「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(313ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of producing a fluorocarbon film where film deposition is possible even in a part at which the wall face can not be viewed from an inlet, and a fluorocarbon film obtained by the method has resistance to chemicals used for producing a semiconductor device, heat resistance and excellent mechanical strengths as well, and to provide an industrial material using the same.例文帳に追加

壁面が入口から目視できない部分においても成膜可能であり、この方法によって得られたフロロカーボン被膜は、半導体装置の製造に用いられる薬品に対する耐性や耐熱性や機械的強度も優れているフロロカーボン被膜の製造方法とそれを用いた工業材料とを提供すること。 - 特許庁

To provide a hydrogenated amorphous carbon film which has a low aggressiveness against mating materials due to its low surface roughness, has a high hardness, is excellent in wear resistance, can be formed by a CVD method which offers a higher productivity and an excellent film deposition as compared to a conventional PVD method and is therefore capable of realizing a low cost.例文帳に追加

低面粗度による低い相手攻撃性を有するばかりでなく、高硬度を有し、さらに、優れた耐磨耗性を有するとともに、従来のＰＶＤ法よりも生産性が高く、膜の着き回り性に優れるＣＶＤ法によって製造できるため、低コストを実現できる水素化アモルファスカーボン膜の提供。 - 特許庁

To provide a composite material uniform even in a local region, reduced in the content of an impurity component other than a metal seed being a target component, continuously reduced in flaw from its surface including a different kind of a metal interface to its bottom surface and particularly suitable as a target material of dry process vapor deposition, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

局所領域でも均一であって、目的成分とする金属種以外の不純物成分が少なく、異種金属界面を含む表面から底面まで連続して欠陥の少ない複合材、特にドライプロセス蒸着のターゲット材として好適な複合材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This film deposition system 1 has a mixing tank 30 for mixing gaseous TEOS(tetraethyl orthosilicate) with gaseous O2 and a shower plate 60 for introducing the gaseous mixture mixed in the mixing tank 30 into a vacuum chamber 2, and an end connection 61 of a gas flow passage 42 of the mixing tank 30 is directly connected to a through hole 50 of an electrode 3.例文帳に追加

本発明の成膜装置１は、ＴＥＯＳガスとＯ_2ガスとを混合するミキシングタンク３０と、ミキシングタンク３０で混合されたガスを真空槽２内にガスを導入するシャワープレート６０とを有しており、ミキシングタンク３０の気体流路４２の接続口６１と、電極３の貫通孔５０とが直結されている。 - 特許庁

To provide an electrodeposition vessel and electrodeposition apparatus capable of suppressing the generation of powder and film pieces, etc., in an electrodeposition bath and uniformly forming evenly oxidized films free from the occurrence of unevenness by preventing the deposition of oxides in a piping system connected to the electrodeposition vessel and the piping system arranged within the electrodeposition vessel at the time of forming the oxidized films on a substrate.例文帳に追加

基板上に酸化膜を作成するに際し、電析槽に繋がる配管系や、電析槽内に配置された配管系に酸化物が堆積するのを防止して、浴中に粉や膜片等が発生するのを抑制でき、ムラの発生しない一様な酸化膜を均一に作成できる電析槽、および電析装置を提供する。 - 特許庁

The antifouling coating agent is capable of preventing the deposition of water scales, especially drip streaks produced by the water scales, on an applied surface of the outdoor objects, easily removing the deposited water scales, especially the drip streaks produced by the water scales and imparting a corrosion resistance to the applied surface of the outdoor objects.例文帳に追加

本発明の屋外設置物用防汚コーティング剤は、屋外設置物の塗装面に対する水垢、特に水垢のタレ筋の付着を防止することができ、かつ、付着した水垢、特に水垢のタレ筋を容易に除去することができ、しかも、屋外設置物の塗装面に防錆性を付与することができる。 - 特許庁

An electronic control device 20 estimates a change in the tumble ratio by a change with the lapse of time of the deposition of the intake air deposit on the basis of a change in the combustion gas temperature detected by an exhaust temperature sensor 21, and delayably corrects the fuel injection timing in stratified combustion operation when the estimated tumble ratio increases.例文帳に追加

電子制御装置２０は、排気温度センサ２１によって検出される燃焼ガス温度の変化に基づいて、吸気デポジットの堆積等の経時変化によるタンブル比の変化を推定し、その推定されたタンブル比が増大したときに、成層燃焼運転時の燃料噴射時期を遅角補正する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method for forming an atom layer by using a group IV metal precursor which employs N-alkoxy-β-keto iminate for a ligand of a group IV metal and has high reactivity with a reacting gas, along with having thermal-chemical stability in a carrier gas atmosphere, and can be easily removed of the ligand from the metal.例文帳に追加

Ｎ−アルコキシ−β−ケトイミネートをＩＶ族金属の配位子として適用し、移送気体雰囲気中で熱的−化学的安定性を有すると共に反応気体との反応性が大きくて金属からの配位子の除去が容易なＩＶ族金属前駆体を用いた原子層蒸着法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method for the radiological image transformation panel, a stimulable phosphor layer with a film thickness of 50 μm or more is formed on a support by a vapor phase deposition method and treated by heating.例文帳に追加

支持体上に、膜厚５０μｍ以上の輝尽性蛍光体層を気相堆積法により形成し、加熱処理する放射線画像変換パネルの製造方法において、加熱処理前後の輝尽性蛍光体の輝尽発光波長における透過率が０．５≦Ｔ／Ｔ_0≦１０であることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 - 特許庁

Deposition of the quinolone-based compound on contacting with the lachrymal liquid by administration of the eye lotion is inhibited by adding at least one species selected from water-soluble vinyl polymer compounds and water-soluble cellulose derivatives to the eye lotion containing the quinolone-based antibacterial compound as an effective ingredient.例文帳に追加

キノロン系抗菌化合物を有効成分として含有する点眼液に、水溶性ビニル系高分子化合物および水溶性セルロース誘導体から選ばれる少なくとも一種を配合すれば、点眼液を投与して涙液と接触したときでもキノロン系抗菌化合物の析出を抑制することができる。 - 特許庁

A porous layer 12 is made by anodizing a silicon substrate 11 to form a porous layer's pores sealing layer 13 (a porous layer 12 and a sealing layer 13 become a strain-induced porous layer) by deposition of silicon-germanium, introduction of a gas, solid, or liquid containing germanium, and spreading of germanium and sealing of pores.例文帳に追加

シリコン基板１１を陽極化成することによって多孔質層１２を作製し、シリコンゲルマニウムの堆積や、ゲルマニウムを含む気体、固体あるいは液体の導入，ゲルマニウムの拡散と孔封止にて多孔質層の孔封止層１３（孔多孔質層１２と封止層１３は歪み誘起多孔質層となる）を形成する。 - 特許庁

An arc ion plating apparatus comprises a vacuum chamber 1, a rotary table 2 for moving a substrate within the vacuum chamber vertically relative to its height direction, an arc evaporation source 9A for bombardment for cleaning the surface of the substrate with metal ions, and a plurality of evaporation sources 7A for deposition for depositing metal ions on the surface of the substrate.例文帳に追加

真空チャンバー１と、基材を真空チャンバー内でその高さ方向に対して垂直方向に移動させる回転テーブル２と、前記基材の表面を金属イオンでクリーニングするボンバード用蒸発源９Ａと、金属イオンを前記基材の表面に成膜する複数の成膜用蒸発源７Ａを備える。 - 特許庁

To provide a post-ashing treatment solution which prevents the corrosion of metallic wiring and reliably removes residue such as a degenerated photoresist film and a metallic deposition from a substrate subjected a ashing after dry etching under severer conditions in an ultrafine patterning process and a treatment method using the solution.例文帳に追加

超微細パターン化プロセスにおけるより過酷な条件のドライエッチング、続いてアッシングが施された基板において、金属配線に対する腐食を防止し、かつホトレジスト変質膜、金属デポジション等の残渣物を確実に除去し得るアッシング後の処理液およびこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrode chip shaping device capable of reliably recovering the electric characteristic of an electrode chip degraded attributable to wear, alloy deposition or the like even when welding a body to be welded which easily forms an alloy between the electrode chip and the body while maintaining high productivity (working efficiency).例文帳に追加

生産性（作業効率）を高く維持しながら、電極チップとの間で合金を形成し易い被溶接体の溶接を行う場合であれ、磨耗や合金の付着等に起因して劣化した電極チップの電気特性を、より確実に回復させることのできる電極チップの整形装置を提供する。 - 特許庁

Deposition is performed again by a required part on the planer section of the substrate.例文帳に追加

貫通電極形成用穴の開口部を除く基板平面部にフォトレジストを形成してから成膜を行い、成膜後にフォトレジスト表面に付着した膜と共にフォトレジストを除去することで、貫通電極形成用穴内部に付着した薄膜は残したまま基板平面部を露出され、改めて基板平面部に必要分だけ成膜を行うことで課題を解決する。 - 特許庁

To suppress the deposition of foreign matter on the surface of a reticle pattern by removing chemical materials such as ammonia as materials which cause the formation of deposits from the internal space of a pellicle and to provide a pellicle which retains an accurate pattern shape and patterning precision over a long period of time.例文帳に追加

析出物形成のための原因物質であるアンモニア等の化学物質を、ペリクル内空間から除去することでレチクルパターン面に対する異物析出を抑制し、これにより、正確なパターン形状を長期にわたって維持し、長期にわたるパターニング精度維持を図ることが可能なペリクルを提供する。 - 特許庁

A glaze layer 2 being a material hardly decomposable by photocatalytic action due to photocatalyst particles is applied to the surface of a tile substrate 1 and an ultraviolet reflecting layer 8 comprising a vapor deposition aluminum powder or magnesia is formed on the glaze layer 2 and a photocatalyst layer is formed on this ultraviolet reflecting layer 8.例文帳に追加

タイル素地１の表面に光触媒粒子による光触媒機能によって分解されにくい材料である釉薬層２が形成され、この釉薬層２の上に蒸着アルミニウム粉末やマグネシア等からなる紫外線反射層８が形成され、この紫外線反射層８の上に光触媒層３が形成されている。 - 特許庁

Adding at least one non-silicon precursor (such as a germanium precursor and a carbon precursor) during formation of a silicon nitride, silicon oxide, silicon oxynitride or silicon carbide film improves the deposition rate, and/or allows properties, such as the stress, of the film to be adjusted.例文帳に追加

窒化シリコン、酸化シリコン、酸窒化シリコン、または炭化シリコン被膜の形成中、少なくとも１つの非シリコン前駆体（ゲルマニウム前駆体や炭素前駆体など）を添加することによって、堆積速度が改善され、または被膜の応力を調整するなどこの被膜の特性を調整することが可能になり、あるいはその両方が可能になる。 - 特許庁

To obtain a hetero junction bipolar transistor of high current gain, by avoiding crystalline degradation of a carbon-added InGaAs layer by thermal history in an organometallic chemical vapor deposition process, in a preparation method of a hetero junction bipolar transistor with a carbon-added InGaAs layer as a base layer.例文帳に追加

炭素添加ＩｎＧａＡｓ層をベース層として有するヘテロ接合バイポーラトランジスタの作製方法において、有機金属化学気相成長工程中の熱履歴による炭素添加ＩｎＧａＡｓ層の結晶性劣化を回避することにより、電流利得の高いヘテロ接合バイポーラトランジスタを得ること。 - 特許庁

To provide a film forming device for a plastic vessel capable of stably and continuously forming a uniform and dense thin film without causing the plastic deformation of a plastic vessel caused by radiation heat, in a film forming device for a plastic vessel in which a thin film is formed by a plasma chemical vapor phase deposition method.例文帳に追加

本発明は、プラズマ化学気相析出法により薄膜を形成するプラスチック容器の成膜装置において、ふく射熱によるプラスチック容器の塑性変形を生ずることなく、均一で緻密な薄膜を、安定して連続成膜が可能なプラスチック容器成膜装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor excellent in mechanical durability, sensitivity and oxidation resistance of the surface, suppressing an image defect caused by deposition of a discharge product, and maintaining the characteristics at a high level with time, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the photoreceptor.例文帳に追加

表面の機械的耐久性や耐酸化性に優れ、放電生成物の付着に起因する画像欠陥も抑制できると共に感度にも優れ、さらに、これらの特性を経時的に高いレベルで維持することが容易な電子写真用感光体、並びに、これを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

To prevent a lock claw from not being released by mud deposition while increasing stability in fuel piping connection work in a fuel piping structure for a vehicle which connects a fuel piping by inserting fuel piping containing a bulge part into a connector equipped with a lock claw.例文帳に追加

本発明は、ロック爪を備えるコネクタ内にバルジ部を備える燃料配管を挿入して燃料配管を接続する車両用燃料配管構造について、燃料配管接続作業の安定性を高めるとともに、泥の付着でロック爪が解除できなくなることを防止することを目的とする。 - 特許庁

A high-hardness hydrophobic porous complex with carbon fine particles uniformly dispersed is obtained by condensing dispersed liquid of FEP resin and the carbon fine particles by an electrophoretic deposition method or a phase separation method using a colloidal state of non-ion interface activator and heating it up to a temperature higher than a melting point of the FEP resin.例文帳に追加

フッ素樹脂及び炭素微粒子の分散液を、電気泳動電着法又は非イオン界面活性剤のコロイド化を利用した相分離法で濃縮し、これをフッ素樹脂の融点以上の温度に加熱することにより、炭素微粒子が均一に分散されかつ硬度の高い疎水性多孔質複合体を得る。 - 特許庁

By forming a silver-containing metal layer on a substrate by a vacuum deposition method in an atmosphere containing oxygen and hydrogen, the reflector can be obtained which has a higher reflectivity than a conventional reflector and has a reflectivity of ≥97.3% at a wavelength of 550 nm when the metal layer is used as a light incidence plane.例文帳に追加

酸素及び水素を含む雰囲気中で、真空蒸着法によって基板上に銀を含む金属層を形成することにより、金属層を光入射面としたときの反射率が従来よりも高く、波長５５０ｎｍにおいて反射率９７．３％以上である反射体を得ることができる。 - 特許庁

The phototherapy of cancers uses pigment molecule wire by Molecular Layer Deposition (MLD) or Molecular Group MLD and the increased sensitivity by the excitation of multiplex wavelengths, LP-MLD to target a living body, a Photodynamic Therapy (PDT) which can control a three-dimensional position by molecular wire and the excitation of multiplex wavelengths, and SOLNET.例文帳に追加

Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ（ＭＬＤ）または分子グループＭＬＤによる色素分子ワイヤと多波長励起による増感，生体を対象としたＬＰ−ＭＬＤ，分子ワイヤと多波長励起による３次元的位置制御可能なＰｈｏｔｏｄｙｎａｍｉｃ Ｔｈｅｒａｐｙ（ＰＤＴ），およびＳＯＬＮＥＴを用いたがんの光治療は，課題解決の有力手段となる。 - 特許庁

The method for manufacturing the inkjet head using a piezoelectric element is characterized in that after a piezoelectric material substrate 1 in which a plurality of side walls and channels 11 being paths for ink are alternately arranged side by side is plasma-treated, an electrode 6 is formed by vapor deposition without ion irradiation by an ion gun.例文帳に追加

圧電素子を使用するインクジェットヘッドの製造方法において、複数の側壁とインクの通路となるチャネル１１とが交互に並設された圧電材料基板１をプラズマ処理した後、イオン銃によるイオン照射なしに蒸着により電極６を形成することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。 - 特許庁

The antireflection film 9 on the incident side is also disposed on the incident side glass substrate 12, is prepared by the high-temperature film deposition and, therefore, a reflection loss is mostly reduced.例文帳に追加

λ／２位相差膜６は誘電体材料を斜め蒸着することで形成されているので、λ／２位相差板６への反射防止膜９は高温成膜で作製することができ、入射側の反射防止膜９も入射側ガラス基板１２に設けられるので高温成膜で作製することができるので反射ロスが殆ど低減される。 - 特許庁

A susceptor (10) used in a deposition step of depositing a semiconductor layer on a substrate (100) has, on the top thereof, a mounting surface (13) on which the substrate is to be mounted, and furthermore has a groove (12) which extends below an outer peripheral edge of the mounting surface from an outer peripheral side surface of the susceptor (10) and is vertically sandwiched between walls.例文帳に追加

サセプタ（１０）は、基板（１００）上に半導体層を成膜する成膜工程で用いられるサセプタであって、上面に、基板が載置される載置面（１３）を備え、外周側面から載置面の外周縁の下方に至るまで延在し、その上下が壁で挟まれた溝（１２）をさらに有している。 - 特許庁

The gold or gold-alloy material for thin film deposition is composed of gold of ≥4N purity and the proportion of gold exceeds 50% by mole ratio, and further, the content of volatile metallic impurities is made to ≤1 wt.ppm and the content of hydrogen and nitrogen is made to ≤1 wt.ppm, respectively, and also oxygen content is made to ≤5 wt.ppm.例文帳に追加

４Ｎ以上の純度を有する金からなり、金の比率がモル比で５０％を超えており、揮発性金属不純物の含有量が１重量ｐｐｍ以下、水素、窒素の含有量が１重量ｐｐｍ以下、及び酸素の含有量が５重量ｐｐｍ以下である薄膜形成用金又は金合金材料。 - 特許庁

A precursor thin film 102 containing a rare earth element RE, copper, and oxygen is formed by vapor deposition on a single crystal substrate 101 which is composed of a single crystal in which at least one of the in-plane lattice constant and the interplanar lattice constant is in agreement with those of the compound RE_2CuO_4 which is the object of formation within the range of ±1%.例文帳に追加

形成対象の化合物ＲＥ_2ＣｕＯ_4と、面内および面間の少なくとも１つの格子定数が±１％の範囲で一致する単結晶から構成された単結晶基板１０１の上に、希土類元素ＲＥと銅と酸素とを含んで構成された前駆体薄膜１０２を、蒸着法により形成する。 - 特許庁

In a sputtering film deposition apparatus which deposits a film while swinging a magnet 24 nearly parallel to the surface of the target 18, the film is deposited under such a condition that the ratio P/V of sputtering power density P (W/cm^2) to the average swing speed V (cm/s) of the magnet 24 is ≥0.2 (W×s/cm^3).例文帳に追加

ターゲット１８表面に略平行にマグネット２４を揺動させつつ成膜を行うスパッタリング成膜装置において、スパッタリング電力密度Ｐ（ワット／平方センチメートル）と、マグネット２４の平均揺動速度Ｖ（センチメートル／秒）の比Ｐ／Ｖが０．２（ワット・秒／立方センチメートル）以上となる条件で成膜する。 - 特許庁

To suppress metal powder generated by the abrasion, and to suppress deposition of metal powder on a sheet-like material in a sheet-like material conveying device such as a film drawing machine having a mechanism for holding both ends of a film (a sheet-like material) by clips mounted on a pair of endless chains, and moving the film by driving the endless chains.例文帳に追加

一対の無端チェーンに取り付けられたクリップでフィルム（シート状物）の両側端部を把持し、無端チェーンを駆動してフィルムを移動させる機構を有するフィルム延伸機などのシート状物搬送装置において、磨耗により生じる金属粉を抑制し、シート状物への金属粉の付着を抑制する。 - 特許庁

The forming die 1 is formed by molding a die body 2 with a sintered silicon carbide material to a prescribed shape (Figure A), forming a silicon carbide film 3 by chemical vapor deposition on the surface of the die section 2a of the die body 2 (Figure B), polishing the surface of the silicon carbide film 3 (Figure C) and using the polished surface as a forming surface 3a.例文帳に追加

成形型１は、型本体２を炭化珪素焼結材により所定形状に成形し（Ａ図）、この型本体２の型部２ａの表面に化学蒸着により炭化珪素膜３を形成し（Ｂ図）、炭化珪素膜３を表面研磨して（Ｃ図）、その研磨面を成形面３ａとなしたものである。 - 特許庁

To provide an image carrier protecting agent capable of obtaining a sufficient protection effect on the surface of an image carrier, preventing deterioration in a cleaning member, preventing a toner from passing, and preventing image blur caused by deposition of a foreign substance on the image carrier, and to provide a protective layer forming device capable of forming a satisfactory image carrier protective layer by using the above protecting agent.例文帳に追加

充分な像担持体表面の保護効果、クリーニング部材の劣化防止、トナーのすり抜け防止、及び像担持体への異物付着による画像ボケ防止を実現することができる像担持体保護剤と、その保護剤を用いて良好な像担持体保護層を形成することができる保護層形成装置を提供する。 - 特許庁

A rich spike controlling means for desorbing the NOx deposited on an NOx trap catalyst 12 by reducing the excess air ratio of the exhaust gas starts a rich spike control when the deposition amount NOx0 of the NOx deposited on the NOx trap catalyst 12 is same as or more than a rich spike execution judging threshold value NOx1.例文帳に追加

排気の空気過剰率を減じることによりＮＯｘトラップ触媒１２に堆積したＮＯｘを脱離させるリッチスパイク制御手段は、ＮＯｘトラップ触媒１２に堆積したＮＯｘの堆積量ＮＯｘ０がリッチスパイク実行判定閾値ＮＯｘ１以上となるとリッチスパイク制御を開始する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a through electrode substrate preventing deposition of metal particles in a through-hole in formation of a seed layer on the substrate with the through-hole formed and preventing generation of a void in charging of a conductive material in a method of manufacturing the through electrode substrate.例文帳に追加

本発明に係る貫通電極基板の製造方法は、貫通孔が形成された基板にシード層を形成する際に、貫通孔内部に金属粒子が堆積することを防止し、導電材を充填する際にボイドが生じることを防止する貫通電極基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the product with inorganic antireflection layer 10, 10', 10'' comprises: a polysiloxane layer forming process of forming polysiloxane layers 2, 2', 2'' by depositing a silane coupling agent on the base material 1; and an inorganic antireflection layer forming process of forming an inorganic antireflection layer 3 by the deposition onto the polysiloxane layers 2, 2', 2''.例文帳に追加

無機反射防止層付き製品１０、１０’、１０”の製造方法は、基材１上に、シランカップリング剤を蒸着してポリシロキサン層２、２’、２”を形成するポリシロキサン層形成工程と、ポリシロキサン層２、２’、２”の上に蒸着により無機反射防止層３を形成する無機反射防止層形成工程とを備える。 - 特許庁

A passivation layer is formed by using a masking deposition method with a P-CVD device and, by applying a protective layer onto local regions by using an inkjet coating method, a TFT array substrate for liquid crystal display which is super large-sized and has a wide viewing angle and ultra-high speed response can be manufactured by three times of photomask processes.例文帳に追加

パッシベーション層は、マスキングデポジッション法を用いてＰ−ＣＶＤ装置で成膜するか、インクジェット塗布法を用いて保護層を局所領域に塗布することで、３回のホトマスク工程で超大型広視野角超高速応答液晶表示用ＴＦＴアレイ基板を製造することができる。 - 特許庁

To provide a method of forming a thin film by an aerosol pyrolysis method which is a method of forming the thin film of a low manufacturing cost by a thin film forming apparatus of a simple structure capable of forming the thin film under the atmospheric pressure and which is capable of forming the thin metal oxide film of good quality having high uniformity at a high deposition rate.例文帳に追加

大気圧下で薄膜形成が可能であり、構造が簡単な薄膜形成装置による製造コストの低い薄膜形成方法であって、かつ、均一性の高い良質な金属酸化物薄膜を大きな堆積速度で形成することが可能なエアロゾル熱分解法による薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the photoelectric conversion device formed by sequentially laminating an n-type charge transfer layer, an interface layer, and a p-type charge transfer layer, the n-type charge transfer layer is formed by growing a needle crystal of zinc oxide, and the p-type charge transfer layer is formed by growing Cu_2O by electrolytic deposition.例文帳に追加

ｎ型の電荷輸送層、界面層、ｐ型の電荷輸送層を順次に積層形成した光電変換装置の製造方法であって、ｎ型の電荷輸送層は酸化亜鉛針状結晶を成長させることによって形成し、ｐ型の電荷輸送層は電着でＣｕ_2Ｏを成長させることによって形成する。 - 特許庁

Disclosed is the letterpress for pattern formation characterized in that a protective layer 205 is provided by a vacuum thin-film forming method to resin-made projection portions 201 of the letterpress 200 for pattern formation, wherein: the protective film is a mixed thin film of an organic substance and an inorganic substance; and the vacuum thin-film forming method is a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

パターン形成用凸版２００の樹脂製凸部２０１に真空薄膜形成法により保護層２０５を設けたことを特徴とするパターン形成用凸版であって、前記保護層が有機物と無機物の混合薄膜であって、前記真空薄膜形成法が、化学気相成長法であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a dye solution containing a melanin precursor and ethanol that has antiseptic properties and low risk of fretting metals even when contained in a metal container and that does not generate deposition of undesired substances during low-temperature storage, in order to distribute a melanin precursor-containing solution to the market as a commercial product, and a method for producing the same.例文帳に追加

メラニン前駆体含有溶液を商品として市場に流通させるべく、防腐性を備え、また金属製容器に収容した場合でも金属を腐食させる危険性の少なく、且つ低温保存で不要物が析出しないメラニン前駆体及びエタノールを含む染料溶液、並びにその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing a tape base material for superconducting wire rod 2 in which an orientation layer 21 is formed on a metal substrate 10 by an ion beam assisted vapor deposition method and a buffer layer 22 is formed on the orientation layer, lattice distortion of the orientation layer is alleviated by giving a prescribed thermal history to the orientation layer.例文帳に追加

金属基板上１０にイオンビームアシスト蒸着法により配向層２１を形成し、この配向層の上に緩衝層２２を形成する超電導線材用テープ基材２の製造方法において、配向層に所定の熱履歴を与えることにより配向層の格子歪みを緩和する。 - 特許庁

A signal pattern between first and second coplanar-type transmission lines (503, 513) and a ground pattern are connected to each other with the high accuracy of a μm order of the upper side (527) of a nonconductive fill for filling a gap between first and second substrate (501, 511) by printing or a vapor deposition method.例文帳に追加

第１の基板（５０１）と第２の基板（５１１）との間の空隙を充填する非導電性フィル上部（５２７）に、印刷・あるいは蒸着法を以ってμｍオーダーで精度よく第１のコプレーナ型伝送線路（５０３）と第２のコプレーナ型伝送線路（５１３）との信号パターン、及びグラウンドパターンをそれぞれ接続させる。 - 特許庁

The method for producing a ceramics coating steel comprises: a film deposition stage 11 where a thin film of titanium aluminum nitride or chromium nitride is deposited on a steel base material; and a heating treatment stage where the film-deposited steel base material is subjected to heating treatment at a high temperature at least exceeding 760°C, more preferably, at 760 to 1,060°C.例文帳に追加

セラミックス被覆鋼の製造方法は、窒化チタンアルミニウム又は窒化クロムの薄膜を鋼基材上に成膜する成膜工程１１と、成膜された鋼基材を少なくとも７６０℃を超える高温、より好ましくは７６０℃〜１０６０℃で加熱処理する加熱処理工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁