法、プラズマ処理及びイオン注入処理等の処理方法を利用し、形成条件を制御する硬質炭素膜の製造方法である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrostatic latent image developing carrier by which the electric resistance of a carrier coating layer can be suppressed low, an effect to prevent an edge effect and carrier deposition is imparted and deterioration in color characteristics such as turbidity of colors is prevented, and to provide a carrier manufactured by the method.例文帳に追加

キャリア被覆層の電気抵抗を低く抑え、エッジ効果およびキャリア付着に対する防止作用を備え、色の濁りなど色特性の劣化がない、静電潜像現像剤用キャリアの製造方法およびそのキャリアを提供する。 - 特許庁

The light transparent planar body 10 consists of parallel flat plates and the diaphragm pattern layers 20 and 30 consist of thin films formed on both surfaces 11 and 12 of the light transparent planar body 10 by deposition or printing from a gaseous phase or liquid phase.例文帳に追加

光透過性板状体１０は、平行平板からなり、絞りパターン層２０，３０は、気相もしくは液相からの堆積または印刷により光透過性板状体１０の両面１１，１２上に形成された薄膜からなる。 - 特許庁

To provide a white polyester film for a liquid crystal reflector, the film superior in preventing production of burrs or deposition of dust in a punching process in handling properties, when the film is prepared as sheets, and in preventing precipitation of oligomers, and to provide a surface light source that uses the film.例文帳に追加

本発明は、打ち抜き加工時のバリ発生や埃の付着防止、枚葉にしたときの取り扱い性、オリゴマー析出防止性などに優れた液晶反射板用白色ポリエステルフィルムおよびそれを用いた面光源を提供するものである。 - 特許庁

To reduce the cost of deposition by decreasing the time of formation for corrosion-resistant films from two times in convention to one time, and to attain a high yield of a product by eliminating a defect such as a pin hole caused at working a quartz crystal with a hydrofluoric acid etching liquid.例文帳に追加

耐食性膜の形成回数を従来の２回から１回にして成膜コストの削減を図り、水晶をフッ化水素酸系のエッチング液で加工する際に生じるピンホールなどの欠陥を無くし製品の高歩留まりを達成する。 - 特許庁

To maintain improved appearance and cleanness by suppressing the deposition of rubbish or the like at the step between the surface of a touch panel at a display part and that of a body case when a liquid display and the touch panel are used for the display part.例文帳に追加

表示部に液晶表示器とタッチパネルとを用いた電子秤において、上記表示部におけるタッチパネルの表面と本体ケースの表面との間の段差へのごみ等の堆積を抑制し、良好な美観と清潔さとが維持されるようにする。 - 特許庁

In a film deposition chamber capable of controlling pressure- reduced atmosphere, a silicon dioxide film is deposited on a glass sheet or a resin sheet while irradiating an evaporation material of silicon with arc discharge plasma to evaporate silicon and allowing the resultant silicon vapor to react with oxygen.例文帳に追加

ガラス板または樹脂板上の二酸化珪素膜を、減圧された雰囲気が調整できる成膜室内で、シリコンの蒸着材料にアーク放電プラズマを照射し、これによりシリコンを蒸発させ酸素と反応させながら成膜する。 - 特許庁

The metal vapor deposition composite sheet is constituted by bonding the thermoplastic film and the nonwoven fabric through an adhesive and a metal layer is formed on the surface on the side opposite to the bonding surface with the nonwoven fabric of the film.例文帳に追加

本発明の複合シートは、熱可塑性フィルムと不織布とが接着剤を介することなく接着されてなり、該フィルムの不織布との接着面に対して反対側の表面に金属層が形成されていることを特徴とするものである。 - 特許庁